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公开(公告)号：KR1020150007251A
公开(公告)日：2015-01-20
申请号：KR1020140086137
申请日：2014-07-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , C23C16/511
CPC classification number: H01J37/32522 , H01J37/3222
Abstract: 본 발명은 2종류의 상이한 마이크로파를 적절하게 전송하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 마이크로파 플라즈마 처리 장치는, 하나의 실시형태에 있어서, 냉각 플레이트와 중간 금속체를 연속해서 관통하여 중간 금속체에 있어서 중심측의 부분에 형성되는 관통 구멍에 설치되는 동축 도파관으로서, 내측 도체와 중간 도체와 외측 도체를 갖고, 중간 도체의 중공 부분에 설치되는 내측 도체와 중간 도체 사이의 공간과, 외측 도체의 중공 부분에 설치되는 중간 도체와 외측 도체 사이의 공간이 각각 마이크로파를 전송하며, 내측 도체의 외경과 중간 도체의 내경의 차보다도, 외측 도체의 내경과 중간 도체의 외경의 차가 커지는 동축 도파관을 갖는다.Abstract translation: 本发明的目的是适当地传输两种不同类型的微波。 根据本发明的实施例的本发明的微波等离子体处理装置涉及一种同轴波导，其安装在通过穿透冷却的相对于中间金属形成在中心侧的一部分的贯通孔中 板和中间金属连续地具有内部导体，中间导体和外部导体。 同轴波导将微波安装在安装在中间导体的中空孔内部的内部导体与中间导体之间的空间中，以及安装在外部导体的中空孔中的中间导体之间的空间以及外部导体 导体。 同轴波导具有外部导体的内径和中间导体的外径之间的差异大于内部导体的外径和中间导体的内径之间的差。
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公开(公告)号：KR1020140137385A
公开(公告)日：2014-12-02
申请号：KR1020147026585
申请日：2013-03-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , C23C16/511 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H03B9/10
CPC classification number: H01J37/3405 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H01J37/32311 , H01J37/32935 , H01J2237/332 , H03B9/10 , H03L1/00 , H03L5/02 , H05H2001/4682
Abstract: 플라즈마 처리 장치(11)는, 그 내부에서 플라즈마에 의한 처리를 하는 처리 용기(12)와, 고주파를 발진하는 고주파 발진기를 가지며, 처리 용기(12) 밖에 배치되어 고주파를 발생시키는 고주파 발생기를 포함하고, 고주파 발생기에 의해 발생한 고주파를 이용하여 처리 용기(12) 내에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생 기구(19)와, 고주파 발진기의 상태를 판단하는 판단 기구와, 판단 기구에 의한 판단 결과를 통지하는 통지 기구를 구비한다.
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公开(公告)号：KR1020160110207A
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：KR1020160028700
申请日：2016-03-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01J37/32311 , H01J37/32229 , H01J37/32917
Abstract: (과제) 마이크로파방전방식에의해생성되는플라즈마의안정성을정합기능의개량에의해향상시키는것. (해결수단) 이마이크로파자동정합기(60)는, 4E 튜너로서구성되고, 반사계수측정부(114), 정합제어부(116), 설정부(118) 및구동부(120)를구비한다. 정합제어부(116)는, 반사계수측정부(114)에서주어지는반사계수의측정치에근거하여, 혹은반사계수의측정치를무시한독립적인제어루틴에따라서, 가동단락판 Q~Q의위치를제어하기위한제어신호를구동부(120)에준다. 구동부(120)는, 전동기 M, M가발생시키는구동력을각각 2조의가동단락판 (Q, Q), (Q, Q)에전하는 2계통의전동기구 J, J와, 정합제어부(116)로부터의제어신호에따라서전동기 M, M를전기적으로구동하는 2계통의드라이버회로 DR, DR를갖고있다.
