公开(公告)号：KR1020130090829A

公开(公告)日：2013-08-14

申请号：KR1020130012755

申请日：2013-02-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 우에다도시히코 ,  후루이에다카히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0273 ,  G03F7/38 ,  H01L21/6838 ,  H01L21/68742

Abstract: PURPOSE: An apparatus and method for processing a substrate are provided to prevent a misalignment by installing a fixing pin on the peripheral part of a stage. CONSTITUTION: A stage (11) loads a target substrate. A plurality of support pins (16) are installed around the stage to move up and down. The support pins protrude to the upper side of the stage and support the peripheral part of the target substrate. A support pin lifting device (17) lifts the support pins.

Abstract translation: 目的：提供一种用于处理基板的装置和方法，以通过将固定销安装在平台的周边部分来防止未对准。 构成：阶段（11）装载目标基板。 多个支撑销（16）安装在台架周围上下移动。 支撑销突出到台的上侧，并支撑目标基板的周边部分。 支撑销提升装置（17）提升支撑销。

公开(公告)号：KR1020170042470A

公开(公告)日：2017-04-19

申请号：KR1020160124004

申请日：2016-09-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데츠야 ,  사타케준 ,  우에다도시히코 ,  니시야마준

IPC: H01L51/56 ,  H01L51/00 ,  H01L21/66

Abstract: 본발명은기판에서유기재료가도포된도포영역의건조상태를조기에검출할수 있는검사장치, 감압건조장치및 감압건조장치의제어방법을제공하는것을목적으로한다. 실시형태의일양태에따른검사장치는, 촬상부와, 건조상태검출부를구비한다. 촬상부는, 기판에서유기재료가도포된도포영역을촬상한다. 건조상태검출부는, 촬상부에의해촬상된도포영역의색농도에기초하여도포영역의건조상태를검출한다.

Abstract translation: 本发明的一个目的是提供一种用于该测试装置，减压干燥装置提供的控制方法，并减压装置，可检测与在早期阶段施加在基板上的有机材料涂敷的区域的干燥状态进行干燥。 根据实施例的一个方面的检查设备包括图像拾取部分和干燥状态检测部分。 图像拾取部分在基板上拾取涂覆有有机材料的涂覆区域。 干燥状态检测单元基于由图像拾取单元捕获的涂覆区域的颜色密度来检测涂覆区域的干燥状态。

公开(公告)号：KR101555717B1

公开(公告)日：2015-09-25

申请号：KR1020100001746

申请日：2010-01-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 우에다도시히코 ,  사카모토다카히로

IPC: B65G49/06 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677 ,  H01L21/306

Abstract: 기판의둘레가장자리부에형성된처리막을제거하는기판처리장치에있어서, 기판단위의처리시간을단축하고, 처리막형성의스루풋을향상하는동시에, 생산수율의저하를억제한다. 기판(G)을기판반송로를따라서평류로반송하는기판반송수단(21)과, 상기기판반송수단에의해제 1 반송방향으로반송되는상기기판(G)의, 반송방향을따른양측가장자리부의처리막을제거하는제 1 제거수단(5b)과, 상기제 1 제거수단에의해상기양측가장자리부의처리막이제거된기판의반송방향을, 상기제 1 반송방향에직교하는제 2 반송방향으로전환하는반송방향전환수단(7)과, 상기기판반송수단에의해제 2 반송방향으로반송되는상기기판(G)의, 반송방향을따른양측가장자리부의처리막을제거하는제 2 제거수단(6b)을구비한다.

Abstract translation: 本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置用于除去在基板周边部形成的处理膜，缩短每个基板的处理时间，提高处理膜形成的处理量，抑制生产率的下降。 （21），其用于沿着基板传送路径以剥离流动方式传送基板（G）;以及基板传送机构（21），其用于传送基板 用于去除处理膜的第一去除装置（5b）以及第二去除装置，用于通过第一去除装置在用于在与第一输送方向正交的第二输送方向上切换衬底的输送方向上去除在两个侧边缘部分上的处理膜 以及第二去除装置（6b），用于沿着输送方向去除沿释放2输送方向输送到基板输送装置的基板（G）的两侧边缘上的处理膜。

公开(公告)号：KR1020100089746A

公开(公告)日：2010-08-12

申请号：KR1020100001746

申请日：2010-01-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 우에다도시히코 ,  사카모토다카히로

IPC: B65G49/06 ,  H01L21/027 ,  H01L21/677 ,  H01L21/306

CPC classification number: G03F7/422 ,  B65G49/061 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70933 ,  H01L21/67706

Abstract: PURPOSE: A device and a method for processing a substrate are provided to improve a throughput and a production yield and to reduce time required for processing a substrate. CONSTITUTION: A device for processing a substrate comprises a substrate returning unit(21) and a first eliminating unit(5). The substrate returning unit eliminates a film formed in the edge of a substrate(G) and returns the substrate. The first eliminating unit eliminates register films on both edges of the substrate and is composed of an alignment unit(5a) and a processing unit(5b). The alignment unit aligns the returned substrate. The processing unit supplies a register solvent to both edges of the substrate and eliminates the register films.

Abstract translation: 目的：提供一种用于处理基底的装置和方法，以提高生产量和产量，并减少加工基材所需的时间。 构成：用于处理衬底的器件包括衬底返回单元（21）和第一消除单元（5）。 基板返回单元消除在基板（G）的边缘形成的膜并使基板返回。 第一消除单元消除基板的两个边缘上的寄存器膜，并且由对准单元（5a）和处理单元（5b）组成。 对准单元对准返回的基板。 处理单元向衬底的两个边缘提供寄存器溶剂，并且消除了寄存器膜。