公开(公告)号：KR101596063B1

公开(公告)日：2016-02-19

申请号：KR1020110014687

申请日：2011-02-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후나코시히데오 ,  마루야마미츠아키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021

Abstract: 기판의이면에부착된먼지에기인하는노광시의미스얼라이먼트를방지하고, 기판처리면에서발생한용해생성물등이나오물이기판의이면을오염하는것을방지한다. 기판(G)을회전가능하게유지하는회전베이스(2)와, 회전베이스와함께회전가능하고, 회전베이스에유지된기판의외측둘레부를둘러싸며, 기판의표면상으로부터연속되는액막을형성하기위한둘레조주(助走) 스테이지(3)와, 기판과일정한간극을두고대향하는평면을갖는평면부(4)와, 기판의표면을따라서이동하여, 기판에대한현상액의공급과흡인을동시에행하는노즐헤드(5)를설치한다. 평면부는, 기판이면과일정한간극을두고유지되고, 간극에액체를공급하는복수의액체공급구멍(40)과, 복수의액체공급구멍의사이에끼워지도록형성되고, 액체를흡인배출하기위한흡인배출구멍(41)을포함한다. 액체공급구멍및 흡인배출구멍에접속되는관로(42a, 42b)에설치되는유로개폐밸브(V1, V2)를제어부(65)에의해개폐제어한다.

公开(公告)号：KR1020110096493A

公开(公告)日：2011-08-30

申请号：KR1020110014687

申请日：2011-02-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후나코시히데오 ,  마루야마미츠아키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70916 ,  H01L21/0274

Abstract: 기판의 이면에 부착된 먼지에 기인하는 노광 시의 미스얼라이먼트를 방지하고, 기판 처리면에서 발생한 용해 생성물 등이나 오물이 기판의 이면을 오염하는 것을 방지한다.
기판(G)을 회전 가능하게 유지하는 회전 베이스(2)와, 회전 베이스와 함께 회전 가능하고, 회전 베이스에 유지된 기판의 외측 둘레부를 둘러싸며, 기판의 표면상으로부터 연속되는 액막을 형성하기 위한 둘레 조주(助走) 스테이지(3)와, 기판과 일정한 간극을 두고 대향하는 평면을 갖는 평면부(4)와, 기판의 표면을 따라서 이동하여, 기판에 대한 현상액의 공급과 흡인을 동시에 행하는 노즐 헤드(5)를 설치한다. 평면부는, 기판 이면과 일정한 간극을 두고 유지되고, 간극에 액체를 공급하는 복수의 액체 공급 구멍(40)과, 복수의 액체 공급 구멍의 사이에 끼워지도록 형성되고, 액체를 흡인 배출하기 위한 흡인 배출 구멍(41)을 포함한다. 액체 공급 구멍 및 흡인 배출 구멍에 접속되는 관로(42a, 42b)에 설치되는 유로 개폐 밸브(V1, V2)를 제어부(65)에 의해 개폐 제어한다.

Abstract translation: 防止由于附着在基板背面上的灰尘而引起的曝光时的错位，防止基板处理面上产生的溶解物或污垢污染基板背面。

公开(公告)号：KR1020090053724A

公开(公告)日：2009-05-27

申请号：KR1020080116222

申请日：2008-11-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  후나코시히데오 ,  이나토미유우이치로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/40 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/683

Abstract: 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로서 표면에 레지스트 패턴이 형성되어 노광 처리되고 현상 처리된 웨이퍼 (W)의 표면을 표면으로 해 유지하는 척 (52)와 척을 수직축 주위에 회전시키는 모터 (53)과 척에 유지된 웨이퍼의 표면으로 향해 레지스트 패턴을 팽윤 시키는 용제증기를 토출하는 토출구멍 (61) 및 그 토출구멍으로부터 토출된 용제 증기를 흡인 가능한 흡인구 (62)를 가지는 처리 노즐 (60)과 처리 노즐을 척에 유지된 웨이퍼의 주변으로부터 중앙부 측에 이동시키는 이동 기구 (54)를 구비하고 웨이퍼를 수직축 주위에 회전시킴과 동시에, 토출구멍으로부터 용제 증기를 토출하면서 처리 노즐을 웨이퍼의 주변으로부터 중앙부 측에 향해 이동 시켜 웨이퍼의 표면에 용제 증기를 나선 형상에 공급하는 용제의 무용지물을 생략할 수가 있음과 동시 에 용제 증기의 임펙트압을 높인 스무딩 처리를 용이하게 하고 또한 용제 증기의 노즐 외부에의 누설을 억제해 처리 효율의 향위를 도모할 수 있는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR102004556B1

