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公开(公告)号：KR1020160110207A
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：KR1020160028700
申请日：2016-03-10
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01J37/32311 , H01J37/32229 , H01J37/32917
Abstract: (과제) 마이크로파방전방식에의해생성되는플라즈마의안정성을정합기능의개량에의해향상시키는것. (해결수단) 이마이크로파자동정합기(60)는, 4E 튜너로서구성되고, 반사계수측정부(114), 정합제어부(116), 설정부(118) 및구동부(120)를구비한다. 정합제어부(116)는, 반사계수측정부(114)에서주어지는반사계수의측정치에근거하여, 혹은반사계수의측정치를무시한독립적인제어루틴에따라서, 가동단락판 Q~Q의위치를제어하기위한제어신호를구동부(120)에준다. 구동부(120)는, 전동기 M, M가발생시키는구동력을각각 2조의가동단락판 (Q, Q), (Q, Q)에전하는 2계통의전동기구 J, J와, 정합제어부(116)로부터의제어신호에따라서전동기 M, M를전기적으로구동하는 2계통의드라이버회로 DR, DR를갖고있다.
Abstract translation: 本发明的目的是通过改善匹配功能来提高由微波放电方式产生的等离子体的稳定性。 微波自动匹配器（60）被配置为4E调谐器，包括反射系数测量单元（114），匹配控制单元（116），设置单元（118）和驱动单元（120）。 匹配控制单元（116）根据从反射系数测量单元（114）接收到的反射系数的测量值或者开启控制信号，发送用于控制作为操作短路板的Q1至Q4的位置的控制信号 独立控制程序的基础忽略了反射系数的测量值。 驱动单元（120）包括：J1和J2，它们是作为电动马达产生的M1和M2产生的驱动力的2系统马达工具到2对操作短路板（Q1，Q2）， （Q3，Q4）; 和DR1和DR2，它们是根据来自匹配控制单元（116）的控制信号对M1和M2的电动机进行电驱动的2系统驱动电路。
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公开(公告)号：KR102009541B1
公开(公告)日：2019-08-09
申请号：KR1020147023376
申请日：2013-01-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01Q13/22
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公开(公告)号：KR1020150040918A
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：KR1020157003473
申请日：2013-05-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01J37/32128 , H01J37/3211 , H01J37/32119 , H01J37/32192 , H01J37/32229 , H01J37/32256 , H01J2237/327 , H01J2237/3321 , H01J2237/334 , H05H1/46 , H05H2001/4622
Abstract: 플라즈마처리장치는, 그내부에서플라즈마에의한처리를행하는처리용기와, 처리용기밖에배치되어고주파를발생시키는고주파발생기를포함하고, 고주파발생기에의해발생시킨고주파를이용하여처리용기내에플라즈마를발생시키는플라즈마발생기구를구비한다. 고주파발생기는, 고주파를발진하는고주파발진기와, 고주파발진기에전력을공급하는전원부와, 고주파발진기에의해발진된고주파를부하측이되는처리용기측에전파하는도파로와, 고주파에의해도파로내에형성되는전압정재파의전압정재파비를전원부로부터공급되는전력에따라가변으로하는전압정재파비가변기구(61)를포함한다.
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公开(公告)号：KR100630792B1
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：KR1020050013416
申请日：2005-02-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32082 , H01J37/32935
Abstract: 플라즈마의 발생을 원활하게 실행함과 동시에, 피처리체에 대한 대미지(damage)를 한층 더 경감시키고, 고주파 전원, 정합기 등으로의 부하를 한층 더 경감시킨다.
처리실내에 배치되며 피처리체가 탑재되는 하부전극(4)과, 처리실내에서 하부전극에 대향하는 위치에 배치되는 상부전극(21)과, 상부전극에 고주파 전력을 인가하는 제 1 고주파 발신기(29)와, 하부전극에 고주파 전력을 인가하는 제 2 고주파 발진기(18)와, 각 고주파 발진기로부터의 출력을 각각, 피처리체의 처리를 하기 위한 설정 레벨까지, 적어도 3단계 이상 단계적으로 상승시키는 제어기(20)를 구비하고, 제어기는 고주파 전력을 설정 레벨까지 단계적으로 상승시키는 과정에서, 제 2 고주파 발신기로부터의 출력이 제 1 고주파 발신기로부터의 출력보다도 먼저 상승하도록 각 고주파 발신기의 출력의 상승 타이밍을 제어한다.
플라즈마 처리장치-
公开(公告)号：KR1020150046734A
公开(公告)日：2015-04-30
申请号：KR1020140140615
申请日：2014-10-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , H05H1/34 , H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/6831 , H01J37/32192 , H01J37/32311 , H01J37/32577 , H01J37/32715 , H01J37/32724 , H01L21/67103
Abstract: 마이크로파에의해처리가스를여기시키는플라즈마처리장치가제공된다. 이플라즈마처리장치에서는, 탑재대의정전척 내에히터가마련되어있다. 히터는필터유닛및 봉형상의급전체를거쳐서히터전원에접속되어있다. 급전체는절연체로구성된통 형상부의내공에통과되고있다. 또한, 통형상부를거쳐서전파하는마이크로파를억제하는초크부가급전체와통 형상부의사이에마련되어있다. 초크부는도전성을갖고, 제 1 부분및 제 2 부분을포함하고있다. 제 1 부분은급전체로부터그 급전체의긴 방향에교차하는방향으로연장되고있다. 제 2 부분은통 형상을갖고있고, 통형상부와급전체의사이에있어서제 1 부분의주연으로부터연장되고있다.
