公开(公告)号：KR101785426B1

公开(公告)日：2017-10-17

申请号：KR1020160048413

申请日：2016-04-20

Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사

Inventor： 류의현 ,  장민균 ,  홍창영 ,  김동영 ,  홍동제 ,  임해진 ,  김명열 ,  전현

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/028 ,  C08L33/26 ,  G03F7/42 ,  G03F7/32 ,  G03F7/11 ,  G03F7/075

CPC classification number: G03F7/325 ,  G03F7/0397

Abstract: 네가티브톤 현상공정을포함하는다양한도포에유용한신규포토레지스트가제공된다. 바람직한레지스트는 (i) 산불안정한그룹을포함하는질소함유모이어티를포함하는제1 단위; 및 (ii)(1) 하나이상의소수성그룹을포함하고, (2) 상기제1 단위와구별되는제2 단위를포함하는제1 폴리머를포함한다.

公开(公告)号：KR101995719B1

公开(公告)日：2019-07-03

申请号：KR1020170108574

申请日：2017-08-28

Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사

Inventor： 류의현 ,  장민경 ,  김정우 ,  최광-모 ,  전현 ,  이우-형 ,  김명-열

IPC: C08G63/21 ,  G03F7/038 ,  C08G63/682 ,  H01L21/027 ,  C07C69/65

公开(公告)号：KR1020160130151A

公开(公告)日：2016-11-10

申请号：KR1020160048413

申请日：2016-04-20

Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사

Inventor： 류의현 ,  장민균 ,  홍창영 ,  김동영 ,  홍동제 ,  임해진 ,  김명열 ,  전현

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/028 ,  C08L33/26 ,  G03F7/42 ,  G03F7/32 ,  G03F7/11 ,  G03F7/075

CPC classification number: G03F7/325 ,  G03F7/0397

Abstract: 네가티브톤 현상공정을포함하는다양한도포에유용한신규포토레지스트가제공된다. 바람직한레지스트는 (i) 산불안정한그룹을포함하는질소함유모이어티를포함하는제1 단위; 및 (ii)(1) 하나이상의소수성그룹을포함하고, (2) 상기제1 단위와구별되는제2 단위를포함하는제1 폴리머를포함한다.

Abstract translation: 提供了新的光刻胶，可用于各种应用，包括负音发展过程。 优选的抗蚀剂包括第一聚合物，其包含（i）包含含酸部分的第一单元，其包含酸不稳定基团; 和（ii）（1）包含一个或多个疏水基团的第二单元和（2）不同于第一单元。