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公开(公告)号：KR102232349B1
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：KR1020130062449A
申请日：2013-05-31
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/0757 , C08G77/16 , G03F7/004 , G03F7/0233 , G03F7/027 , G03F7/0382 , G03F7/085
Abstract: 본 발명은 고내열성 네거티브형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 경화막에 관한 것으로, (a) (a-1) (메트)아크릴레이트기를 갖는 실록산 단위를 포함하는 유기실록산 중합체; (a-2) 페닐기를 갖는 실록산 단위를 포함하는 유기실록산 중합체; 및 (b) 광중합 개시제를 포함하고, 에틸렌성 불포화 이중결합을 갖는 아크릴레이트계 화합물을 포함하지 않는 본 발명의 감광성 수지 조성물로부터 제조된 경화막은 고온 경화조건에서 우수한 내열성을 가져 크랙 발생이 억제됨으로써 평탄막 구현이 가능하고 황변 등으로 인한 광 투과율 저하를 나타내지 않으므로, 전자부품의 보호막 등으로서 유용하게 사용될 수 있다.
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公开(公告)号：KR102232349B1
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：KR1020130062449
申请日：2013-05-31
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
Abstract: 본발명은고내열성네거티브형감광성수지조성물및 이로부터제조된경화막에관한것으로, (a) (a-1) (메트)아크릴레이트기를갖는실록산단위를포함하는유기실록산중합체; (a-2) 페닐기를갖는실록산단위를포함하는유기실록산중합체; 및 (b) 광중합개시제를포함하고, 에틸렌성불포화이중결합을갖는아크릴레이트계화합물을포함하지않는본 발명의감광성수지조성물로부터제조된경화막은고온경화조건에서우수한내열성을가져크랙발생이억제됨으로써평탄막구현이가능하고황변등으로인한광 투과율저하를나타내지않으므로, 전자부품의보호막등으로서유용하게사용될수 있다.
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公开(公告)号：KR1020120074616A
公开(公告)日：2012-07-06
申请号：KR1020100136507
申请日：2010-12-28
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: C08G77/16 , C08G77/14 , C08K5/5435 , G03F7/0007 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0757
Abstract: PURPOSE: A photosensitive resin composition, an overcoat layer formed by curing the composition, and electronic devices including the overcoat layer are provided to improve load resistance characteristic regardless of heating and to prevent the generation of cracks at high temperatures. CONSTITUTION: A photosensitive resin composition includes an organic siloxane polymer, an acrylate-based compound with an ethylenically unsaturated double bond, a photo-polymerization initiator, and an organic solvent. The organic siloxane polymer includes one or more selected from an epoxy group, a glycidyl group, and an alcohol group. The organic siloxane polymer includes a chain structure which is formed by the polymerization of components with bifunctional monomer represented by chemical formula 1, trifunctional monomer represented by chemical formula 2, bifunctional monomer represented by chemical formula 3, and trifunctional monomer represented by chemical formula 4. In chemical formulas, R1s are respectively hydrogen elements, C1 to C9 alkyl groups, C5 to C14 cyclic alkyl groups, C6 to C14 aryl groups, C6 to C14 arcaryl groups, or C6 to C14 aralkyl groups; R2s are respectively C1 to C9 alkylene groups, C5 to C14 cyclicalkylene groups, C6 to C14 arcarylene groups, or C6 to C14 aralkylene groups; and Xs are respectively hydroxyl groups, fluorine elements, chlorine elements, bromine elements, iodine elements, or C1 to C6 alkoxy groups.