公开(公告)日：2019-07-26

申请号：KR1020140131335

申请日：2014-09-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이세키도모히로 ,  후나코시히데오 ,  도츠카세이야

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/302

公开(公告)号：KR1020150068908A

公开(公告)日：2015-06-22

申请号：KR1020140176046

申请日：2014-12-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후나코시히데오 ,  구보타미노루

IPC: H01L21/02

CPC classification number: B05B9/03 ,  B05B12/081 ,  B05B15/55 ,  H01L21/6715

Abstract: 본발명의과제는, 처리액을피처리체에공급하는데 있어서, 장치의복잡화를억제하면서, 상기처리액을빠르게토출시키는것이다. 레지스트액이저류된저류실(23)과상기레지스트액을토출하는노즐(21)을카트리지(12)로서일체화함과함께, 대기부(13)로부터카트리지(12)를웨이퍼(W)의바로위의위치로반송하여, 이카트리지(12)로부터레지스트액을직접토출한다. 그리고, 카트리지(12)에레지스트액을보충하는보충구(28)에대해, 레지스트액을토출하는노즐(21)과는별도로형성한다. 또한, 카트리지(12)가놓이는대기부(13)에있어서, 카트리지(12)에레지스트액을보충하는구성을설치한다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种用于供应液体的装置，其能够在将处理液体供给到待处理物体的同时抑制装置的复杂化而快速排出处理液。 一种其中存储有抗蚀剂液体的储存室（23），并且用于排出抗蚀剂液体的喷嘴（21）通过盒（12）一体化，并且盒（12）返回到晶片（W）正上方的位置， 从待机单元（13），因此抗蚀剂液体直接从盒（12）排出。 此外，用于向盒（12）补充抗蚀剂液体的补充孔（28）与用于排出抗蚀剂液体的喷嘴（21）分开形成。 此外，在其中放置盒（12）的备用单元（13）中，安装用于用抗蚀剂液体补充盒（12）的构造。

公开(公告)号：KR1020150040220A

公开(公告)日：2015-04-14

申请号：KR1020140131335

申请日：2014-09-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이세키도모히로 ,  후나코시히데오 ,  도츠카세이야

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/302

CPC classification number: B01D19/0063 ,  B01D19/0036

Abstract: [과제] 미소기포를필터로부터제거함으로써필터의성능을개선하는것이가능한기포제거방법을제공한다. [해결수단] 기포제거방법은, 공급원으로부터의처리액의탈기를행하고고탈기액을작성하는스텝(고탈기액작성)과, 작성된고탈기액을, 제1 처리액유량으로펌프장치(P1)로부터필터장치(F1)에공급하는스텝(임시통액)과, 고탈기액을, 제1 처리액유량보다큰 제2 처리액유량으로펌프장치(P1)로부터필터장치(F1)에공급하는스텝(초기통액)과, 펌프장치(P1)로부터필터장치(F1)로고탈기액을정해진시간흘린채로하는스텝(통액)을포함한다.

Abstract translation: 本发明提供从过滤器除去细小气泡的方法，从而提高过滤器的性能。 [解决方案]去除气泡的方法包括以下步骤：通过对待处理的液体进行脱气来产生高度脱气的液体的步骤; 将来自泵（P1）的高度脱气的液体作为第1处理液体供给到过滤器（F1）的步骤以及将来自泵（P1）的脱气液体供给到过滤器（F1）的步骤为No 2处理液量超过1号处理液; 以及使脱气液体在给定时间内从泵（P1）流到过滤器（F1）的步骤。