公开(公告)号：KR101244096B1

公开(公告)日：2013-03-18

申请号：KR1020097027029

申请日：2008-08-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카스미 ,  후타무라무네히사

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4481

Abstract: 액체 원료의 액적을 통기성 부재에 통과시켜 기화시킬 때, 통기성 부재 전체의 온도를 균일하게 하여, 기화하지 않아서 막힘을 일으키는 것을 방지한다. 액적상의 액체 원료를 도입하는 도입구(354)와, 도입구에 대향하여 배치되며, 통전에 의해 발열되는 전기 저항을 갖는 부재로 구성된 판형상의 통기성 부재(410)와, 통기성 부재를 끼워넣도록 대향하여 배치된 한 쌍의 전극(420,430)과, 한 쌍의 전극을 통해 통기성 부재를 통전시켜 발열시키는 교류 전원(380)과, 도입구로부터의 액적상의 액체 원료를, 발열된 통기성 부재의 내부에 통과시켜 기화시킴으로써 생성된 원료 가스를 외부로 송출하는 송출구(132)를 포함한다.

公开(公告)号：KR1020070112810A

公开(公告)日：2007-11-27

申请号：KR1020077021629

申请日：2006-02-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다케야마다마키 ,  후타무라무네히사

IPC: H01L21/31 ,  H01L21/02 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C16/4412 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/45523 ,  C23C16/45548

Abstract: A substrate processing method by a substrate processing device comprising a processing container for holding in its inside a substrate to be processed, a first gas supply means including a flow rate regulation means, supplying first processing gas to the processing container, a second gas supply means supplying second processing gas to the processing container. The substrate processing method repeats four steps that are a first step for regulating the first processing gas to a first flow rate by the flow rate regulation means to supply the gas in the first direction, a second step for discharging the first processing gas from the processing container, a third step for supplying second processing gas to the processing container, and a fourth step for discharging the second processing gas from the processing container. Between a first step 1 and a first step 2 that is performed next to the first step 1 is a processing gas flow stabilization step.

Abstract translation: 一种基板处理方法，该基板处理装置包括：处理容器，用于在其内部保持要处理的基板;第一气体供给装置，包括流量调节装置，向处理容器供应第一处理气体;第二气体供给装置 向处理容器供应第二处理气体。 基板处理方法重复四个步骤，该步骤是通过流量调节装置将第一处理气体调节到第一流量以在第一方向上供应气体的第一步骤，用于从处理中排出第一处理气体的第二步骤 容器，向处理容器供给第二处理气体的第三工序，以及从处理容器排出第二处理气体的第四工序。 在第一步骤1和第一步骤1之后执行的第一步骤2之间是处理气体流动稳定步骤。

公开(公告)号：KR101240031B1

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：KR1020107022047

申请日：2009-06-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카스미 ,  후타무라무네히사

IPC: C23C16/448 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/31645 ,  C23C16/4481 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/31641

Abstract: 본 발명의 기화기는, 액체 원료의 토출구가 부착물에 의해 폐색되는 것을 방지한다. 이 기화기는, 노즐(320)의 토출구(322)로부터 토출된 액체 원료를 가열된 기화실(360) 내에서 기화시켜 원료 가스를 생성하는 기화기(300)로서, 노즐의 선단부(323)와 기화실 사이에 토출구의 주위를 덮도록 마련된 통형의 피가열 부재(340)와, 토출구의 근방으로부터 캐리어 가스를 분출하는 캐리어 가스 분출구(326)와, 토출구로부터 토출된 액체 원료를 캐리어 가스와 혼합시켜 기화실에 분출시키는 혼합실(344)과, 기화실을 그 외측으로부터 가열하는 제1 가열부[히터(392, 394)]와, 피가열 부재를 그 외측으로부터 가열하는 제2 가열부[히터(342)]를 구비한 것이다.

公开(公告)号：KR100887443B1

公开(公告)日：2009-03-10

申请号：KR1020077021629

申请日：2006-02-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다케야마다마키 ,  후타무라무네히사

IPC: H01L21/31 ,  H01L21/02 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C16/4412 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/45523 ,  C23C16/45548

Abstract: 피처리 기판을 내부에 유지하는 처리 용기와, 제 1 처리 가스를 상기 처리 용기에 공급하는, 유량 조정 수단을 포함하는 제 1 가스 공급 수단과, 제 2 처리 가스를 상기 처리 용기에 공급하는 제 2 가스 공급 수단을 갖는 기판 처리 장치에 의한 기판 처리 방법으로서, 상기 제 1 처리 가스를, 상기 유량 조정 수단에 의해 제 1 유량으로 제어하여 상기 제 1 방향으로 공급하는 제 1 공정과, 상기 처리 용기로부터 당해 제 1 처리 가스를 배출하는 제 2 공정과, 상기 처리 용기에 상기 제 2 처리 가스를 공급하는 제 3 공정과, 상기 처리 용기로부터 당해 제 2 처리 가스를 배출하는 제 4 공정을 반복하여 이루어지고, 첫번째의 제 1 공정과 당해 첫번째의 제 1 공정의 다음에 실시되는 두번째의 제 1 공정 사이에 처리 가스 유량 안정 공정을 마련한 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법이 개시된다.