Abstract translation: 目的：提供一种光敏树脂组合物，通过固化该组合物形成的外涂层和包括该外涂层的电子器件，以改善负载电阻特性而不管加热，并且防止在高温下产生裂纹。 构成：感光性树脂组合物包含有机硅氧烷聚合物，具有烯键式不饱和双键的丙烯酸酯类化合物，光聚合引发剂和有机溶剂。 有机硅氧烷聚合物包括选自环氧基，缩水甘油基和醇基中的一种或多种。 有机硅氧烷聚合物包括由化学式1表示的双官能单体，由化学式2表示的三官能单体，由化学式3表示的双官能单体和由化学式4表示的三官能单体的组分聚合形成的链结构。 在化学式中，R 1分别是氢元素，C 1至C 9烷基，C 5至C 14环烷基，C 6至C 14芳基，C 6至C 14芳酰基或C 6至C 14芳烷基; R2分别为C1至C9亚烷基，C5至C14环亚烷基，C6至C14亚芳基或C6至C14亚芳基; Xs分别是羟基，氟元素，氯元素，溴元素，碘元素或C1-C6烷氧基。
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公开(公告)号：KR101865922B1
公开(公告)日：2018-06-11
申请号：KR1020110100284
申请日：2011-09-30
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
IPC: C08F283/12 , C08L83/04 , C08K5/10 , C08K5/1515 , C08K5/54 , C08L51/08 , H01L23/29
Abstract: 본발명은중합단위로서, 옥세탄기, 에폭시기, 글리시딜기, 하이드록시기, 아민기및 티올기로이루어진그룹으로부터선택된 1종이상의관능기를갖는실록산구조를포함하는유기실록산중합체; 적어도하나이상의에틸렌성불포화이중결합을갖는아크릴레이트계화합물; 에폭시기를 1개이상포함하는올리고머; 실란계커플링제; 산발생제; 및유기용매를포함하는열경화성수지조성물에관한것이다. 본발명에따른열경화성수지조성물은저온에서짧은시간동안경화되어보호막을형성할수 있으며, 유리기판상에회전도포시균일하고안정된코팅막을형성함으로인해표면얼룩의발생을방지할수 있으며, 상기조성물로부터형성된보호막은광 투과율, 기판과의접착력및 경도가우수하다.
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公开(公告)号：KR1020140042163A
公开(公告)日：2014-04-07
申请号：KR1020120108534
申请日：2012-09-28
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/027 , G03F7/0007 , G03F7/0045 , G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0382 , G03F7/0757
Abstract: The present invention relates to a negative-type photosensitive resin composition having high thermal resistance and high resolution containing an organic siloxane polymer and an acryl copolymer at the same time, and a hardened layer prepared therefrom. The negative-type photosensitive resin composition contains: (1) the organic siloxane polymer; (2) a random copolymer including (2-1) a structure unit induced from ethylene unsaturated carboxylic acid, ethylene unsaturated carboxylic acid anhydride, or a mixture thereof, and (2-2) a structure unit induced from an ethylene unsaturated compound with an aromatic ring; (3) an acrylate based compound with one or more ethylene unsaturated double bond; and (4) a photopolymerization initiator. The organic siloxane polymer includes: a siloxane unit (a) with a (meth)acrylate group as a polymerization unit; and a siloxane unit (b) with one or more functional groups selected from an epoxy group, an oxetane group, a hydroxy group, and a thiol group.
Abstract translation: 本发明涉及同时具有有机硅氧烷聚合物和丙烯酸共聚物的耐热性和高分辨率的负型感光性树脂组合物及其制备的硬化层。 负型感光性树脂组合物含有：（1）有机硅氧烷聚合物; （2）包含（2-1）由乙烯不饱和羧酸，乙烯不饱和羧酸酐或其混合物引发的结构单元的无规共聚物，（2-2）由乙烯不饱和化合物诱导的结构单元， 芳香环 （3）具有一个或多个乙烯不饱和双键的丙烯酸酯类化合物; 和（4）光聚合引发剂。 有机硅氧烷聚合物包括：具有（甲基）丙烯酸酯基的硅氧烷单元（a）作为聚合单元; 和具有一个或多个选自环氧基，氧杂环丁烷基，羟基和硫醇基的官能团的硅氧烷单元（b）。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101320243B1
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：KR1020100136507
申请日：2010-12-28
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: C08G77/16 , C08G77/14 , C08K5/5435 , G03F7/0007 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/0757
Abstract: 본 발명은 에폭시기, 글리시딜기 및 알코올기 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 유기 실록산 중합체; 에틸렌성 불포화 아크릴 화합물; 광중합 개시제; 및 유기용매;를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 컬러기판 상에 회전 도포시 균일하고 안정한 코팅막을 형성하면서 수지 얼룩, 뭉게 얼룩 등의 얼룩 발생을 방지하도록 함과 동시에 단일 광량으로 투과막을 경화하여 현상액을 이용하여 패턴 형성이 용이하며 200∼400℃ 범위의 고온에서 크랙 발생이 없이 가열 하에서도 내하중성이 우수하고, 소성시의 승화물이 적어 열적 안정성이 우수하며, 경화 후에 얻어지는 보호막이 400∼800nm 파장범위에서 95% 이상의 투과율을 갖고, 기판과의 접착력이 5B 이상인 감광성 수지 조성물을 제공할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020130080992A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：KR1020120001911
申请日：2012-01-06
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
IPC: C08L83/04 , C08L33/04 , C08G77/04 , C08G77/442
CPC classification number: C08L83/04 , C08G77/04 , C08G77/442 , C08L33/04
Abstract: PURPOSE: A curable resin composition including an organic siloxane polymer is provided to produce a stable and uniform coating when the composition is spread on a substrate, and to produce a thin film with excellent heat resistance, photosensitivity, resolving potency, and post-cure hardness. CONSTITUTION: A curable resin composition contains an organic siloxane polymer and an acrylate compound. The organic siloxane polymer contains a siloxane unit with more than one functional group selected from a group consisting of a vinyl group, a (meth)acrylate group, and an epoxy group. The organic siloxane polymer contains another siloxane unit with more than one functional group selected from a group consisting of a hydroxy group, an amine group, and a thiol group. The acrylate compound includes more than one ethylenically unsaturated double bond.
