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公开(公告)号：KR101785426B1
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：KR1020160048413
申请日：2016-04-20
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0397
Abstract: 네가티브톤 현상공정을포함하는다양한도포에유용한신규포토레지스트가제공된다. 바람직한레지스트는 (i) 산불안정한그룹을포함하는질소함유모이어티를포함하는제1 단위; 및 (ii)(1) 하나이상의소수성그룹을포함하고, (2) 상기제1 단위와구별되는제2 단위를포함하는제1 폴리머를포함한다.
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：KR1020160130151A
公开(公告)日：2016-11-10
申请号：KR1020160048413
申请日：2016-04-20
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0397
Abstract: 네가티브톤 현상공정을포함하는다양한도포에유용한신규포토레지스트가제공된다. 바람직한레지스트는 (i) 산불안정한그룹을포함하는질소함유모이어티를포함하는제1 단위; 및 (ii)(1) 하나이상의소수성그룹을포함하고, (2) 상기제1 단위와구별되는제2 단위를포함하는제1 폴리머를포함한다.
Abstract translation: 提供了新的光刻胶，可用于各种应用，包括负音发展过程。 优选的抗蚀剂包括第一聚合物，其包含（i）包含含酸部分的第一单元，其包含酸不稳定基团; 和（ii）（1）包含一个或多个疏水基团的第二单元和（2）不同于第一单元。
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公开(公告)号：KR1020170028843A
公开(公告)日：2017-03-14
申请号：KR1020160109283
申请日：2016-08-26
Applicant: 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 , 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
CPC classification number: G03F7/091 , C07D487/04 , C08K5/0025 , C08K5/3445 , C09D5/006 , C09D167/00
Abstract: 하기화학식 (I)의구조를포함하는가교결합제성분을포함하는유기코팅조성물, 특히오버코팅된포토레지스트와함께사용하기위한반사방지코팅조성물이제공된다:(I)
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公开(公告)号：KR1020160135095A
公开(公告)日：2016-11-24
申请号：KR1020160054286
申请日：2016-05-02
Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사
IPC: C07C271/08 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027 , G03F1/76
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C271/12 , C07C271/14 , C07C2603/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/325
Abstract: 포토레지스트에서사용하는데적합한, 식 (I)에대응하는신규광염기발생제가제공된다: X-R-O-C(=O)N(R)R(I) 식중, X은임의로치환된방향족기이고; R은링커이고; 그리고 R및 R은동일또는상이한임의로치환된선형, 분지형또는사이클릭지방족기 또는임의로치환된방향족기이고, 여기서 R및 R중적어도하나는 4개이상의탄소원자를갖는임의로치환된분지형알킬기이다.
Abstract translation: 其中X1是任选取代的芳基; R1是连接体; 并且R 2和R 3是相同或不同的任选取代的直链，支链或环状脂族基团或任选取代的芳族基团，其中R 2和R 3中的至少一个是具有4个或更多个碳原子的任选取代的支化烷基。
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