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公开(公告)号：KR101118995B1
公开(公告)日：2012-03-12
申请号：KR1020067019050
申请日：2005-03-03
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 아킨스로버트피. , 샌드스트롬리차드엘. , 파르틀로윌리암엔. , 포멘코프이고르브이. , 스타이거토마스디. , 알고츠마틴제이. , 보워링노버트알 , 자크스로버트엔. , 팔렌샤트프레데릭에이. , 송준
CPC classification number: B82Y10/00 , G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
Abstract: 선택된 펄스 반복율로 소망하는 타겟 점화 사이트(28)에 포커싱된 레이저 펄스(55)를 공급하는 펄스 레이저(22); 이산 타겟(94)을 제공하는 타겟 형성 시스템(92); 타겟 형성 시스템(92)과 점화 사이트(28) 사이에 있는 타겟 스티어링 시스템(350); 타겟 형성 시스템(92)과 타겟 스티어링 시스템(350) 사이에서의 타겟의 이동에 대한 정보를 제공하는 타겟 추적 시스템(42); 점화시 점화 사이트(28) 또는 그 근방에 전기 플라즈마 감금 필드(316)를 제공하는 정전 플라즈마 억제 장치(314); EUV광을 통과시키기 위한 중간벽(282)을 갖는 베셀(30); 및 점화 사이트 근방에 자기 필드(320)를 발생시키는 자기 플라즈마 한정 매커니즘(329)을 포함하는 EUV 광원 장치(20).
타겟 스티어링 시스템, 펄스 반복율, 점화 사이트, EUV 광, 펄스 레이저Abstract translation: 公开了一种EUV光源装置和方法，其可以包括脉冲激光，其以所选择的脉冲重复频率提供激光脉冲，聚焦在期望的目标点火部位; 目标形成系统，以与激光脉冲重复率配合的选定间隔提供离散目标; 目标转向系统在目标地层系统和期望的目标点火站点之间; 以及目标跟踪系统，其提供关于目标形成系统和目标转向系统之间的目标移动的信息，使得目标转向系统能够将目标定向到期望的目标点火点。 该装置和方法可以包括具有中间壁的容器和具有低压阱的容器，其允许EUV光通过并且保持横跨低压阱的压差。
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公开(公告)号：KR1020060125903A
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：KR1020067019050
申请日：2005-03-03
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 아킨스로버트피. , 샌드스트롬리차드엘. , 파르틀로윌리암엔. , 포멘코프이고르브이. , 스타이거토마스디. , 알고츠마틴제이. , 보워링노버트알 , 자크스로버트엔. , 팔렌샤트프레데릭에이. , 송준
CPC classification number: B82Y10/00 , G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
Abstract: An EUV light source apparatus (20) comprises a pulse laser (22) providing laser pulses (55) at a selected pulse repetition rate focused at a desired target ignition site (28); a target formation system (92) providing discrete targets (94); a target steering system (350) intermediate the target formation system (92) and the ignition site (28); a target tracking system (42) providing information about movement of the target (94) between the target formation system (92) and the target steering system (350); an electrostatic plasma containment apparatus (314) providing an electric plasma confinement field (316) at or near the ignition site (28) at the time of ignition; a vessel (30) having an intermediate wall (282) for passing EUV light; and a magnetic plasma confinement mechanism (329) creating a magnetic field (320) in the vicinity of the ignition site (28).
Abstract translation: EUV光源装置（20）包括脉冲激光器（22），所述脉冲激光器以聚焦在期望的目标点火现场（28）的选定的脉冲重复频率提供激光脉冲（55）; 提供离散目标（94）的目标形成系统（92）; 在目标形成系统（92）和点火位置（28）之间的目标转向系统（350）; 目标跟踪系统（42）提供关于目标形成系统（92）和目标转向系统（350）之间的目标（94）的移动的信息; 静电等离子体容纳装置（314），其在点火时在点火现场（28）处或附近提供电等离子体限制场（316）; 具有用于使EUV光通过的中间壁（282）的容器（30） 以及在点火现场（28）附近产生磁场（320）的磁等离子体限制机构（329）。
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公开(公告)号：KR101151660B1
公开(公告)日：2012-06-08
申请号：KR1020087012671
申请日：2006-10-20
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 아킨스로버트피. , 샌드스트롬리차드엘.
CPC classification number: B23K26/0604 , B23K26/0608 , B23K26/066 , B23K26/067 , B23K26/0738 , G02B27/0966 , G02B27/0988 , G02B27/46
Abstract: 필름과상호작용하기위한레이저빔을형상화및 균질화시키기위한시스템및 방법이개시된다. 상기형상화및 균질화시스템은렌즈어레이, 및상기렌즈어레이로부터레이저광을수신하고상기렌즈어레이의각 렌즈에대해평면에각각의기다란이미지를생성하도록배치되는렌즈를포함한다. 추가로, 상기시스템은상기평면에배치된에지를가진빔 조리개, 및상기기다란이미지중 어느하나와빔 조리개에지사이의정렬을변화시키도록상기렌즈어레이의렌즈를회전시키는이동가능한마운트를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020080065673A
公开(公告)日：2008-07-14
申请号：KR1020087012671
申请日：2006-10-20
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 아킨스로버트피. , 샌드스트롬리차드엘.
CPC classification number: B23K26/0604 , B23K26/0608 , B23K26/066 , B23K26/067 , B23K26/0738 , G02B27/0966 , G02B27/0988 , G02B27/46 , G02B27/0961
Abstract: Systems and methods are disclosed for shaping and homogenizing a laser beam for interaction with a film. The shaping and homogenizing system may include a lens array and a lens that is positioned to receive laser light from the lens array and produce a respective elongated image in a plane for each lens in the lens array. In addition, the system may include a beam stop having an edge that is positioned in the plane, and a moveable mount rotating a lens of the lens array to vary an alignment between one of the elongated images and the beam stop edge.
Abstract translation: 公开了用于使激光束成形和均匀化以与膜相互作用的系统和方法。 成形和均质系统可以包括透镜阵列和透镜，其被定位成从透镜阵列接收激光，并且在透镜阵列中的每个透镜的平面中产生相应的细长图像。 此外，该系统可以包括具有位于平面中的边缘的光束停止器，以及可移动的安装件，其旋转透镜阵列的透镜以改变其中一个细长图像与光束停止边缘之间的对准。
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