Abstract translation: 目的：提供包含有机硅氧烷聚合物的可固化树脂组合物，以在组合物铺展在基材上时产生稳定均匀的涂层，并制备具有优异的耐热性，光敏性，分辨能力和后固化硬度的薄膜 。 构成：可固化树脂组合物含有有机硅氧烷聚合物和丙烯酸酯化合物。 有机硅氧烷聚合物含有具有多于一个选自乙烯基，（甲基）丙烯酸酯基和环氧基的官能团的硅氧烷单元。 有机硅氧烷聚合物含有另外的硅氧烷单元，其具有多于一个选自羟基，胺基和硫醇基的官能团。 丙烯酸酯化合物包括多于一个烯属不饱和双键。
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公开(公告)号：KR1020130113635A
公开(公告)日：2013-10-16
申请号：KR1020120035961
申请日：2012-04-06
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/027 , C08F2/50 , C08F283/006 , C08G77/16 , G03F7/0007 , G03F7/028 , G03F7/037 , G03F7/0388
Abstract: PURPOSE: A photosensitive resin composition is provided to form a uniform and stable coated film when coated on a substrate, to generate no stain such as resin stain and cumulus stain, and to facilitate the pattern formation. CONSTITUTION: A photosensitive resin composition comprises a) an organic siloxane polymer including a siloxane unit having at least one functional group selected from the group consisting of oxetane, epoxy, hydroxy and thiol; b) an acrylate compound having at least one ethylenic unsaturated double bond; c) a polymer or an oligomer including at least one epoxy (however, it is different from a) organic siloxane polymer); and D) an acid generator.
Abstract translation: 目的：提供感光性树脂组合物，以在涂布在基材上时形成均匀且稳定的涂膜，不产生染色，例如树脂染色和积垢染色，并促进图案形成。 构成：感光性树脂组合物包含：a）包含具有至少一个选自氧杂环丁烷，环氧基，羟基和硫醇的官能团的硅氧烷单元的有机硅氧烷聚合物; b）具有至少一个烯属不饱和双键的丙烯酸酯化合物; c）包含至少一种环氧树脂的聚合物或低聚物（然而，它不同于a）有机硅氧烷聚合物）; 和D）酸产生器。
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公开(公告)号：KR1020140141115A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：KR1020130062449
申请日：2013-05-31
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/0757 , C08G77/16 , G03F7/004 , G03F7/0233 , G03F7/027 , G03F7/0382 , G03F7/085
Abstract: 본 발명은 고내열성 네거티브형 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 경화막에 관한 것으로, (a) (a-1) (메트)아크릴레이트기를 갖는 실록산 단위를 포함하는 유기실록산 중합체; (a-2) 페닐기를 갖는 실록산 단위를 포함하는 유기실록산 중합체; 및 (b) 광중합 개시제를 포함하고, 에틸렌성 불포화 이중결합을 갖는 아크릴레이트계 화합물을 포함하지 않는 본 발명의 감광성 수지 조성물로부터 제조된 경화막은 고온 경화조건에서 우수한 내열성을 가져 크랙 발생이 억제됨으로써 평탄막 구현이 가능하고 황변 등으로 인한 광 투과율 저하를 나타내지 않으므로, 전자부품의 보호막 등으로서 유용하게 사용될 수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及具有高耐热性的负型感光性树脂组合物和由其制备的硬化外涂层。 由（a）（a-1）含有具有（甲基）丙烯酸酯基团的硅氧烷单元的有机硅氧烷聚合物的本发明的感光性树脂组合物制备的硬化外涂层; （a-2）包含具有苯基的硅氧烷单元的有机硅氧烷聚合物; （b）光聚合引发剂，不含有具有乙烯不饱和双键的丙烯酸酯类化合物在高温固化条件下具有优异的耐热性，以控制裂纹形成平膜，并且不会由于黄变至 可用作电子部件的这种保护膜。
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