Abstract translation: 本发明的目的是通过改善匹配功能来提高由微波放电方式产生的等离子体的稳定性。 微波自动匹配器（60）被配置为4E调谐器，包括反射系数测量单元（114），匹配控制单元（116），设置单元（118）和驱动单元（120）。 匹配控制单元（116）根据从反射系数测量单元（114）接收到的反射系数的测量值或者开启控制信号，发送用于控制作为操作短路板的Q1至Q4的位置的控制信号 独立控制程序的基础忽略了反射系数的测量值。 驱动单元（120）包括：J1和J2，它们是作为电动马达产生的M1和M2产生的驱动力的2系统马达工具到2对操作短路板（Q1，Q2）， （Q3，Q4）; 和DR1和DR2，它们是根据来自匹配控制单元（116）的控制信号对M1和M2的电动机进行电驱动的2系统驱动电路。
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公开(公告)号：KR101645118B1
公开(公告)日：2016-08-02
申请号：KR1020150001147
申请日：2015-01-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46
CPC classification number: C23C16/511 , G01R23/02 , H01J37/32192 , H01J37/32201 , H01J37/32302 , H01J37/32311 , H03L7/26
Abstract: 본발명은발진주파수의조정의성공여부를적절히판단하는것을목적으로한다. 본발명에의하면, 플라즈마처리장치는, 처리용기와, 마이크로파발진기를포함하고, 마이크로파발진기에의해발진되는마이크로파를이용하여처리용기내에플라즈마를발생시키는플라즈마생성기구와, 마이크로파발진기에의해발진되는마이크로파의주파수인발진주파수를소정의주파수로조정하는조정부와, 조정부에의해소정의주파수로조정된발진주파수를검출하는검출부와, 검출부에의해검출된발진주파수를이용하거나, 또는, 상기발진주파수와소정의주파수의차분에따라변동하는파라미터를이용하여, 조정부에의한발진주파수의조정의성공여부를판정하는판정부를구비하였다.
Abstract translation: 公开了一种包括处理容器，等离子体产生机构，调节单元，检测单元和确定单元的等离子体处理装置。 等离子体产生机构包括微波振荡器，并使用由微波振荡器振荡的微波在处理容器内产生等离子体。 调节单元将对应于由微波振荡器振荡的微波的频率的振荡频率调节到预定频率。 检测单元通过调节单元检测调节到预定频率的振荡频率。 确定单元使用由检测单元检测到的振荡频率或使用根据振荡频率和预定频率之间的差异而改变的参数来确定调节单元调节振荡频率的成功/失败。
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公开(公告)号：KR101981361B1
公开(公告)日：2019-05-22
申请号：KR1020147026585
申请日：2013-03-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , C23C16/511 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H03B9/10
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020150082126A
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：KR1020150001147
申请日：2015-01-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46
CPC classification number: C23C16/511 , G01R23/02 , H01J37/32192 , H01J37/32201 , H01J37/32302 , H01J37/32311 , H03L7/26 , H05H1/46 , H05H2001/4682
Abstract: 본발명은발진주파수의조정의성공여부를적절히판단하는것을목적으로한다. 본발명에의하면, 플라즈마처리장치는, 처리용기와, 마이크로파발진기를포함하고, 마이크로파발진기에의해발진되는마이크로파를이용하여처리용기내에플라즈마를발생시키는플라즈마생성기구와, 마이크로파발진기에의해발진되는마이크로파의주파수인발진주파수를소정의주파수로조정하는조정부와, 조정부에의해소정의주파수로조정된발진주파수를검출하는검출부와, 검출부에의해검출된발진주파수를이용하거나, 또는, 상기발진주파수와소정의주파수의차분에따라변동하는파라미터를이용하여, 조정부에의한발진주파수의조정의성공여부를판정하는판정부를구비하였다.
