公开(公告)号：KR101367701B1

公开(公告)日：2014-02-27

申请号：KR1020110073568

申请日：2011-07-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 니시다도시히코 ,  에시마가즈요시 ,  나카야마,히사카즈

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67051 ,  F24H1/162 ,  F24H9/2028 ,  F24H2250/14 ,  H05B1/0247

Abstract: 본 발명은, 방사광의 투과에 의해 내부의 액체가 가열되는 액체 저류조 또는 도관의 온도를 감시할 수 있는 액체 가열 유닛, 이것을 포함하는 액처리 장치 및 액처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
반사광을 방사하는 램프 히터와, 상기 램프 히터를 내부 공간에 삽입 관통시킬 수 있는 원통 형상을 가지며, 상기 방사광을 투과하는 재료로 형성되는 원통 부재와, 상기 원통 부재의 외주부를 따라 배치되고, 상기 방사광에 의해 내부에 흐르는 액체를 가열하는 액체 통류부와, 상기 액체 통류부를 외측에서 덮고, 상기 방사광을 반사하는 반사판과, 상기 반사판의 외부에 부착되는 제1 온도 센서를 포함하는 액체 가열 유닛이 개시된다.

公开(公告)号：KR101705375B1

公开(公告)日：2017-02-09

申请号：KR1020100133375

申请日：2010-12-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토가즈히사 ,  에시마가즈요시

IPC: H01L21/302

Abstract: 본발명은, 복수의액체를혼합하여이루어진혼합액을이용하는액처리장치에서의혼합액의농도에관해, 큰비용을들이지않고, 보다광범위한조정을실현하는것을그 과제로한다. 본발명에따른액처리장치(10)는, 주배관(20)과, 주배관에접속된액공급기구(40)와, 주배관으로부터분기되는복수의분기관(25)과, 각분기관에접속된복수의처리유닛(50)을갖는다. 액공급기구(40)는, 주배관상에마련된혼합기(43)와, 제1 액원으로부터의제1 액을상기혼합기에공급하는제1 액공급관(41b)과, 제2 액원으로부터의제2 액을상기혼합기에공급하는제2 액공급관(42b)을갖는다. 제2 액공급관(42b)에유량조정밸브(42d)가설치되어있고, 또한상기유량조정밸브(42d)에대하여직렬적으로보조유량조정기구(42e)가설치되어있다. 혼합액의혼합비조정을위해, 유량조정밸브(42d)와보조유량조정기구(42e)가연동하여제어된다. 본발명에따른또 다른액처리장치(10')는, 주배관(20')과, 주배관에접속된액공급기구(40')와, 주배관으로부터분기되는복수의분기관(25')과, 각분기관에접속된복수의처리유닛(50')을갖는다. 액공급기구(40')는, 주배관상에마련된혼합기(43')와, 제1 액원으로부터의제1 액을상기혼합기에공급하는제1 액공급관(41b')과, 레귤레이터(42t')에의해제어된가압력에따라서제2 액탱크로부터제2 액을상기혼합기에공급하는제2 액공급관(42b')을갖는다. 제2 액공급관(42b')에, 유량조정밸브(42d')가설치되어있다. 혼합액의혼합비조정을위해, 유량조정밸브(42d')와레귤레이터(42t')가연동하여제어된다.

公开(公告)号：KR101404950B1

公开(公告)日：2014-06-09

申请号：KR1020100084153

申请日：2010-08-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 에시마가즈요시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67253 ,  H01L21/67051 ,  Y10T137/0324 ,  Y10T137/7287 ,  Y10T137/7297

