公开(公告)号：KR100324793B1

公开(公告)日：2002-06-27

申请号：KR1019950011658

申请日：1995-05-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 요네미즈아키라 ,  이시자카노부카즈 ,  하마다도모코

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/304 ,  B08B1/04

Abstract: 본 발명은, 피세정체의 피세정면을 세정체와 대면하도록 하여 피세정체를 유지하는 피세정체 유지수단고, 피세정체의 피세정면을 세정하는 세정체를 이동·회전시키는 세정기구를 구비하며, 세정체를 피세정면에 접촉시킨 상태에서 피세정체 및 세정체를 상대적으로 이동시켜서 피세정체의 피세정면을 세정하는 세정장치로서, 세정기구는, 선회가 자유롭게 설치된 아압과, 아압의 앞끝단에 부착되어 세정체를 회전가능하게 지지하는 세정체 지지수단과, 아암에 부착되어 세정체 지지수단을 상승시키는 승강수단으로 구성되는 세정장치를 제공한다. 또, 본 발명은, 피세정체의 피세정면을 세정체와 대면하도록 하여 피세정체를 유지하고, 세정체를 피세정면에 접촉시킨 피세정체 및 세정체를 상대적으로 이동시켜서 피세정체의 피세정면을 세정하는 방법으로서, 세정체의 피세정체의 피세정면에 대한 접촉압을 단위면적당 30 gf/㎠ 이하로 설정하여 세정을 하는 세정방법을 제공한다.

公开(公告)号：KR1019950034407A

公开(公告)日：1995-12-28

申请号：KR1019950011658

申请日：1995-05-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 요네미즈아키라 ,  이시자카노부카즈 ,  하마다도모코

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/304 ,  B08B1/04

Abstract: 본 발명은, 피세정체의 피세정면을 세정체와 대면하도록 하여 피세정체를 유지하는 피세정체 유지수단과, 피세정체의 피세정면을 세정하는 세정체를 이동·회전시키는 세정기구를 구비하여, 세정체를 피세정면에 접촉 시킨 상태에서 피세정체 및 세정체를 상대적으로 이동시켜서 피세정체의 피세정면을 세정하는 세정장치로서 세정기구는, 선회가 자유롭게 설치된 아암과, 아암의 앞끝단에 부착되어 세정체를 회전가능하게 지지하는 세정체 지지수단과, 아암에 부착되어 세정체 지지수단을 상승시키는 승강수단으로 구성되는 세정장치를 제공한다.
또, 본 발명은, 피세정체의 피세정면을 세정체와 대면하도록 하여 피세정체를 유지하고, 세정체를 피세정면에 접촉시킨 상태로 피세정체 및 세정체를 상대적으로 이동시켜서 피세정체의 피세정면을 세정하는 방법으로서, 세정체의 피세정체의 피세정면에 대한 접촉압을 단위면적당 20gf/㎠ 이하로 설정하여 세정을 하는 세정방법을 제공한다.

公开(公告)号：KR1019960042999A

公开(公告)日：1996-12-21

申请号：KR1019960015345

申请日：1996-05-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하마다도모코 ,  마쓰시타미치아키 ,  다테야마기요히사 ,  요네미즈아키라

IPC: H01L21/304

Abstract: 세정장치는, 웨이퍼를 유지하고 또한 회전시키기 위한 스핀척과, 웨이퍼 표면을 문지르기 위한 브러시와, 브러시를 지지하는 아암을 가진다. 리니어 가이드를 통해서 아암에 서포트가 연결되고, 아암과 서포트와는 수평방향에서 일체적으로 이동함과 도시에, 수직방향에서 상대적으로 변위가능하게 된다. 아암과 서포트와의 사이에는 압축스프링이 배열설치되고, 이것은 아암과 서포트와의 수직방향에서 상대적인 변위에 따라서 변형한다. 스핀척에 유지된 웨이퍼에 대하여 브러시가 접촉할 때, 압축스프링의 변형에 대응하여, 웨이퍼에 대한 브러시의 가하는 힘이 발생한다. 서포트의 수직방향의 하강량을 조정함으로써, 브러시의 가하는 힘이 설정된다.

公开(公告)号：KR100213992B1

公开(公告)日：1999-08-02

申请号：KR1019960015345

申请日：1996-05-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하마다도모코 ,  마쓰시타미치아키 ,  다테야마기요히사 ,  요네미즈아키라

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67046 ,  A46B13/04

Abstract: 세정장치는, 웨이퍼를 유지하고 또한 회전시키기 위한 스핀척과, 웨이퍼 표면을 문지르기 위한 브러시와, 브러시를 지지하는 아암을 가진다. 리니어 가이드를 통해서 아암에 서포트가 연결되고, 아암과 서포트와는 수평방향에서 일체적으로 이동함과 동시에, 수직방향에서 상대적으로 변위가능하게 된다. 아암과 서포트와의 사이에는 압축스프링이 배열설치되고, 이것은 아암과 서포트와의 수직방향에서의 상대적인 변위에 따라서 변형한다. 스핀척에 유지된 웨이퍼에 대하여 브러시가 접촉할 때, 압축스프링의 변형에 대응하여, 웨이퍼에 대한 브러시의 가하는 힘이 발생한다. 서포트의 수직방향의 하강량을 조정함으로써, 브러시의 가하는 힘이 설정된다.