Abstract translation: 提供了一种通过微波激发处理气体的等离子体处理装置。 等离子体处理装置包括：安装台的静电卡盘中的加热器。 加热器通过棒状的供电体和过滤器单元连接到加热器电源。 供电体通过由绝缘体制成的管形成部分的内孔。 而且，在电源主体和管形成部之间准备防止由管形成部传播的微波的扼流部。 扼流部件具有导电性并且包括第一部分和第二部分。 第一部分从电源部分延伸到与电源部分长方向有关的方向。 第二部分具有管状并且在第一部分的周边部分在管形成部分和电源部分之间延伸。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020140137385A
公开(公告)日：2014-12-02
申请号：KR1020147026585
申请日：2013-03-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , C23C16/511 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H03B9/10
CPC classification number: H01J37/3405 , C23C16/511 , H01J37/32192 , H01J37/32311 , H01J37/32935 , H01J2237/332 , H03B9/10 , H03L1/00 , H03L5/02 , H05H2001/4682
Abstract: 플라즈마 처리 장치(11)는, 그 내부에서 플라즈마에 의한 처리를 하는 처리 용기(12)와, 고주파를 발진하는 고주파 발진기를 가지며, 처리 용기(12) 밖에 배치되어 고주파를 발생시키는 고주파 발생기를 포함하고, 고주파 발생기에 의해 발생한 고주파를 이용하여 처리 용기(12) 내에 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 발생 기구(19)와, 고주파 발진기의 상태를 판단하는 판단 기구와, 판단 기구에 의한 판단 결과를 통지하는 통지 기구를 구비한다.
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公开(公告)号：KR1020060042958A
公开(公告)日：2006-05-15
申请号：KR1020050013416
申请日：2005-02-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32082 , H01J37/32935
Abstract: 플라즈마의 발생을 원활하게 실행함과 동시에, 피처리체에 대한 대미지(damage)를 한층 더 경감시키고, 고주파 전원, 정합기 등으로의 부하를 한층 더 경감시킨다.
처리실내에 배치되며 피처리체가 탑재되는 하부전극(4)과, 처리실내에서 하부전극에 대향하는 위치에 배치되는 상부전극(21)과, 상부전극에 고주파 전력을 인가하는 제 1 고주파 발신기(29)와, 하부전극에 고주파 전력을 인가하는 제 2 고주파 발진기(18)와, 각 고주파 발진기로부터의 출력을 각각, 피처리체의 처리를 하기 위한 설정 레벨까지, 적어도 3단계 이상 단계적으로 상승시키는 제어기(20)를 구비하고, 제어기는 고주파 전력을 설정 레벨까지 단계적으로 상승시키는 과정에서, 제 2 고주파 발신기로부터의 출력이 제 1 고주파 발신기로부터의 출력보다도 먼저 상승하도록 각 고주파 발신기의 출력의 상승 타이밍을 제어한다.
플라즈마 처리장치Abstract translation: 等离子体的产生可以平稳地进行，对待处理物体的损害进一步减小，并且高频电源和匹配装置上的负载进一步减小。
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公开(公告)号：KR101981361B1
公开(公告)日：2019-05-22
申请号：KR1020147026585
申请日：2013-03-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H05H1/46 , C23C16/511 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H03B9/10
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公开(公告)号：KR1020150046747A
公开(公告)日：2015-04-30
申请号：KR1020140142517
申请日：2014-10-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01J37/32642 , H01J37/32192 , H01J37/32275
Abstract: 마이크로파를이용하는플라즈마처리장치가제공된다. 이장치는탑재대, 포커스링, 제 1 통형상부, 환상부, 제 2 통형상부, 및초크부를구비한다. 포커스링은탑재대의정전척을둘러싸도록고리형상으로연장되어있다. 제 1 통형상부는유전체로구성되고, 포커스링의아래쪽에있어서탑재대의하부전극의외주를따라서연장되고있다. 환상부는유전체로구성되고, 포커스링과제 1 통형상부의사이에마련되어있다. 제 2 통형상부는도전성을갖고, 제 1 통형상부의외주를따라서연장되고있다. 초크부는유전체로구성되고, 포커스링 및환상부를거쳐서제 1 통형상부를전파하는마이크로파를억제한다. 초크부는제 1 통형상부로부터바깥쪽으로돌출하고, 또한, 고리형상으로연장되고있다. 제 2 통형상부는초크부를덮고있다.
Abstract translation: 提供了使用微波的等离子体处理装置。 该装置具有幼苗托盘，聚焦环，第一罐形状单元，环形单元，第二罐形状单元和轴承座单元。 聚焦环被放大成环形以覆盖幼苗托盘的静电卡盘。 第一罐形单元由电介质组成，位于聚焦环下方，并且沿着下电极的外圆周扩大。 环形单元由电介质组成，并且布置在聚焦环和第一罐形状单元之间。 第二罐形状单元具有导电性，并且沿着第一罐形状单元的外周增大。 阻塞单元由电介质组成，并且抑制通过聚焦环和环形单元并扩散第一罐形单元的微波。 轴承座单元从第一罐形单元突出到外部，并且被放大成环形。 第二罐形状单元覆盖轴承座单元。
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