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公开(公告)号:KR1020160130151A
公开(公告)日:2016-11-10
申请号:KR1020160048413
申请日:2016-04-20
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0397
Abstract: 네가티브톤 현상공정을포함하는다양한도포에유용한신규포토레지스트가제공된다. 바람직한레지스트는 (i) 산불안정한그룹을포함하는질소함유모이어티를포함하는제1 단위; 및 (ii)(1) 하나이상의소수성그룹을포함하고, (2) 상기제1 단위와구별되는제2 단위를포함하는제1 폴리머를포함한다.
Abstract translation: 提供了新的光刻胶,可用于各种应用,包括负音发展过程。 优选的抗蚀剂包括第一聚合物,其包含(i)包含含酸部分的第一单元,其包含酸不稳定基团; 和(ii)(1)包含一个或多个疏水基团的第二单元和(2)不同于第一单元。
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公开(公告)号:KR1020180006474A
公开(公告)日:2018-01-17
申请号:KR1020180002165
申请日:2018-01-08
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/325 , G03F7/004 , G03F7/0042 , G03F7/0048 , G03F7/075 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/42
Abstract: 하기화학식 (I)의표면제제를포함하는오버코팅된포토레지스트와함께이용하기위한유기코팅조성물, 특히반사방지코팅조성물이제공된다.상기식 중에서, A 및 B는독립적으로수소, 임의로치환된알킬또는임의로치환된아릴이고; X 및 Y는각각독립적으로수소, 임의로치환된알킬또는임의로치환된카보사이클릭아릴이고; 그리고 n은양의정수이다. 바람직한코팅조성물은오버코팅된포토레지스트층의개선된패턴콜랩스마진을제공할수 있다.
Abstract translation: 提供了一种与包含式(I)表面活性剂的外涂光刻胶一起使用的有机涂料组合物,特别是抗反射涂料组合物:其中A和B独立地为氢,任选取代的烷基或 任选取代的芳基; X和Y各自独立地为氢,任选取代的烷基或任选取代的碳环芳基; 而n是负数意义上的整数。 优选的涂料组合物可以提供改进的外涂光刻胶层的图案坍塌边缘。
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公开(公告)号:KR101785426B1
公开(公告)日:2017-10-17
申请号:KR1020160048413
申请日:2016-04-20
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0397
Abstract: 네가티브톤 현상공정을포함하는다양한도포에유용한신규포토레지스트가제공된다. 바람직한레지스트는 (i) 산불안정한그룹을포함하는질소함유모이어티를포함하는제1 단위; 및 (ii)(1) 하나이상의소수성그룹을포함하고, (2) 상기제1 단위와구별되는제2 단위를포함하는제1 폴리머를포함한다.
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公开(公告)号:KR1020160082470A
公开(公告)日:2016-07-08
申请号:KR1020150187001
申请日:2015-12-26
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/325 , G03F7/38 , G03F7/0042 , G03F7/0048 , G03F7/075 , G03F7/322 , G03F7/42
Abstract: 하기화학식 (I)의표면제제를포함하는오버코팅된포토레지스트와함께이용하기위한유기코팅조성물, 특히반사방지코팅조성물이제공된다.상기식 중에서, A 및 B는독립적으로수소, 임의로치환된알킬또는임의로치환된아릴이고; X 및 Y는각각독립적으로수소, 임의로치환된알킬또는임의로치환된카보사이클릭아릴이고; 그리고 n은양의정수이다. 바람직한코팅조성물은오버코팅된포토레지스트층의개선된패턴콜랩스마진을제공할수 있다.
Abstract translation: 本发明提供了一种与包覆光致抗蚀剂一起使用的有机涂料组合物,包括式(I)的表面处理剂,特别是涉及一种抗反射涂料组合物。 在该式中,A和B独立地为氢,任选取代的烷基或任选取代的芳基; X和Y分别是独立的氢和任选取代的烷基或任选取代的碳环芳基; n为正整数。 所需的涂料组合物能够提供过涂覆的光致抗蚀剂层的改进的图案塌陷边缘。
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公开(公告)号:KR1020160135095A
公开(公告)日:2016-11-24
申请号:KR1020160054286
申请日:2016-05-02
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
IPC: C07C271/08 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027 , G03F1/76
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C271/12 , C07C271/14 , C07C2603/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/325
Abstract: 포토레지스트에서사용하는데적합한, 식 (I)에대응하는신규광염기발생제가제공된다: X-R-O-C(=O)N(R)R(I) 식중, X은임의로치환된방향족기이고; R은링커이고; 그리고 R및 R은동일또는상이한임의로치환된선형, 분지형또는사이클릭지방족기 또는임의로치환된방향족기이고, 여기서 R및 R중적어도하나는 4개이상의탄소원자를갖는임의로치환된분지형알킬기이다.
Abstract translation: 其中X1是任选取代的芳基; R1是连接体; 并且R 2和R 3是相同或不同的任选取代的直链,支链或环状脂族基团或任选取代的芳族基团,其中R 2和R 3中的至少一个是具有4个或更多个碳原子的任选取代的支化烷基。
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