Abstract: 본 발명은 처리액 보충 방법과 관련시킴으로써, 보다 효율적으로 처리액을 교환할 수 있는 것과 같은, 매엽식 기판 액 처리 장치에 있어서의 순환 라인의 액 교환 방법을 제공하는 것을 특징으로 한다.
매엽식 기판 액 처리 장치(10)로서, 처리액을 순환시키는 순환 라인(12)과, 상기 순환 라인 내에 마련된 탱크(13)와, 상기 탱크에 마련된 액면 레벨 센서(14)와, 상기 액면 레벨 센서의 출력에 따라, 상기 탱크 내에 새로운 처리액을 보충하는 액 보충부(15)와, 소정의 액 폐기 조건과 연동하여 설정되는 소정의 보충 정지 조건에 따라, 상기 액 보충부의 작동을 정지시키고, 상기 소정의 액 폐기 조건으로 상기 탱크 내의 처리액을 전부 폐기시키는 액 교환 제어부(16)를 구비한다.

公开(公告)号：KR1020110037854A

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：KR1020100093233

申请日：2010-09-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미나미다준야 ,  우에다잇세이 ,  조우노야스히로 ,  구로다오사무 ,  에시마가즈요시 ,  요시다마사히로 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  Y10S414/135

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to increase the number of a substrate to be processed in parallel by forming a solution processing block in a plurality of solution processing unit. CONSTITUTION: In a substrate processing apparatus, an FOUP(Front-Opening Unified Pod)(7) receiving a wafer in a batch block(11). A transfer block(12) draws out the wafer from the FOUP to load it into a solution process unit(1). A transport block(13) transfers the wafer to a solution processing block. The solution processing block load from the solution processing block to processes it with the solution. A lifting apparatus(134) transfer the wafer between a first transfer shelf and a second transfer shelf.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，通过在多个解决方案处理单元中形成解决处理块来并行地增加待处理的基板的数量。 构成：在衬底处理装置中，在批块（11）中接收晶片的FOUP（前开口统一荚）（7）。 转移块（12）从FOUP中取出晶片以将其装载到溶液处理单元（1）中。 输送块（13）将晶片转移到溶液处理块。 解决方案处理块从解决方案处理块中处理它与解决方案。 升降装置（134）在第一转运架和第二转运架之间转移晶片。

公开(公告)号：KR1020110097607A

公开(公告)日：2011-08-31

申请号：KR1020100133375

申请日：2010-12-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠모토가즈히사 ,  에시마가즈요시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67017 ,  B05C11/1013

Abstract: 본 발명은, 복수의 액체를 혼합하여 이루어진 혼합액을 이용하는 액처리 장치에서의 혼합액의 농도에 관해, 큰 비용을 들이지 않고, 보다 광범위한 조정을 실현하는 것을 그 과제로 한다.
본 발명에 따른 액처리 장치(10)는, 주배관(20)과, 주배관에 접속된 액공급 기구(40)와, 주배관으로부터 분기되는 복수의 분기관(25)과, 각 분기관에 접속된 복수의 처리 유닛(50)을 갖는다. 액공급 기구(40)는, 주배관 상에 마련된 혼합기(43)와, 제1 액원으로부터의 제1 액을 상기 혼합기에 공급하는 제1 액공급관(41b)과, 제2 액원으로부터의 제2 액을 상기 혼합기에 공급하는 제2 액공급관(42b)을 갖는다. 제2 액공급관(42b)에 유량 조정 밸브(42d)가 설치되어 있고, 또한 상기 유량 조정 밸브(42d)에 대하여 직렬적으로 보조 유량 조정 기구(42e)가 설치되어 있다. 혼합액의 혼합비 조정을 위해, 유량 조정 밸브(42d)와 보조 유량 조정 기구(42e)가 연동하여 제어된다.
본 발명에 따른 또 다른 액처리 장치(10')는, 주배관(20')과, 주배관에 접속된 액공급 기구(40')와, 주배관으로부터 분기되는 복수의 분기관(25')과, 각 분기관에 접속된 복수의 처리 유닛(50')을 갖는다. 액공급 기구(40')는, 주배관 상에 마련된 혼합기(43')와, 제1 액원으로부터의 제1 액을 상기 혼합기에 공급하는 제1 액공급관(41b')과, 레귤레이터(42t')에 의해 제어된 가압력에 따라서 제2 액탱크로부터 제2 액을 상기 혼합기에 공급하는 제2 액공급관(42b')을 갖는다. 제2 액공급관(42b')에, 유량 조정 밸브(42d')가 설치되어 있다. 혼합액의 혼합비 조정을 위해, 유량 조정 밸브(42d')와 레귤레이터(42t')가 연동하여 제어된다.

