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公开(公告)号：KR1020160110207A
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：KR1020160028700
申请日：2016-03-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01J37/32311 , H01J37/32229 , H01J37/32917
Abstract: (과제) 마이크로파방전방식에의해생성되는플라즈마의안정성을정합기능의개량에의해향상시키는것. (해결수단) 이마이크로파자동정합기(60)는, 4E 튜너로서구성되고, 반사계수측정부(114), 정합제어부(116), 설정부(118) 및구동부(120)를구비한다. 정합제어부(116)는, 반사계수측정부(114)에서주어지는반사계수의측정치에근거하여, 혹은반사계수의측정치를무시한독립적인제어루틴에따라서, 가동단락판 Q~Q의위치를제어하기위한제어신호를구동부(120)에준다. 구동부(120)는, 전동기 M, M가발생시키는구동력을각각 2조의가동단락판 (Q, Q), (Q, Q)에전하는 2계통의전동기구 J, J와, 정합제어부(116)로부터의제어신호에따라서전동기 M, M를전기적으로구동하는 2계통의드라이버회로 DR, DR를갖고있다.
Abstract translation: 本发明的目的是通过改善匹配功能来提高由微波放电方式产生的等离子体的稳定性。 微波自动匹配器（60）被配置为4E调谐器，包括反射系数测量单元（114），匹配控制单元（116），设置单元（118）和驱动单元（120）。 匹配控制单元（116）根据从反射系数测量单元（114）接收到的反射系数的测量值或者开启控制信号，发送用于控制作为操作短路板的Q1至Q4的位置的控制信号 独立控制程序的基础忽略了反射系数的测量值。 驱动单元（120）包括：J1和J2，它们是作为电动马达产生的M1和M2产生的驱动力的2系统马达工具到2对操作短路板（Q1，Q2）， （Q3，Q4）; 和DR1和DR2，它们是根据来自匹配控制单元（116）的控制信号对M1和M2的电动机进行电驱动的2系统驱动电路。
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公开(公告)号：KR1020140137385A
公开(公告)日：2014-12-02
申请号：KR1020147026585
申请日：2013-03-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , C23C16/511 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H03B9/10
CPC classification number: H01J37/3405 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H01J37/32311 , H01J37/32935 , H01J2237/332 , H03B9/10 , H03L1/00 , H03L5/02 , H05H2001/4682
Abstract: 플라즈마 처리 장치(11)는, 그 내부에서 플라즈마에 의한 처리를 하는 처리 용기(12)와, 고주파를 발진하는 고주파 발진기를 가지며, 처리 용기(12) 밖에 배치되어 고주파를 발생시키는 고주파 발생기를 포함하고, 고주파 발생기에 의해 발생한 고주파를 이용하여 처리 용기(12) 내에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생 기구(19)와, 고주파 발진기의 상태를 판단하는 판단 기구와, 판단 기구에 의한 판단 결과를 통지하는 통지 기구를 구비한다.
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公开(公告)号：KR101981361B1
公开(公告)日：2019-05-22
申请号：KR1020147026585
申请日：2013-03-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , C23C16/511 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H03B9/10
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020140125807A
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：KR1020147023376
申请日：2013-01-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01Q13/22
CPC classification number: H01J37/32311 , C23C16/511 , C23C16/52 , H01J37/32201 , H01J37/3222 , H01J37/32229 , H01J37/32302 , H01J37/3405 , H01J37/3444 , H01J2237/327 , H01J2237/3321 , H01J2237/334 , H01Q21/064 , H01Q21/20 , H05H1/46 , H05H2001/4622 , H05H2001/4682
Abstract: 플라즈마 처리 장치(11)는, 그 내부에서 플라즈마에 의한 처리를 행하는 처리 용기와, 처리 용기 밖에 배치되어 고주파를 발생시키는 마이크로파 발생기(41)를 포함한다. 마이크로파 발생기(41)에 의해 발생시킨 고주파를 이용하여 처리 용기 내에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생 기구를 구비한다. 여기서, 마이크로파 발생기(41)는, 고주파를 발진하는 마그네트론(42)과, 마그네트론(42)이 발진하는 기본 주파수와 동일한 주파수로서 이주파 성분을 감소시킨 신호를 마그네트론(42)에 주입하는 주입 수단으로서의 분기 회로(61)를 포함한다.
