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公开(公告)号：KR1020050008643A
公开(公告)日：2005-01-21
申请号：KR1020047009165
申请日：2003-05-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67178 , G03F7/30 , G03F7/3021 , H01L21/6715 , H01L21/67184 , H01L21/67225 , G03F7/3057
Abstract: 린스 노즐(310a∼310e)은, 린스액(326)을 토출하면서 웨이퍼(W) 상을 이동한다. 이 때, 각각의 토출구(317a∼317e)와 웨이퍼(W)에 도포되어 있는 현상액(350) 또는 웨이퍼(W) 상의 린스액(326)이 접촉하고 있도록 한다. 이에 따라, 웨이퍼(W)에 주는 충격을 완화시킬 수 있어, 패턴 무너짐을 피할 수 있다. 또한, 린스 노즐 (310a)의 앞면에 현상액(350)에 밀어낼 수 있다.
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公开(公告)号：KR101586872B1
公开(公告)日：2016-01-19
申请号：KR1020110022023
申请日：2011-03-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명은높은막두께균일성을갖는컬러레지스트막을기판상에형성하는것이가능한레지스트도포장치및 레지스트막형성방법을제공한다. 본발명의실시형태에의한레지스트도포장치는, 기판의중앙부에서의온도보다기판의주변부에서의온도가높아지도록기판의온도를조정하도록구성된기판온도조정부와, 중앙부보다주변부에서온도가높아지도록기판온도조정부에의해온도조정된기판상에컬러레지스트액을공급하는컬러레지스트액공급부와, 컬러레지스트액이공급된기판을회전시키는기판회전부를포함한다.
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公开(公告)号：KR1019980024624A
公开(公告)日：1998-07-06
申请号：KR1019970047117
申请日：1997-09-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 현상액을 저류한 용기(1) 내에 가압가스를 도입하고, 가압가스에 의해 용기(1)로부터 공급라인(5a,5b)을 경유하여 노즐(12)로 처리액을 압송하며, 노즐(12)로부터 기판(W) 상으로 현상액을 공급하는 레지스트 처리방법에 있어서, (a) 기액분리막(64a) 및 진공배기라인(51)을 구비한 탈기기구(10a,10b)를 상기 공급라인(5a,5b)에 설치하는 공정과, (b) 용기 내에 가압가스를 도입하고, 가압가스에 의해 용기로부터 공급라인을 경유하여 상기 기액분리막의 한쪽으로 처리액을 유통시키는 공정과, (c) 상기 진공배기라인(51)을 통하여 기액분리막의 다른쪽 분위기를 배기하여 기액분리막의 다른쪽 압력을 처리액의 포화증기압 이하의 압력으로 하며, 처리액 중에 존재하는 기체성분을 기액분리막의 한쪽에서 다른쪽으로 이동시켜, 이것에 의해 기판공급 전의 처리액으로부� � 기체성분을 제거하는 탈기공정과, (d) 상기 탈기기구로부터 노즐까지 사이의 공급라인(5a,5b)에 존재하는 처리액을 배출하고, 상기 탈기공정 (c)에서 탈기처리된 처리액을 탈기기구로부터 노즐까지 사이의 공급라인(5a,5b)으로 도입하는 처리액 치환공정과, (e) 탈기처리된 처리액을 노즐(12)로부터 기판으로 향하여 토출 공급하는 공정과, (f) 노즐(12)과 기판(W)을 상대적으로 회전시켜, 노즐과 기판 사이에 탈기처리된 처리액의 액막을 형성하는 공정을 구비한다.
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公开(公告)号：KR100935286B1
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：KR1020047009165
申请日：2003-05-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67178 , G03F7/30 , G03F7/3021 , H01L21/6715 , H01L21/67184 , H01L21/67225
Abstract: 린스 노즐(310a∼310e)은, 린스액(326)을 토출하면서 웨이퍼(W) 상을 이동한다. 이 때, 각각의 토출구(317a∼317e)와 웨이퍼(W)에 도포되어 있는 현상액(350) 또는 웨이퍼(W) 상의 린스액(326)이 접촉하고 있도록 한다. 이에 따라, 웨이퍼(W)에 주는 충격을 완화시킬 수 있어, 패턴 무너짐을 피할 수 있다. 또한, 린스 노즐 (310a)의 앞면에 현상액(350)에 밀어낼 수 있다.