公开(公告)号：KR1020110065299A

公开(公告)日：2011-06-15

申请号：KR1020100084153

申请日：2010-08-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 에시마가즈요시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67253 ,  H01L21/67051 ,  Y10T137/0324 ,  Y10T137/7287 ,  Y10T137/7297

Abstract: PURPOSE: The liquid exchanging method of a circulating line in a single wafer type liquid processing apparatus is provided to suppress the amount of waste liquid by stopping the operation of a liquid supplementing part according to a pre-set supplement stopping condition. CONSTITUTION: A tank(13) is arranged in a circulating line. A liquid side level sensor(14) is arranged in the tank. A liquid supplementing part(15) supplements processing liquid into the tank according to the liquid side level sensor. A liquid exchange controlling part(16) stops the operation of the liquid supplementing part according to a pre-set supplement stopping condition. The processing liquid in the tank is scrapped according to a pre-set liquid scrapping condition.

Abstract translation: 目的：提供在单晶片型液体处理装置中的循环管线的液体交换方法，以通过根据预设的补充停止条件停止补液部件的操作来抑制废液的量。 构成：在循环管道中设置一个罐（13）。 液体侧液位传感器（14）布置在油箱中。 液体补充部件（15）根据液体侧液位传感器将处理液体补充到罐中。 液体交换控制部16根据预设的补充停止条件停止补液部的动作。 根据预设的液体报废条件，罐中的处理液体被报废。

公开(公告)号：KR1020110028220A

公开(公告)日：2011-03-17

申请号：KR1020100084393

申请日：2010-08-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 에시마가즈요시

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/3063

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67178

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus of a substrate, a method for generating processing liquid, and a computer readable recording medium storing a program for generating processing liquid are provided to generate processing liquid of a preset concentration and to supply the processing liquid to a substrate processing unit, thereby uniformly processing a substrate. CONSTITUTION: A plurality of substrate processing units(11~22) processes a substrate(2) using processing liquid. A processing liquid generating unit(24) generates processing liquid of a preset concentration by dissolving a gas in a solvent. The processing liquid generating unit comprises a solvent supply pipe(35) and a dissolution flow path(36) for supplying the solvent. The dissolution flow path dissolves the gas in the solvent supplied from the solvent supply pipe. A controller(25) controls the substrate processing units and the processing liquid generating unit.

Abstract translation: 目的：提供一种基板的液体处理装置，生成处理液的方法和存储用于产生处理液的程序的计算机可读记录介质，以产生预设浓度的处理液，并将处理液供给到基板处理 从而均匀地处理基板。 构成：多个基板处理单元（11〜22）使用处理液处理基板（2）。 处理液产生单元（24）通过将气体溶解在溶剂中来产生预设浓度的处理液。 处理液生成单元包括供给溶剂的溶剂供给管（35）和溶解流路（36）。 溶解流路溶解从溶剂供给管供给的溶剂中的气体。 控制器（25）控制衬底处理单元和处理液生成单元。

