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公开(公告)号：KR1020130018361A
公开(公告)日：2013-02-20
申请号：KR1020130012236
申请日：2013-02-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 이토다케시
IPC: H01L21/677 , H01L21/683 , B65G49/07 , G02F1/13
CPC classification number: H01L21/67109 , H01L21/68742 , G02F1/1303 , H01L21/68714
Abstract: PURPOSE: A substrate mounting mechanism and a substrate processing apparatus using same are provided to maintain uniform temperature of a substrate by preventing the temperature drop of a substrate elevating member. CONSTITUTION: A substrate(G) is mounted on a substrate mounting table(86). The substrate mounting table is connected to a frame(90) by using a connecting member(89). A heating source(87) heats or cools the substrate. A substrate elevating member(88) moves up and down between a first position and a second position to load the substrate. An elevating mechanism(97) moves the substrate elevating member. [Reference numerals] (103) Pressure adjustment gas supply source; (124) Exhaust device
Abstract translation: 目的：提供基板安装机构和使用其的基板处理装置，以通过防止基板升降构件的温度下降来维持基板的均匀温度。 构成：将衬底（G）安装在衬底安装台（86）上。 基板安装台通过使用连接构件（89）连接到框架（90）。 加热源（87）加热或冷却基底。 基板升降构件（88）在第一位置和第二位置之间上下移动以加载基板。 升降机构（97）移动基板升降构件。 （103）压力调节气体供给源; （124）排气装置
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公开(公告)号：KR1020110040808A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：KR1020110025725
申请日：2011-03-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32458 , H01J37/32633
Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to prevent particles from falling on a substrate from a rectification member, thereby preventing the substrate from being contaminated. CONSTITUTION: A mounting table(3) is installed on the bottom part of a chamber(2). A glass substrate is mounted on the mounting table. The mounting table comprises a metal base plate(5), an electrostatic chuck(6), a shield ring(7), and an insulating ring(8). The electrostatic chuck suctions a glass substrate placed on a convex part(5a) of a base plate. An elevation pin(10) loads or unloads the glass substrate. A power supply line(12) is connected to the base plate of the mounting table and supplies high frequency power.
Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，以防止颗粒从整流部件落在基板上，从而防止基板被污染。 构成：安装台（3）安装在室（2）的底部。 玻璃基板安装在安装台上。 安装台包括金属基板（5），静电卡盘（6），屏蔽环（7）和绝缘环（8）。 静电吸盘吸附放置在基板的凸部（5a）上的玻璃基板。 升降销（10）装载或卸载玻璃基板。 电源线（12）连接到安装台的底板，并提供高频电力。
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公开(公告)号：KR102100018B1
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：KR1020170179357
申请日：2017-12-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
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公开(公告)号：KR101800504B1
公开(公告)日：2017-11-22
申请号：KR1020150028208
申请日：2015-02-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 이토다케시
IPC: H01L21/683 , H01L21/677
Abstract: 지지핀의설치수의증가를억제하면서, 얇고대형인기판을탑재대에탑재하는것이가능한기판탑재장치등을제공한다. 기판탑재장치에마련된탑재대(3)는 0.5밀리미터이하의두께치수를갖는기판(F)이탑재되는탑재면(30)을구비하고, 기판(F)을하면측으로부터지지하는복수의지지핀(4)은탑재대(3)를상하방향으로관통하도록마련되며, 승강기구(45~47)는복수의지지핀(4)을, 기판(F)을지지하는지지위치와, 하방측의퇴피위치와의사이에서승강시킨다. 복수의지지핀(4) 중적어도 1개의선단부에는, 기판(F)을하면측으로부터지지할때에탄성변형하여기판(F)과의접촉면적이넓어지는탄성부재(42)가마련되어있다.
Abstract translation: 本发明提供一种基板安装装置，其能够在抑制安装销的数量增加的同时将薄且大的基板安装在安装台上。 设置在基板安装设备上的安装台3具有安装表面30，安装表面30上安装有厚度尺寸为0.5mm或更小的基板F，并包括多个支撑销 4垂直穿过安装台3并且升降机构45至47将多个支撑销4支撑在用于支撑基板F的支撑位置和退避位置 如图所示。 多个支撑销4的至少一个末端部分设置有弹性构件42，弹性构件42在从底侧支撑基板F以扩大与基板F的接触面积时弹性变形。
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公开(公告)号：KR1020150103632A
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：KR1020150028208
申请日：2015-02-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 이토다케시
IPC: H01L21/683 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/683 , H01L21/67712 , H01L2221/683
Abstract: 지지 핀의 설치수의 증가를 억제하면서, 얇고 대형인 기판을 탑재대에 탑재하는 것이 가능한 기판 탑재 장치 등을 제공한다. 기판 탑재 장치에 마련된 탑재대(3)는 0.5밀리미터 이하의 두께 치수를 갖는 기판(F)이 탑재되는 탑재면(30)을 구비하고, 기판(F)을 하면측으로부터 지지하는 복수의 지지 핀(4)은 탑재대(3)를 상하 방향으로 관통하도록 마련되며, 승강 기구(45~47)는 복수의 지지 핀(4)을, 기판(F)을 지지하는 지지 위치와, 하방측의 퇴피 위치와의 사이에서 승강시킨다. 복수의 지지 핀(4) 중 적어도 1개의 선단부에는, 기판(F)을 하면측으로부터 지지할 때에 탄성 변형하여 기판(F)과의 접촉 면적이 넓어지는 탄성 부재(42)가 마련되어 있다.
