公开(公告)号：KR1020010062127A

公开(公告)日：2001-07-07

申请号：KR1020000073254

申请日：2000-12-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 카미카와유지 ,  타나카코지

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus and a liquid processing method are provided to carry out a process, such as cleaning, with a chemical serving as a processing liquid, with respect to a semiconductor wafer W which serves as an object to be processed and which is housed in a processing chamber. CONSTITUTION: A chemical tank for storing therein the chemical has a double vessel structure which has an external tank and an internal tank housed in the external tank. Supply pipe-lines(14a,14b,14c) are provided for supplying the chemical from the external tank and the internal tank to the processing chamber. A return pipe-line is provided for returning the chemical from the processing chamber to the external tank. The outer periphery of the external tank is surrounded by a heater.

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置和液体处理方法，用于相对于用作待处理对象的半导体晶片W，以化学品作为处理液体进行清洗，其为 容纳在处理室中。 构成：用于在其中存储化学品的化学容器具有双重容器结构，其具有容纳在外部罐中的外部罐和内部容器。 供应管线（14a，14b，14c）用于将化学品从外部罐和内部容器供应到处理室。 提供返回管线用于将化学品从处理室返回到外部罐。 外部罐的外周围被加热器包围。

公开(公告)号：KR1020170095859A

公开(公告)日：2017-08-23

申请号：KR1020177016070

申请日：2015-12-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 코미야히로시 ,  타카키야스히로 ,  우메노신이치 ,  타나카코지 ,  사토타카미 ,  아나모토아츠시

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/6704 ,  H01L21/6715

Abstract: 실시형태의일태양에따른기판액 처리장치는반송부와, 처리부와, 저류부와, 송액기구를구비한다. 반송부는기판을반송하는반송장치가배치된다. 처리부는, 반송부에수평방향으로인접하고, 처리액을이용하여기판을처리하는액 처리유닛이배치된다. 저류부는처리액을저류한다. 송액기구는저류부에저류된처리액을액 처리유닛으로송출한다. 저류부는반송부의바로아래에배치된다. 또한, 송액기구는처리부의바로아래에배치된다. 기판액 처리장치의공간절약화를도모할수 있다.

Abstract translation: 根据实施例的一个方面的基底液体处理装置包括传送部分，处理部分，存储部分和液体传送机构。 转印部分设有用于转印基片的转印装置。 处理部在水平方向上与传送部相邻地设置，并且设置有用于通过使用处理液来处理基板的液体处理单元。 储层保留处理液。 送液机构将储存在储存部中的处理液送到液体处理单元。 存储部分设置在传送部分的正下方。 另外，液体供给机构配置在处理部的正下方。 可以实现基板液处理装置的节省空间。

公开(公告)号：KR100664338B1

公开(公告)日：2007-01-02

申请号：KR1020000073254

申请日：2000-12-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 카미카와유지 ,  타나카코지

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명은 액처리장치와 액처리방법에 있어서 처리실내에 수용되어진 피처리체로서의 반도체웨이퍼(W)에 대하여 처리액으로서의 약액에 의한 세정처리등을 실시하는 처리장치이다. 약액을 저유하는 약액탱크(10)은 외측탱크(2)와, 상기 외측탱크(2)내에 수용되어진 내측탱크(1)을 가진 2중조 구조를 이루고 있다.
외측탱크(2) 및 내측탱크(1)에서 처리실로 각각 약액을 공급하기 위한 공급관로(14a, 14b) 및 (14c)등이 설치되어 있다. 또한, 처리실에서 외측탱크(2)로 약액을 되돌리기 위한 되돌림관로(56)이 설치되어 있다. 외측탱크(2)의 외주는 히터(4)에 의해 둘러싸여 있는 기술이 제시된다.

公开(公告)号：KR1020010050063A

公开(公告)日：2001-06-15

申请号：KR1020000046751

申请日：2000-08-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 카미카와유지 ,  에가시라코우지 ,  타나카코지

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67754 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902 ,  Y10S414/138

Abstract: PURPOSE: A substrate treatment apparatus and a substrate treatment method are provided to avoid the increase of a substrate treatment space and facilitates the loading/unloading of the substrates. CONSTITUTION: A substrate treatment apparatus has a rotor(24) holding a plurality of wafers(W), treatment chambers(26,27) in which the rotor(24) can be stored, a carrier waiting unit(30) which is provided outside the treatment chambers(26,27) and beneath the rotor(24) and on which a carrier(C) can be put, for waiting, a wafer transfer mechanism(40) which can be moved vertically, pushes the plurality of wafers(W) in the carrier(C) staying on the carrier waiting unit(30) upward to be held in the rotor(24), or makes the plurality of wafers(W) in the rotor(24) descend to be stored in the carrier(C) staying on the carrier waiting unit(30), and a carrier conveyance mechanism(35) which conveys the carrier(C) onto/from the carrier waiting unit(30). The plurality of wafers(W) held in the rotor(24) are subjected to predetermined treatments in the treatment chambers(26,27).

Abstract translation: 目的：提供基板处理装置和基板处理方法，以避免基板处理空间的增加并且便于基板的装载/卸载。 构成：基板处理装置具有保持多个晶片（W）的转子（24），能够存储转子（24）的处理室（26,27），设置在外部的载体等待单元（30） 处理室（26,27）并且在转子（24）下方，并且可以放置载体（C），用于等待可垂直移动的晶片传送机构（40），推动多个晶片（W ）在保持在转子（24）中的载体等待单元（30）上的载体（C）中，或者使转子（24）中的多个晶片（W）下降到载体（ C）停留在行李架等待单元（30）上，以及将承运人（C）运送到承载人等待单元（30）上的托架输送机构（35）。 保持在转子（24）中的多个晶片（W）在处理室（26,27）中进行预定的处理。

公开(公告)号：KR100676516B1

公开(公告)日：2007-01-31

申请号：KR1020000046751

申请日：2000-08-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 카미카와유지 ,  에가시라코우지 ,  타나카코지

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67754 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902 ,  Y10S414/138

Abstract: 본 발명은, 예를들면 반도체 웨이퍼등의 기판에 대하여 소정의 처리를 하는 기판처리장치 및 기판처리방법에 관한것이다.
본 발명은 수평이동이 자유로운 로오더(24)를 포위 가능한 외측 포위벽(26)과 내측 포위벽(27)과, 로오더(24)의 하방에 위치해 있는 캐리어 대기부(30)를 구비하고, 웨이퍼 이동기구(40)의 웨이퍼 핸드(41)은 캐리어 대기부(30)에 있는 스테이지(31, 32)위에 있는 웨이퍼(W)가 수납된 캐리어(C) 안으로 침입하여, 캐리어(C)안의 웨이퍼를 올리고, 로오더(24)로 인도하며, 외측포위벽(26) 또는 외측.내측포위벽이 로오더를 둘러싸 처리 챔버를 형성하고, 이 챔버안에서 세정처리가 행하여 지는 기판처리장치 및 기판처리방법이 제시된다.

Abstract translation: 基板处理装置及基板处理方法技术领域本发明涉及对例如半导体晶片等基板进行规定处理的基板处理装置及基板处理方法。