公开(公告)号：KR1020160117221A

公开(公告)日：2016-10-10

申请号：KR1020160035390

申请日：2016-03-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미우라,시게히로 ,  고바야시,다케시 ,  스가와라,가츠아키 ,  이토,나오히데

IPC: H01J37/32 ,  G01N21/25 ,  G01N21/68 ,  G01J3/02 ,  G01J3/443

CPC classification number: H01J37/32972 ,  C23C16/45536 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4586 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32935 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771 ,  H01J37/32944 ,  G01J3/0202 ,  G01J3/0264 ,  G01J3/443 ,  G01N21/25 ,  G01N21/68

Abstract: 본발명은회전테이블(2)에의해웨이퍼(W)를공전시키면서플라즈마처리하는장치에관한것으로, 히터유닛(7)의광에의해밝게되어있는플라즈마발생영역에서의플라즈마의착화를확실하게검출한다. 진공용기(1)의천장면에투과창(300)을설치하고, 광검출부(301)에의해투과창(300)의하방측의플라즈마발생영역의광을검출한다. 그리고 R, G, B의각 광강도의합계에대한 R, G, B의각각의비율을구하고, 또한안테나(83)에고주파전력을공급하기전후에서의각 비율의변화율을구해서그들을합계한값을평가값으로하고, 평가값과임계값을비교하여, 평가값이임계값보다도크면플라즈마의착화가일어나고, 평가값이임계값이하이면플라즈마의착화가일어나지않았다고판단한다.

公开(公告)号：KR101933272B1

公开(公告)日：2018-12-27

申请号：KR1020160035390

申请日：2016-03-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미우라,시게히로 ,  고바야시,다케시 ,  스가와라,가츠아키 ,  이토,나오히데

IPC: H01J37/32 ,  G01N21/25 ,  G01N21/68 ,  G01J3/02 ,  G01J3/443

Abstract: 본 발명은 회전 테이블(2)에 의해 웨이퍼(W)를 공전시키면서 플라즈마 처리하는 장치에 관한 것으로, 히터 유닛(7)의 광에 의해 밝게 되어 있는 플라즈마 발생 영역에서의 플라즈마의 착화를 확실하게 검출한다. 진공 용기(1)의 천장면에 투과창(300)을 설치하고, 광 검출부(301)에 의해 투과창(300)의 하방측의 플라즈마 발생 영역의 광을 검출한다. 그리고 R, G, B의 각 광 강도의 합계에 대한 R, G, B의 각각의 비율을 구하고, 또한 안테나(83)에 고주파 전력을 공급하기 전후에서의 각 비율의 변화율을 구해서 그들을 합계한 값을 평가값으로 하고, 평가값과 임계값을 비교하여, 평가값이 임계값보다도 크면 플라즈마의 착화가 일어나고, 평가값이 임계값 이하이면 플라즈마의 착화가 일어나지 않았다고 판단한다.