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公开(公告)号：KR102242433B1
公开(公告)日：2021-04-19
申请号：KR1020140089101
申请日：2014-07-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065
Abstract: [과제] 고주파발진기의이상발진을적절히판단하는것을과제로한다. [해결수단] 플라즈마처리장치는, 하나의실시양태에있어서, 처리용기와, 고주파발진기를지니고, 이고주파발진기에의해서발진되는고주파를이용하여처리용기내에플라즈마를발생시키는플라즈마발생기구와, 고주파발진기에부여되는임피던스를조정하는임피던스조정기와, 임피던스조정기에의해서조정되는임피던스를변경하고, 임피던스가변경된상태에서고주파발진기에의해서발진되는고주파인기본파의중심주파수의성분과, 기본파의중심주파수를중심으로하는정해진주파수대역의양단에존재하는주변주파수의성분에기초하여, 고주파발진기의이상발진을판단하는판단부를구비했다.
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公开(公告)号：KR102009541B1
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：KR1020147023376
申请日：2013-01-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01Q13/22
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公开(公告)号：KR1020150040918A
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：KR1020157003473
申请日：2013-05-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01J37/32128 , H01J37/3211 , H01J37/32119 , H01J37/32192 , H01J37/32229 , H01J37/32256 , H01J2237/327 , H01J2237/3321 , H01J2237/334 , H05H1/46 , H05H2001/4622
Abstract: 플라즈마처리장치는, 그내부에서플라즈마에의한처리를행하는처리용기와, 처리용기밖에배치되어고주파를발생시키는고주파발생기를포함하고, 고주파발생기에의해발생시킨고주파를이용하여처리용기내에플라즈마를발생시키는플라즈마발생기구를구비한다. 고주파발생기는, 고주파를발진하는고주파발진기와, 고주파발진기에전력을공급하는전원부와, 고주파발진기에의해발진된고주파를부하측이되는처리용기측에전파하는도파로와, 고주파에의해도파로내에형성되는전압정재파의전압정재파비를전원부로부터공급되는전력에따라가변으로하는전압정재파비가변기구(61)를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020150010610A
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：KR1020140089101
申请日：2014-07-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32183 , H01J37/32192 , H01J37/32311 , H01J37/32935 , H05H2001/4682
Abstract: [과제] 고주파 발진기의 이상 발진을 적절히 판단하는 것을 과제로 한다.
[해결수단] 플라즈마 처리 장치는, 하나의 실시양태에 있어서, 처리 용기와, 고주파 발진기를 지니고, 이 고주파 발진기에 의해서 발진되는 고주파를 이용하여 처리 용기 내에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생 기구와, 고주파 발진기에 부여되는 임피던스를 조정하는 임피던스 조정기와, 임피던스 조정기에 의해서 조정되는 임피던스를 변경하고, 임피던스가 변경된 상태에서 고주파 발진기에 의해서 발진되는 고주파인 기본파의 중심 주파수의 성분과, 기본파의 중심 주파수를 중심으로 하는 정해진 주파수 대역의 양단에 존재하는 주변 주파수의 성분에 기초하여, 고주파 발진기의 이상 발진을 판단하는 판단부를 구비했다.Abstract translation: 提供本发明以适当地确定高频振荡器的异常振荡。 根据本发明实施例的等离子体处理装置包括：处理容器; 等离子体发生设备，其具有高频振荡器，并且通过使用由高频振荡器振荡的高频在处理容器中产生等离子体; 阻抗调节器，其调节给予高频振荡器的阻抗; 以及确定单元，其改变由所述阻抗调节器调节的阻抗，并且基于在改变的阻抗状态下由所述高频振荡器振荡的高频的基本频率的中心频率的分量来确定所述高频振荡器的异常振荡，以及 存在于基本频率的中心频率附近的预定频带的两端的外围频率的分量。
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