公开(公告)号：KR101578943B1

公开(公告)日：2015-12-18

申请号：KR1020100084393

申请日：2010-08-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 에시마가즈요시

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/3063

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67178

Abstract: 본발명은동시에사용하는처리액의유량에관계없이미리정해진농도의처리액을생성할수 있도록하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판을처리액으로처리하는복수의기판처리부(11∼22)와, 복수의기판처리부(11∼22) 중 1 또는 2 이상의기판처리부(11∼22)에동시에공급하는처리액으로서용매에기체를용해시킴으로써미리정해진농도의처리액을생성하는처리액생성부(24)와, 복수의기판처리부(11∼22)와처리액생성부(24)를제어하는제어부(25)를갖는기판처리장치(1), 처리액생성방법및 처리액생성프로그램을기록한기록매체(50)에있어서, 용매공급원(34)으로부터공급되는용매를기체용해기(41)를통해용매에기체를용해시키기위한용해유로(36)와용해유로(36)에병렬접속된바이패스유로(37)로분기되어흐르고, 용해유로(36)를통해흐르는용매의유량과바이패스유로(37)를통해흐르는용매의유량의비율이일정해지도록바이패스유로(37)의유로저항을변경하는것으로하였다.

公开(公告)号：KR101476870B1

公开(公告)日：2014-12-26

申请号：KR1020100093233

申请日：2010-09-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미나미다준야 ,  우에다잇세이 ,  조우노야스히로 ,  구로다오사무 ,  에시마가즈요시 ,  요시다마사히로 ,  모리타사토시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  Y10S414/135

Abstract: 본발명은, 문제가발생한경우에도, 장치전체를정지시키지않고기판처리를계속할수 있을가능성이높은기판처리장치를제공하는것을목적으로한다. 본발명에따른기판처리장치(1)는, 기판(W)을반송하기위한제1, 제2 기판반송기구(141a, 141b)와, 이기판반송기구(141a, 141b)의좌우양측에각각마련되며, 동일한처리가행해지는처리유닛의열 U1∼U4를구비한제1, 제2 처리블록(14a, 14b)을구비하고있다. 일측의처리유닛의열 U1, U3 및타측의처리유닛의열 U2, U4는각각공통화된처리유체공급계(3a, 3b)와접속되어있다. 그리고, 어떤기판반송기구(141a, 141b), 처리유체공급계(3a, 3b)에문제가발생하면, 건전한기판반송기구(141b, 141a), 처리유체공급계(3b, 3a)가담당하는처리유닛의열 U1∼U4에서기판(W)을처리한다.

Abstract translation: 本发明的目的在于提供一种基板处理装置，即使发生问题，也能够在不停止装置整体的情况下继续基板处理。 根据本发明的基板处理装置1中，分别在右侧和左侧的第一和第二衬底输送装置的侧面（141A，141B），并且是用于将基底板输送机构（141A，141B）（W） 第一和第二处理块14a和14b具有相同处理的处理单元U1至U4。 的其他U2的一侧，U3和热的处理单元，所述处理单元的热U1，U4与过程流体供给系统（3A，3B）中共同使用的分别连接。 此外，任何基板搬送机构（141A，141B）中，如果与所述处理流体供给系统的一个问题（3A，3B）时，音板输送机构（141B，141A），所述处理流体供应系统（图3b，3a）的接合处理单元 衬底W在行U1至U4中被处理。

公开(公告)号：KR101204641B1

公开(公告)日：2012-11-23

申请号：KR1020100039409

申请日：2010-04-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아미야미치타카 ,  에시마가즈요시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67313 ,  H01L21/67051

Abstract: 본 발명은, 기판의 유지를 행하는 유지 부재의 유지부에 세정액이 분사됨으로써 이 유지부가 세정되고 있는 동안에, 유지 부재에 있어서의 건조 처리가 곤란한 지점인 기단부에 세정액이 부착되어 버리는 것을 방지할 수 있는 세정 장치, 기판 처리 시스템, 세정 방법, 프로그램 및 기억 매체를 제공하는 것을 목적으로 한다.
유지 부재(31, 32, 33)의 세정을 행하는 세정 장치(40)는, 유지 부재(31, 32, 33)의 유지부(31p, 32p, 33p)에 세정액을 분사함으로써 이 유지부(31p, 32p, 33p)의 세정을 행하는 세정부(50)와, 유지 부재(31, 32, 33)에 대하여 진퇴를 행하여 유지 부재(31, 32, 33)의 기단부(31q, 32q, 33q)를 커버하는 커버부(60)를 구비하고 있다.