公开(公告)号：KR101446358B1

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：KR1020080045722

申请日：2008-05-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 티안카이중 ,  첸리 ,  펑크머릿

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3244

Abstract: 처리 시스템 내의 챔버 구성품을 통해 공정 유체를 도입하기 위한 방법 및 시스템이 개시된다. 챔버 구성품은 챔버 소자의 공급측 상의 제 1 면 및 챔버 소자의 처리측 상의 제 2 면을 갖는 챔버 소자를 포함하며, 상기 처리측은 공급측에 대향한다. 또한, 챔버 구성품은 공급측으로부터 챔버 소자를 통해 처리측으로 연장되는 도관을 포함하며, 상기 도관은 공정 유체를 수용하도록 구성되는 입구 및 공정 유체를 분배하도록 구성되는 출구를 포함한다.

公开(公告)号：KR1020100106602A

公开(公告)日：2010-10-01

申请号：KR1020107018924

申请日：2009-01-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오따긴야 ,  티안카이중 ,  고바야시히로시 ,  사또오요시히로 ,  시오자와도시히꼬 ,  마에까와고오지

IPC: H05H1/46 ,  C23C16/511 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H05H1/46 ,  C23C16/511 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/32238

Abstract: 마이크로파 플라즈마 처리 장치에 있어서, 플라즈마를 형성하기 위한 마이크로파를 방사하는 평면 안테나(31)는 그 면을 동심 형상으로 중앙 영역(31a), 외주 영역(31c), 이들의 중간 영역(31b)으로 나눈 경우에, 서로 방향이 다른 마이크로파 방사 구멍(32)의 쌍이, 중앙 영역(31a) 및 외주 영역(31c)에 동심원 형상으로 복수 배열되고, 중간 영역(31b)에는 마이크로파 방사 구멍이 형성되어 있지 않고, 마이크로파 투과판(28)은 그 마이크로파 방사면에 오목부(28a)가 형성되어 있다.

公开(公告)号：KR1020080101794A

公开(公告)日：2008-11-21

申请号：KR1020080045722

申请日：2008-05-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 티안카이중 ,  첸리 ,  펑크머릿

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3244

Abstract: A method and system for introducing process fluid through a chamber component are provided to prevent the electrical failure or discharge within the dielectric member by introducing the process gas through the dielectric member. The chamber component comprises the chamber device which has the second side on the process side and the first side on the supply side of the chamber device. The process side is faced with the supply side. The chamber component comprises the conduit extended from the supply side through the chamber device as the process side. The conduit comprises the entrance which accommodates the process fluid and the exit which distribute the process fluid. The conduit is helix.

Abstract translation: 提供了一种用于通过腔室部件引入过程流体的方法和系统，以通过将工艺气体引入电介质构件来防止电介质构件内的电气故障或放电。 腔室部件包括腔室装置，其在处理侧具有第二侧，在腔室装置的供给侧具有第一侧。 处理方面面临着供应方面。 腔室部件包括作为加工侧的从供给侧延伸穿过腔室装置的导管。 导管包括容纳过程流体的入口和分配过程流体的出口。 导管是螺旋。