公开(公告)号：KR1020110025166A

公开(公告)日：2011-03-09

申请号：KR1020107022047

申请日：2009-06-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카스미 ,  후타무라무네히사

IPC: C23C16/448 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/31645 ,  C23C16/4481 ,  H01J37/3244 ,  H01L21/31641

Abstract: 본 발명의 기화기는, 액체 원료의 토출구가 부착물에 의해 폐색되는 것을 방지한다. 이 기화기는, 노즐(320)의 토출구(322)로부터 토출된 액체 원료를 가열된 기화실(360) 내에서 기화시켜 원료 가스를 생성하는 기화기(300)로서, 노즐의 선단부(323)와 기화실 사이에 토출구의 주위를 덮도록 마련된 통형의 피가열 부재(340)와, 토출구의 근방으로부터 캐리어 가스를 분출하는 캐리어 가스 분출구(326)와, 토출구로부터 토출된 액체 원료를 캐리어 가스와 혼합시켜 기화실에 분출시키는 혼합실(344)과, 기화실을 그 외측으로부터 가열하는 제1 가열부[히터(392, 394)]와, 피가열 부재를 그 외측으로부터 가열하는 제2 가열부[히터(342)]를 구비한 것이다.

公开(公告)号：KR1020100065286A

公开(公告)日：2010-06-16

申请号：KR1020107003980

申请日：2008-08-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카스미 ,  고마츠도모히토 ,  후타무라무네히사

IPC: B23K20/08 ,  C23C16/448 ,  H01L21/205

CPC classification number: B23K20/08 ,  C23C16/4486

Abstract: Provided is a vaporizer which has a simple structure with improved thermal efficiency. A vaporizer (8) is provided with a nozzle unit (72) for jetting a liquid material in a mist state; a vaporizing unit (76) having a plurality of vaporizing paths (74) which vaporize the material mist and form a material gas; and an ejection head (78) for sending the material gas to the subsequent stages. The vaporizing unit is provided with a vaporizing unit main body (108) wherein the vaporizing paths are formed; a main body container (110) for storing the vaporizing unit main body (108); a heater (112) for heating the material mist passing through the vaporizing paths; and connecting members (114, 116) arranged on the both end sections of the main body container. The vaporizing unit main body and the main body container are composed of a material having thermal conductivity higher than that of the material constituting the connecting members. The end sections of the main body container and the connecting members are bonded by explosion bonding.

Abstract translation: 提供了一种蒸发器，其具有具有改善的热效率的简单结构。 蒸发器（8）设置有用于喷射处于雾状态的液体材料的喷嘴单元（72） 具有多个气化路径（74）的气化单元（76），其蒸发所述材料雾并形成材料气体; 以及用于将材料气体输送到后续级的喷射头（78）。 蒸发单元设置有蒸发单元主体（108），其中形成蒸发路径; 用于储存蒸发单元主体（108）的主体容器（110）; 加热器（112），用于加热通过蒸发路径的物料雾; 以及布置在主体容器的两端部上的连接构件（114,116）。 蒸发单元主体和主体容器由导热率高于构成连接构件的材料的导热性的材料构成。 主体容器和连接构件的端部通过爆炸粘合结合。

公开(公告)号：KR1020100057760A

公开(公告)日：2010-06-01

申请号：KR1020097027029

申请日：2008-08-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카스미 ,  후타무라무네히사

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4481

Abstract: Clogging due to having a liquid material not vaporized is eliminated by uniformizing temperature of a ventilating member as a whole, at the time of making a liquid material droplet vaporize through the ventilating member. The vaporizer is provided with an inlet (354) for introducing the liquid material droplet; a board-like ventilating member (410) arranged to face the inlet and composed of a member, which generates heat when electricity is carried and has electrical resistance; a pair of electrodes (420, 430) arranged to face each other by sandwiching the ventilating member; an alternating current power supply (380) which carries electricity to the ventilating member through the pair of electrodes and makes the ventilating member generate heat; and an outlet (132) for sending to the outside a material gas generated by passing the liquid material droplet from the inlet through the inside of the ventilating member which generated heat.