Abstract translation: 可以在抑制支撑销数量的增加的同时，在基板装载装置上装载薄而大的基板。 在基板装载装置中准备装载台（3）。 装载台包括装载表面（30），其上装载0.5mm或更短的衬底（F）。 从下侧支撑衬底（F）的多个支撑销（4）垂直穿过装载台（3）。 高架设备（45-47）在支撑位置和下侧的后退位置之间升高，其中支撑销（4）和基板（F）被支撑在支撑位置上。 至少一个支撑销（4）的前端包括弹性构件（42），其中当基板（F）与基板（F）接触时，与基板（F）接触的弹性构件的表面的尺寸通过弹性变形而变大， 从下侧支撑。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020090106997A
公开(公告)日：2009-10-12
申请号：KR1020090029228
申请日：2009-04-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32458 , H01J37/32633
Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to prevent a particle from dropping from a rectification unit to a substrate. CONSTITUTION: A substrate processor(1) includes a process container(2), a substrate input and output unit, a mounting unit(3), a process gas supply unit, a plasma generator, an exhaust device, and a rectification unit(9a). The process container receives a substrate(G). The substrate input and output unit inputs and outputs the substrate formed in a lateral side of the process container. The mounting unit mounts the substrate in the process container. The process gas supply unit supplies the process gas to the process container. The plasma generator generates the plasma of the process gas in the process container. The exhaust unit exhausts the process container. The rectifying unit surrounds the substrate on the mounting unit and includes a moving unit for inputting and outputting the substrate on the mounting unit in the position corresponding to the substrate input and output unit.
Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，用于防止颗粒从精馏单元滴落到基板上。 构成：基板处理器（1）包括处理容器（2），基板输入和输出单元，安装单元（3），处理气体供应单元，等离子体发生器，排气装置和整流单元（9a ）。 处理容器接收基板（G）。 衬底输入和输出单元输入和输出形成在处理容器的侧面的衬底。 安装单元将基板安装在处理容器中。 处理气体供应单元将处理气体供应到处理容器。 等离子体发生器在处理容器中产生处理气体的等离子体。 排气单元排出处理容器。 整流单元围绕安装单元上的基板，并且包括用于在与基板输入和输出单元相对应的位置中在安装单元上输入和输出基板的移动单元。
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公开(公告)号：KR1020070094503A
公开(公告)日：2007-09-20
申请号：KR1020070025455
申请日：2007-03-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/687 , H01L21/02 , H01L21/30
CPC classification number: H01L21/68742 , H01J37/32082 , H01J37/32715 , H01L21/67017 , H01L21/68785
Abstract: A substrate table and a substrate processing apparatus using the same are provided to prevent a damage of a table body by installing a bendable portion on a front end of a lift pin. A lift pin(30) is vertically inserted into a table body(4a) to support a substrate at a front end thereof, and is installed in such a way that the lift pin protrudes or retracts from a surface of the table body. The lift pin is movable between a recession position, in which the lift pin retracts from the table body, and a support position, in which the lift pin protrudes from the table body. The lift pin has a bendable portion(35) which is bent when the lift pin is positioned at the support position and force smaller than force deforming the lift pin is applied to the table body.
Abstract translation: 提供了一种基板台和使用其的基板处理装置，以通过在提升销的前端上安装可弯曲部分来防止台体的损坏。 升降销（30）被垂直地插入台体（4a）中，以在其前端支撑基板，并且安装成使得提升销从台面的表面伸出或缩回。 提升销可以在提升销从桌子主体缩回的凹陷位置和提升销从桌子主体伸出的支撑位置之间移动。 提升销具有弯曲部分（35），当可升降销定位在支撑位置时，该弯曲部分（35）被弯曲并且力小于力变形，提升销被施加到台体上。
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公开(公告)号：KR102100032B1
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：KR1020180050946
申请日：2018-05-03
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: F16K3/314 , F16K27/04 , F16K51/02 , H01L21/3065
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公开(公告)号：KR101063127B1
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：KR1020090029228
申请日：2009-04-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065
Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to prevent a particle from dropping from a rectification unit to a substrate. CONSTITUTION: A substrate processor(1) includes a process container(2), a substrate input and output unit, a mounting unit(3), a process gas supply unit, a plasma generator, an exhaust device, and a rectification unit(9a). The process container receives a substrate(G). The substrate input and output unit inputs and outputs the substrate formed in a lateral side of the process container. The mounting unit mounts the substrate in the process container. The process gas supply unit supplies the process gas to the process container. The plasma generator generates the plasma of the process gas in the process container. The exhaust unit exhausts the process container. The rectifying unit surrounds the substrate on the mounting unit and includes a moving unit for inputting and outputting the substrate on the mounting unit in the position corresponding to the substrate input and output unit.
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公开(公告)号：KR101274890B1
公开(公告)日：2013-06-17
申请号：KR1020130012236
申请日：2013-02-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 이토다케시
IPC: H01L21/677 , H01L21/683 , B65G49/07 , G02F1/13
CPC classification number: H01L21/67109 , H01L21/68742
Abstract: 본 발명은 기판의 면내 온도를 균일하게 할 수 있는 기판 탑재 기구에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 기판 탑재 기구는 기판을 탑재하는 기판 탑재대와, 기판 탑재대를 거쳐서 기판을 가열하는 히터와, 기판의 단부를 지지하고, 기판을 기판 탑재대에 탑재시키는 제 1 위치와 기판 탑재대로부터 상승한 제 2 위치의 사이에서 승강 가능한 기판 승강 부재와, 기판 승강 부재를 승강시키는 승강 기구를 구비하고, 기판 승강 부재는 제 1 위치에 있어서 기판 탑재대의 일부로서 기능한다.
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