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公开(公告)号：KR1019970077123A
公开(公告)日：1997-12-12
申请号：KR1019970021263
申请日：1997-05-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
도포막 형성방법 및 도포막 형성장치.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
장치를 소형화할 수 있고, 레지스트 도포막의 막두께를 균일하면서 고정밀도로 할 수 있는 도포막 형성방법 및 도포막 형성장치를 제공함.
3. 발명의 해결방법의 요지
챔버 내의 스핀척으로 유지된 웨이퍼 표면에 레지스트 도포막을 형성하는 도포막 형성방법은, (a) 웨이퍼 회전수와 챔버 내에서 웨이퍼 상에 형성되는 레지스트 도포막의 막두께와의 상관을 나타낸 예비상관 데이터를 파악해 두는 공정과, (b) 웨이퍼를 챔버 내에 반입하고, 웨이퍼를 스핀척으로 유지하는 공정과, (c) 웨이퍼에 레지스트액을 뿌림과 동시에, 웨이퍼를 스핀회전시키고, 이것에 의해 웨이퍼 표면에 레지스트 도포막을 형성하는 공정과, (d) 스핀척의 회전수를 센서에서 검출하는 공정과, (f) 이 검출 막두께 정보와 예비상건 데이터에 의거하여 스핀척의 설정회전수를 수정하고, 다음의 웨이퍼의 레지스트 도포처리를 피드백 제어하는 공정을 구비한다.
4. 발명의 중요한 용도
반도체 웨이퍼나 LCD용 유리기판과 같은 기판에 포토레지스트액과 같은 처리액을 도포하여 도포막을 형성하는 도포막 형성방법 및 도포막 형성장치에 이용됨.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020110087201A
公开(公告)日：2011-08-02
申请号：KR1020100110382
申请日：2010-11-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/6715 , G03F7/3021 , H01L21/67109 , H01L21/67178 , H01L21/67742 , H01L21/67748 , H01L21/0274 , G03F7/2041 , G03F7/32 , G03F7/70341 , G03F7/70916
Abstract: PURPOSE: A method for developing a resist film on a substrate, a computer storage apparatus, and a developing process system are provided to appropriately forming a predetermined pattern on a substrate by uniformly developing a resist film on substrate planes using a developer with low temperature. CONSTITUTION: A first cooling process, which has lower temperature than room temperature in a chiller, mounts and cools a substrate in a cooling plate with higher temperature than fixed temperature(S1). A second cooling process sends back the substrate to a developing apparatus. Rinse liquid, which is less than a fixed temperature, is supplied to the substrate and the substrate is cooled(S2). A developing process supplies a developer on the substrate, develops a resist film, and forms a resist pattern(S3). The surface of the substrate is washed to the top of the substrate in a cleaning process by being supplied the rinse liquid with a fixed temperature(S4).
Abstract translation: 目的：提供一种用于在基板上显影抗蚀剂膜的方法，计算机存储装置和显影处理系统，以通过使用低温显影剂在基板平面上均匀显影抗蚀剂膜，在基板上适当地形成预定图案。 构成：在冷却器中具有比室温低的温度的第一冷却过程在比固定温度高的冷却板中安装和冷却基板（S1）。 第二冷却过程将衬底发送回显影装置。 将低于固定温度的冲洗液供给到基板，冷却基板（S2）。 显影工序在基板上提供显影剂，显影抗蚀膜，形成抗蚀剂图案（S3）。 通过以固定的温度供给冲洗液，在清洗过程中将基材的表面洗涤到基材的顶部（S4）。
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公开(公告)号：KR1020090118945A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：KR1020097018280
申请日：2003-05-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67178 , G03F7/30 , G03F7/3021 , H01L21/6715 , H01L21/67184 , H01L21/67225
Abstract: A substrate processing device, wherein rinse nozzles (310a) to (310e) are moved over a wafer (W) while jetting rinse fluid (326) with jetting ports (317a) to (317e) brought into contact with developer (350) coated on the wafer (W) or the rinse fluid (326) on the wafer (W), whereby an impact on the wafer (W) can be relieved and a pattern falling can be avoided, and the developer (350) can be pushed by the front face of the rinse nozzle (310a).