Abstract translation: 通过使通气部件的温度通过通气部件蒸发而使整流体的温度均匀化，从而消除了由于液态物质不蒸发而导致的堵塞。 蒸发器设置有用于引入液体物料液滴的入口（354）; 布置成面对入口并由构件组成的板状通风构件（410），其在运载电力时产生热量并具有电阻; 一对电极（420,430），其通过夹住所述通风部件而彼此相对配置; 交流电源（380），其通过所述一对电极向所述通风构件输送电力，并使所述通风构件发热; 以及用于将通过使液体材料液滴从入口通过产生热量的通风构件的内部而产生的材料气体的出口（132）。

公开(公告)号：KR101237138B1

公开(公告)日：2013-02-25

申请号：KR1020107003980

申请日：2008-08-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카스미 ,  고마츠도모히토 ,  후타무라무네히사

IPC: B23K20/08 ,  C23C16/448 ,  H01L21/205

CPC classification number: B23K20/08 ,  C23C16/4486

Abstract: 구조가 간이하고 열효율을 향상시키는 것이 가능한 기화기를 제공한다. 기화기(8)는 액체원료를 미스트형상으로 분출하는 노즐유닛(72)과, 원료 미스트를 기화시켜 원료가스를 형성하는 복수의 기화통로(74)를 갖는 기화 유닛(76)과, 원료가스를 후단으로 송출하는 배출 헤드(78)를 갖는다. 기화유닛은 기화통로가 형성된 기화 유닛 본체(108)와, 기화 유닛 본체(108)를 수용하는 본체 수용 용기(110)와, 기화 통로를 통과하는 원료 미스트를 가열하는 히터(112)와, 본체 수용 용기의 양 단부에 마련된 연결부재(114, 116)를 갖고 있다. 기화 유닛 본체 및 본체 수용 용기는 연결부재의 구성재료보다도 열전도성이 높은 재료에 의해 구성되어 있다. 본체 수용 용기의 단부와 연결부재는 폭발 접합에 의해 접합되어 있다.

公开(公告)号：KR100749378B1

公开(公告)日：2007-08-14

申请号：KR1020067003016

申请日：2005-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와타데루오 ,  아미쿠라마나부 ,  후타무라무네히사 ,  다카하시즈요시

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4486 ,  C23C16/34 ,  C23C16/401 ,  C23C16/405

Abstract: 본 발명의 성막 장치는 액상 원료를 공급하는 원료 공급부와, 액상 원료를 기화하여 원료 가스를 생성하는 기화기와, 원료 가스를 도입하여 피처리 기판상에 박막을 형성하는 성막실을 갖는 성막 장치이다. 상기 기화기는, 원료 공급부로부터 공급된 액상 원료를 분사하는 분무 노즐과, 분무 노즐가 개구하는 일단부 및 폐쇄된 타단부를 갖고, 분무 노즐로부터 분사된 미스트 형상의 액상 원료를 기화하여 원료 가스를 생성하는 기화실과, 기화실을 가열하는 히터와, 분무 노즐의 근방에 있어서 기화실로 개구하고, 기화실로부터 원료 가스를 도출하는 도출구를 구비한다. 상기 기화실의 폐쇄된 타단부는 분무 노즐로부터 분사된 액상 원료가 기화하기 위해 충분한 거리만큼 분무 노즐로부터 떨어져 있다.

公开(公告)号：KR1020060032658A

公开(公告)日：2006-04-17

申请号：KR1020067003016

申请日：2005-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이와타데루오 ,  아미쿠라마나부 ,  후타무라무네히사 ,  다카하시즈요시

IPC: H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4486 ,  C23C16/34 ,  C23C16/401 ,  C23C16/405

Abstract: Disclosed is a film-forming apparatus comprising a raw material supply unit for supplying a liquid raw material, a vaporizer for producing a raw material gas by vaporizing the liquid raw material, and a film-forming chamber wherein a thin film is formed on a substrate to be processed by introducing the raw material gas thereinto. The vaporizer comprises a spray nozzle for spraying the liquid raw material supplied from the raw material supply unit, a vaporizing chamber having an end portion to which the spray nozzle has an opening and the other closed end portion for producing a raw material gas by vaporizing the liquid raw material sprayed thereinto in the form of mist by the spray nozzle, a heater for heating the vaporizing chamber, and an outlet having an opening to the vaporizing chamber near the spray nozzle for letting the raw material gas out from the vaporizing chamber. The closed end portion of the vaporizing chamber is distant enough from the spray nozzle to enable vaporization of the liquid raw material sprayed thereinto through the spray nozzle.

Abstract translation: 公开了一种成膜设备，包括用于供应液体原料的原料供应单元，用于通过蒸发液体原料来生产原料气体的蒸发器，以及在基板上形成薄膜的成膜室 通过将原料气体引入其中进行处理。 蒸发器包括用于喷射从原料供应单元供应的液体原料的喷嘴，具有喷嘴具有开口的端部的蒸发室，以及用于通过汽化所述喷嘴的气体生成原料气体的另一封闭端部 液体原料以喷雾喷雾形成雾状，用于加热汽化室的加热器，以及在喷嘴附近具有通向蒸发室的开口的出口，用于使原料气体从蒸发室排出。 蒸发室的封闭端部与喷嘴相距足够远，能够喷射喷射的液体原料蒸发。