Abstract translation: 本发明的目的是适当地确定振荡频率的调整是否成功。 根据本发明，等离子体处理装置包括：等离子体产生装置，其包括处理容器和微波振荡器，并且通过使用由微波振荡器振荡的微波产生处理容器内的等离子体; 调整部，将由微波振荡器振荡的微波的频率的振荡频率调整为规定频率; 检测部，其通过所述调整部检测被调整为规定频率的振荡频率; 以及确定部分，通过使用由检测部分检测到的振荡频率或者通过使用根据振荡频率和预定频率之间的差变化的参数来确定调整部分是否调整振荡频率是否成功。
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公开(公告)号：KR1020150044821A
公开(公告)日：2015-04-27
申请号：KR1020140139871
申请日：2014-10-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065
CPC classification number: H05H1/46 , H01J37/32192 , H01J37/3222 , H01J37/32229 , H01J37/32935 , H01J37/3299 , H05H2001/4607
Abstract: [과제] 복수의도파관의각각에분배된마이크로파를안테나로부터방사하는경우의마이크로파의분배정밀도를향상시키는것을과제로한다. [해결수단] 마이크로파플라즈마처리장치는, 처리공간을구획하는처리용기와, 처리공간에도입되는처리가스의플라즈마를생성하기위한마이크로파를발생하는마이크로파발생기와, 가변의분배비율을이용하여마이크로파를복수의도파관에분배하는분배기와, 처리공간을밀폐하도록처리용기에설치되며, 분배기에의해서복수의도파관의각각에분배되는마이크로파를처리공간에방사하는안테나와, 분배기에의해서복수의도파관의각각에분배되는마이크로파의전력을모니터하는모니터부와, 모니터부에의해서모니터된마이크로파의전력의비율과미리지정된분배비율의차분에기초하여, 분배기에의한마이크로파의분배에이용되는분배비율을보정하는분배비율제어부를구비했다.
Abstract translation: 本发明的目的是在从天线辐射分布到每个波导管的微波时提高微波的分布精度。 微波等离子体处理装置包括提供处理空间的处理容器; 微波发生器产生微波以产生送到处理空间的处理气体的等离子体; 基于可变分配率将微波分布到波导管的分配器; 天线安装在处理容器中以封闭处理空间，并将由分配器分配给每个波导的微波辐射到处理空间; 监视器单元监视分配器分配给波导的微波功率; 以及分配率控制单元，其基于由所述监视单元监视的所述微波的功率的比率与预设分配率，校正由所述分配器用于分配所述微波的分配率。
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公开(公告)号：KR1020140125807A
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：KR1020147023376
申请日：2013-01-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01Q13/22
CPC classification number: H01J37/32311 , C23C16/511 , C23C16/52 , H01J37/32201 , H01J37/3222 , H01J37/32229 , H01J37/32302 , H01J37/3405 , H01J37/3444 , H01J2237/327 , H01J2237/3321 , H01J2237/334 , H01Q21/064 , H01Q21/20 , H05H1/46 , H05H2001/4622 , H05H2001/4682
Abstract: 플라즈마 처리 장치(11)는, 그 내부에서 플라즈마에 의한 처리를 행하는 처리 용기와, 처리 용기 밖에 배치되어 고주파를 발생시키는 마이크로파 발생기(41)를 포함한다. 마이크로파 발생기(41)에 의해 발생시킨 고주파를 이용하여 처리 용기 내에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생 기구를 구비한다. 여기서, 마이크로파 발생기(41)는, 고주파를 발진하는 마그네트론(42)과, 마그네트론(42)이 발진하는 기본 주파수와 동일한 주파수로서 이주파 성분을 감소시킨 신호를 마그네트론(42)에 주입하는 주입 수단으로서의 분기 회로(61)를 포함한다.
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公开(公告)号：KR102242433B1
公开(公告)日：2021-04-19
申请号：KR1020140089101
申请日：2014-07-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , H01L21/3065
Abstract: [과제] 고주파발진기의이상발진을적절히판단하는것을과제로한다. [해결수단] 플라즈마처리장치는, 하나의실시양태에있어서, 처리용기와, 고주파발진기를지니고, 이고주파발진기에의해서발진되는고주파를이용하여처리용기내에플라즈마를발생시키는플라즈마발생기구와, 고주파발진기에부여되는임피던스를조정하는임피던스조정기와, 임피던스조정기에의해서조정되는임피던스를변경하고, 임피던스가변경된상태에서고주파발진기에의해서발진되는고주파인기본파의중심주파수의성분과, 기본파의중심주파수를중심으로하는정해진주파수대역의양단에존재하는주변주파수의성분에기초하여, 고주파발진기의이상발진을판단하는판단부를구비했다.
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公开(公告)号：KR102009541B1
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：KR1020147023376
申请日：2013-01-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01Q13/22
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