Abstract translation: 一种衬底处理装置，其中冲洗喷嘴（310a）至（310e）在晶片（W）上方移动，同时用与涂覆在其上的显影剂（350）接触的喷射口（317a）至（317e）喷射冲洗流体（326） 晶片（W）或晶片（W）上的冲洗流体（326），从而可以减轻对晶片（W）的冲击，并且可以避免图案下落，并且显影剂（350）可被 冲洗喷嘴（310a）的前表面。
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公开(公告)号：KR101617650B1
公开(公告)日：2016-05-03
申请号：KR1020100110382
申请日：2010-11-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/6715 , G03F7/3021 , H01L21/67109 , H01L21/67178 , H01L21/67742 , H01L21/67748
Abstract: 저온의현상액을이용한현상처리를기판면내에서균일하게행하고, 기판상에소정의패턴을적절히형성한다. 우선, 냉각장치에서 15℃로온도조절된냉각판에기판을재치(載置)하여냉각한다(스텝(S1)). 그후, 현상장치에서 3℃의린스액을기판으로공급하여기판을냉각한다(스텝(S2)). 그후, 기판상으로 3℃의현상액을공급하고기판상의레지스트막을현상하여상기레지스트막에레지스트패턴을형성한다(스텝(S3)). 그후, 기판상으로 3℃의린스액을공급하여기판의표면을세정한다(스텝(S4)). 그후, 기판상으로 3℃의처리액을공급하여기판의레지스트패턴상의린스액의표면장력을저하시킨다(스텝(S5)).
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公开(公告)号：KR1020110119528A
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：KR1020110022023
申请日：2011-03-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: PURPOSE: An apparatus for coating a resist, a coating developing system including the same, and a method for coating the resist are provided to form a color resist film with high film thickness uniformity on a substrate. CONSTITUTION: An apparatus for coating a resist(50) includes a substrate temperature adjusting part, a color resist liquid supplying part, and a substrate rotating part. The substrate temperature adjusting part adjusts the temperature of a substrate in order to increase a temperature at the peripheral part of the substrate. The color resist liquid supplying part supplies color resist liquid to the substrate. The substrate rotating part rotates the substrate on which the color resist liquid is supplied.
Abstract translation: 目的：提供一种涂布抗蚀剂的装置，包括该涂料的涂料显影系统和涂覆该抗蚀剂的方法，以在基材上形成具有高膜厚均匀性的抗蚀剂膜。 构成：用于涂覆抗蚀剂（50）的设备包括基板温度调节部分，抗彩色液体供应部分和基板旋转部分。 衬底温度调节部分调节衬底的温度以增加衬底的周边部分的温度。 彩色抗蚀剂液体供应部分向基片供应彩色抗蚀剂液体。 基板旋转部旋转供给着抗蚀剂液体的基板。
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公开(公告)号：KR100959740B1
公开(公告)日：2010-05-25
申请号：KR1020097018280
申请日：2003-05-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67178 , G03F7/30 , G03F7/3021 , H01L21/6715 , H01L21/67184 , H01L21/67225
Abstract: 린스 노즐(310a∼310e)은, 린스액(326)을 토출하면서 웨이퍼(W) 상을 이동한다. 이 때, 각각의 토출구(317a∼317e)와 웨이퍼(W)에 도포되어 있는 현상액(350) 또는 웨이퍼(W) 상의 린스액(326)이 접촉하고 있도록 한다. 이에 따라, 웨이퍼(W)에 주는 충격을 완화시킬 수 있어, 패턴 무너짐을 피할 수 있다. 또한, 린스 노즐 (310a)의 앞면에 현상액(350)에 밀어낼 수 있다.
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