公开(公告)号：KR101617650B1

公开(公告)日：2016-05-03

申请号：KR1020100110382

申请日：2010-11-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토노리후미 ,  기바유키오 ,  미야모토테츠시 ,  하세베카즈히사

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748

Abstract: 저온의현상액을이용한현상처리를기판면내에서균일하게행하고, 기판상에소정의패턴을적절히형성한다. 우선, 냉각장치에서 15℃로온도조절된냉각판에기판을재치(載置)하여냉각한다(스텝(S1)). 그후, 현상장치에서 3℃의린스액을기판으로공급하여기판을냉각한다(스텝(S2)). 그후, 기판상으로 3℃의현상액을공급하고기판상의레지스트막을현상하여상기레지스트막에레지스트패턴을형성한다(스텝(S3)). 그후, 기판상으로 3℃의린스액을공급하여기판의표면을세정한다(스텝(S4)). 그후, 기판상으로 3℃의처리액을공급하여기판의레지스트패턴상의린스액의표면장력을저하시킨다(스텝(S5)).

公开(公告)号：KR1020170042234A

公开(公告)日：2017-04-18

申请号：KR1020160127686

申请日：2016-10-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 소노다치카라 ,  아카다히카루 ,  하세베카즈히사 ,  우츠노미야요시노리

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687

Abstract: 피설치물을수평으로지면에설치하기위하여요하는작업시간을단축하는것이다. 피설치물(D1)을, 하부에마련된복수의높이조정기구(31)에의해조정하여수평으로지면에설치하기위한수평설치장치(8)에있어서, 상기피설치물(D1)의복수의측정개소에각각설치되는수준계측기(41)와, 각수준계측기(41)의측정치와적정한수준범위에기초하여각 수준계측기(31)의측정치중 적정한수준범위로부터벗어난측정치를당해적정한수준범위에들어가게하기위하여, 적어도하나의높이조정기구(31)의조정량을연산하는연산부(91)와, 연산된상기조정량에기초하여상기피설치물을수평으로지면에설치하기위한대처를행하는대처부(81)를구비하도록수평설치장치를구성한다. 그에따라작업자의부담을경감하고, 작업시간을단축할수 있다.

Abstract translation: 从而缩短水平安装在地面上所需的时间。 一种水平安装装置（8），用于通过调节设置在所述固定装置的下部的多个高度调节机构（31）来将固定装置（D1）水平地布置在地面上 为了基于各个电平计41的测量值和适当的电平范围使测量结果偏离每个电平计31的测量的适当电平范围， 它设置有一个计算部分91，和上型部81，用于计算的高度调整机构的调整量进行用于操作的基础上用于安装在地面上的血液夹具的动作和调节量水平（31） 构建一个水平安装设备。 因此，可以减轻操作员的负担，并且可以缩短工作时间。

公开(公告)号：KR1020110087201A

公开(公告)日：2011-08-02

申请号：KR1020100110382

申请日：2010-11-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토노리후미 ,  기바유키오 ,  미야모토테츠시 ,  하세베카즈히사

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70916

Abstract: PURPOSE: A method for developing a resist film on a substrate, a computer storage apparatus, and a developing process system are provided to appropriately forming a predetermined pattern on a substrate by uniformly developing a resist film on substrate planes using a developer with low temperature. CONSTITUTION: A first cooling process, which has lower temperature than room temperature in a chiller, mounts and cools a substrate in a cooling plate with higher temperature than fixed temperature(S1). A second cooling process sends back the substrate to a developing apparatus. Rinse liquid, which is less than a fixed temperature, is supplied to the substrate and the substrate is cooled(S2). A developing process supplies a developer on the substrate, develops a resist film, and forms a resist pattern(S3). The surface of the substrate is washed to the top of the substrate in a cleaning process by being supplied the rinse liquid with a fixed temperature(S4).

Abstract translation: 目的：提供一种用于在基板上显影抗蚀剂膜的方法，计算机存储装置和显影处理系统，以通过使用低温显影剂在基板平面上均匀显影抗蚀剂膜，在基板上适当地形成预定图案。 构成：在冷却器中具有比室温低的温度的第一冷却过程在比固定温度高的冷却板中安装和冷却基板（S1）。 第二冷却过程将衬底发送回显影装置。 将低于固定温度的冲洗液供给到基板，冷却基板（S2）。 显影工序在基板上提供显影剂，显影抗蚀膜，形成抗蚀剂图案（S3）。 通过以固定的温度供给冲洗液，在清洗过程中将基材的表面洗涤到基材的顶部（S4）。