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公开(公告)号：KR1020170044582A
公开(公告)日：2017-04-25
申请号：KR1020160121813
申请日：2016-09-23
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C271/12 , C07D211/48 , C08F220/36 , C08F2220/365 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/40
Abstract: 네거티브-톤현상공정을포함하는, 다양한적용에서유용한새로운포토레지스트가제공된다. 바람직한레지스트는중합체백본으로부터간격을두고떨어진반응성질소-함유모이어티를포함하는제1 단위를포함하는제1 중합체를포함하며, 여기서상기질소-함유모이어티는포토레지스트조성물의리소그래픽가공동안염기성절단생성물을생산한다.
Abstract translation: 在各种应用提供了有用的新的光刻胶，其中包括音调发展步伐阴性。 它包括：包括第一单元，其包括含有部分，其中氮，优选的光刻胶活性氮俯伏在从含聚合物骨架部分的距离被光致抗蚀剂组合物的光刻处理过程中基本切削的第一聚合物 它产生的产物。
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公开(公告)号：KR101995719B1
公开(公告)日：2019-07-03
申请号：KR1020170108574
申请日：2017-08-28
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
IPC: C08G63/21 , G03F7/038 , C08G63/682 , H01L21/027 , C07C69/65
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公开(公告)号：KR101910829B1
公开(公告)日：2018-10-24
申请号：KR1020160124760
申请日：2016-09-28
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/11 , C07C271/12 , C07D211/48 , C08F220/16 , C08F220/28 , C08F2220/283 , C09D133/14 , G03F7/0045 , G03F7/162 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/40 , C08F2220/281
Abstract: 포토레지스트조성물위에적절하게적용되는탑코트조성물이제공된다. 바람직한탑코트조성물은, 폴리머주쇄로부터이격된반응성질소-함유모이어티를포함하는제1 단위체를포함하는제1 폴리머를포함하되, 상기반응성질소-함유모이어티는포토레지스트조성물의리소그래픽공정동안염기성의절단생성물을생성시킨다.
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR1020170044584A
公开(公告)日：2017-04-25
申请号：KR1020160124760
申请日：2016-09-28
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/11 , C07C271/12 , C07D211/48 , C08F220/16 , C08F220/28 , C08F2220/283 , C09D133/14 , G03F7/0045 , G03F7/162 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/40 , C08F2220/281
Abstract: 포토레지스트조성물위에적절하게적용되는탑코트조성물이제공된다. 바람직한탑코트조성물은, 폴리머주쇄로부터이격된반응성질소-함유모이어티를포함하는제1 단위체를포함하는제1 폴리머를포함하되, 상기반응성질소-함유모이어티는포토레지스트조성물의리소그래픽공정동안염기성의절단생성물을생성시킨다.
Abstract translation: 提供适合涂覆在光刻胶组合物上的面漆组合物。 优选的面漆组合物包含第一聚合物和第二聚合物，所述第一聚合物包含第一单元，所述第一单元包含远离所述聚合物主链的反应性含氮部分，其中所述反应性含氮部分与碱 裂解产物。
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公开(公告)号：KR1020170028843A
公开(公告)日：2017-03-14
申请号：KR1020160109283
申请日：2016-08-26
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 , 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/091 , C07D487/04 , C08K5/0025 , C08K5/3445 , C09D5/006 , C09D167/00
Abstract: 하기화학식 (I)의구조를포함하는가교결합제성분을포함하는유기코팅조성물, 특히오버코팅된포토레지스트와함께사용하기위한반사방지코팅조성물이제공된다:(I)
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公开(公告)号：KR1020160135095A
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：KR1020160054286
申请日：2016-05-02
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
IPC: C07C271/08 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027 , G03F1/76
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C271/12 , C07C271/14 , C07C2603/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/325
Abstract: 포토레지스트에서사용하는데적합한, 식 (I)에대응하는신규광염기발생제가제공된다: X-R-O-C(=O)N(R)R(I) 식중, X은임의로치환된방향족기이고; R은링커이고; 그리고 R및 R은동일또는상이한임의로치환된선형, 분지형또는사이클릭지방족기 또는임의로치환된방향족기이고, 여기서 R및 R중적어도하나는 4개이상의탄소원자를갖는임의로치환된분지형알킬기이다.
Abstract translation: 其中X1是任选取代的芳基; R1是连接体; 并且R 2和R 3是相同或不同的任选取代的直链，支链或环状脂族基团或任选取代的芳族基团，其中R 2和R 3中的至少一个是具有4个或更多个碳原子的任选取代的支化烷基。
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