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公开(公告)号：KR101785426B1
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：KR1020160048413
申请日：2016-04-20
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0397
Abstract: 네가티브톤 현상공정을포함하는다양한도포에유용한신규포토레지스트가제공된다. 바람직한레지스트는 (i) 산불안정한그룹을포함하는질소함유모이어티를포함하는제1 단위; 및 (ii)(1) 하나이상의소수성그룹을포함하고, (2) 상기제1 단위와구별되는제2 단위를포함하는제1 폴리머를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020170044582A
公开(公告)日：2017-04-25
申请号：KR1020160121813
申请日：2016-09-23
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C271/12 , C07D211/48 , C08F220/36 , C08F2220/365 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/40
Abstract: 네거티브-톤현상공정을포함하는, 다양한적용에서유용한새로운포토레지스트가제공된다. 바람직한레지스트는중합체백본으로부터간격을두고떨어진반응성질소-함유모이어티를포함하는제1 단위를포함하는제1 중합체를포함하며, 여기서상기질소-함유모이어티는포토레지스트조성물의리소그래픽가공동안염기성절단생성물을생산한다.
Abstract translation: 在各种应用提供了有用的新的光刻胶，其中包括音调发展步伐阴性。 它包括：包括第一单元，其包括含有部分，其中氮，优选的光刻胶活性氮俯伏在从含聚合物骨架部分的距离被光致抗蚀剂组合物的光刻处理过程中基本切削的第一聚合物 它产生的产物。
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公开(公告)号：KR1020160130151A
公开(公告)日：2016-11-10
申请号：KR1020160048413
申请日：2016-04-20
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0397
Abstract: 네가티브톤 현상공정을포함하는다양한도포에유용한신규포토레지스트가제공된다. 바람직한레지스트는 (i) 산불안정한그룹을포함하는질소함유모이어티를포함하는제1 단위; 및 (ii)(1) 하나이상의소수성그룹을포함하고, (2) 상기제1 단위와구별되는제2 단위를포함하는제1 폴리머를포함한다.
Abstract translation: 提供了新的光刻胶，可用于各种应用，包括负音发展过程。 优选的抗蚀剂包括第一聚合物，其包含（i）包含含酸部分的第一单元，其包含酸不稳定基团; 和（ii）（1）包含一个或多个疏水基团的第二单元和（2）不同于第一单元。
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公开(公告)号：KR102039572B1
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：KR1020170112648
申请日：2017-09-04
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 , 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 , 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
IPC: H01L21/027 , G03F7/00 , G03F7/20
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR101848656B1
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：KR1020160048417
申请日：2016-04-20
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/11 , C09D133/06 , G03F7/0397 , G03F7/095 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38 , C08L37/00
Abstract: 포토레지스트조성물위에적당하게도포되는탑코트조성물이제공된다. 바람직한탑코트조성물은 (i) 산불안정한그룹을포함하는질소-함유모이어티를포함한제1 단위; 및 (ii) (1) 하나이상의소수성그룹을포함하고 (2) 상기제1 단위와구별되는제2 단위를포함하는제1 폴리머를포함한다.
Abstract translation: 提供适合涂覆在光刻胶组合物上的面漆组合物。 优选的面漆组合物包含（i）包含含酸部分的第一单元，所述含氮部分包含酸不稳定基团; 和（ii）第一聚合物，其包含（1）至少一个疏水基团和（2）不同于第一单元的第二单元。
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公开(公告)号：KR1020170104136A
公开(公告)日：2017-09-14
申请号：KR1020170112648
申请日：2017-09-04
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 , 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 , 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
IPC: H01L21/027 , G03F7/00 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/405 , H01L21/0273 , H01L21/0337 , G03F7/0025 , G03F7/20
Abstract: 다중패턴의형성방법이제공된다. 이방법은 (a) 패턴화될하나이상의층을포함하는반도체기판을제공하는단계; (b) 산불안정성그룹을포함하는매트릭스폴리머; 광산발생제; 및용매를포함하는조성물로부터형성된포토레지스트층을패턴화될하나이상의층 위에형성하는단계; (c) 포토레지스트층을활성화조사선에패턴식으로노광하는단계; (d) 노광된포토레지스트층을베이킹하는단계; (e) 베이킹된포토레지스트층을제1 현상제와접촉하여제1 레지스트패턴을형성하는단계; (f) 제1 레지스트패턴의측벽영역의용해도를제1 현상제와상이한제2 현상제에대해용해성에서불용성으로변경하기위한수단을포함하는코팅조성물로제1 레지스트패턴을처리하는단계; 및 (g) 처리된제1 레지스트패턴을제2 현상제와접촉하여제1 레지스트패턴의일부를제거함으로써용해도-변경된측벽영역을남겨다중-패턴을형성하는단계를포함한다. 상기방법은미세리소그래피패턴의형성을위한반도체제조산업에서특정응용성을가진다.
Abstract translation: 提供了形成多个图案的方法。 该方法包括以下步骤：（a）提供包括至少一个待图案化的层的半导体衬底; （b）包含酸稳定基团的基质聚合物; 光酸发生器; 在至少一个待图案化的层上形成由包含溶剂的组合物形成的光致抗蚀剂层; （c）用激活辐射图案化光致抗蚀剂层; （d）烘烤曝光的光致抗蚀剂层; （e）使烘烤的光致抗蚀剂层与第一显影剂接触以形成第一抗蚀剂图案; （f）对于不同于第一显影剂的第二显影剂，将第一抗蚀剂图案的侧壁区域的可溶性从可溶性改变为不可溶的装置; 及（g）通过除去第一抗蚀剂图案修饰的侧壁和离开该区域的多并形成图案的一部分处理过的第一抗蚀图案和第二显影剂溶解度接触。 该方法在半导体制造工业中特别适用于形成微光刻图案。
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公开(公告)号：KR1020170044584A
公开(公告)日：2017-04-25
申请号：KR1020160124760
申请日：2016-09-28
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/11 , C07C271/12 , C07D211/48 , C08F220/16 , C08F220/28 , C08F2220/283 , C09D133/14 , G03F7/0045 , G03F7/162 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/40 , C08F2220/281
Abstract: 포토레지스트조성물위에적절하게적용되는탑코트조성물이제공된다. 바람직한탑코트조성물은, 폴리머주쇄로부터이격된반응성질소-함유모이어티를포함하는제1 단위체를포함하는제1 폴리머를포함하되, 상기반응성질소-함유모이어티는포토레지스트조성물의리소그래픽공정동안염기성의절단생성물을생성시킨다.
Abstract translation: 提供适合涂覆在光刻胶组合物上的面漆组合物。 优选的面漆组合物包含第一聚合物和第二聚合物，所述第一聚合物包含第一单元，所述第一单元包含远离所述聚合物主链的反应性含氮部分，其中所述反应性含氮部分与碱 裂解产物。
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