公开(公告)号：KR1020010020883A

公开(公告)日：2001-03-15

申请号：KR1020000027737

申请日：2000-05-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하세이마사아키 ,  고바야시쥰이치 ,  홈마겐지

IPC: H01L21/316

Abstract: PURPOSE: An oxidizing apparatus is provided to reduce an ozone exhausted from a lamp house to a heat exhaust system. CONSTITUTION: This apparatus comprises a treatment container receiving a body to be treated, treated gas-supplying means (a gas-supplying pipe) for supplying the treatment gas containing ozone to the treatment container, and a lamp house(20) provided on the treatment container via a ultraviolet-ray transmitting window in which a ultraviolet-ray lamp is received, and the ozone in the treatment container is irradiated with the ultraviolet-rays from the ultraviolet-ray lamp to be decomposed so as to oxidize the body to be treated. An inlet port(22) and an exhaust port(23) for circulating cooling air are provided on the lamp house(20), and ozone decomposing means is provided in a thermal exhaust system(50) connected to the exhaust port(23).

Abstract translation: 目的：提供一种氧化装置，用于减少从灯室排出到臭氧排放系统的臭氧。 构成：该装置包括容纳被处理体的处理容器，向处理容器供给含有臭氧的处理气体的处理气体供给装置（供气管）和设置在处理容器上的灯室（20） 容器，其中接收紫外线灯的紫外线透射窗口，并且处理容器中的臭氧被来自紫外线灯的紫外线照射以被分解以氧化待处理的身体 。 在灯室（20）上设置有用于循环冷却空气的入口（22）和排气口（23），臭氧分解装置设置在与排气口（23）连接的热排气系统（50）中。

公开(公告)号：KR100633891B1

公开(公告)日：2006-10-13

申请号：KR1020047012091

申请日：2003-02-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도리야다이스케 ,  홈마겐지 ,  츠카다아키히코 ,  시모무라고지

IPC: H01L21/02

CPC classification number: G05D7/0635 ,  C23C16/4402 ,  C23C16/4481 ,  Y10T137/0419 ,  Y10T137/4259 ,  Y10T137/7759

Abstract: 본 발명은 기화된 액체 소스를 사용하는 성막 처리 장치에 있어서, 액체 소스의 유량을 제어하는 매스 플로우 컨트롤러(15) 등의 유량 제어기기의 유량 제어 정밀도의 확인을, 해당 유량 제어기기를 배관으로부터 분리하거나 배관을 분해하지 않고 실행할 수 있는 구성을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다. 액체 소스 공급로(12)로 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급로(32)의 일부를 바이패스하는 바이패스로(41)를 설치하고, 거기에 MFM(42) 등의 유량계를 설치한다. MFM(42)을 통해서 세정액을 매스 플로우 컨트롤러(15)로 흐르게 하고, MFM(42)에 의해서 검출된 세정액 유량과 매스 플로우 컨트롤러(15)에 설정된 목표 유량을 비교함으로써, 매스 플로우 컨트롤러(15)가 정상적으로 동작하고 있는가 아닌가를 확인한다.
매스 플로우 컨트롤러, 액체 소스, 세정액

公开(公告)号：KR1020040074140A

公开(公告)日：2004-08-21

申请号：KR1020047012091

申请日：2003-02-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도리야다이스케 ,  홈마겐지 ,  츠카다아키히코 ,  시모무라고지

IPC: H01L21/02

CPC classification number: G05D7/0635 ,  C23C16/4402 ,  C23C16/4481 ,  Y10T137/0419 ,  Y10T137/4259 ,  Y10T137/7759

Abstract: 본 발명은 기화된 액체 소스를 사용하는 성막 처리 장치에 있어서, 액체 소스의 유량을 제어하는 매스 플로우 컨트롤러(15) 등의 유량 제어기기의 유량 제어 정밀도의 확인을, 해당 유량 제어기기를 배관으로부터 분리하거나 배관을 분해하지 않고 실행할 수 있는 구성을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다. 액체 소스 공급로(12)로 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급로(32)의 일부를 바이패스하는 바이패스로(41)를 설치하고, 거기에 MFM(42) 등의 유량계를 설치한다. MFM(42)을 통해서 세정액을 매스 플로우 컨트롤러(15)로 흐르게 하고, MFM(42)에 의해서 검출된 세정액 유량과 매스 플로우 컨트롤러(15)에 설정된 목표 유량을 비교함으로써, 매스 플로우 컨트롤러(15)가 정상적으로 동작하고 있는가 아닌가를 확인한다.