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公开(公告)号：KR101118995B1
公开(公告)日：2012-03-12
申请号：KR1020067019050
申请日：2005-03-03
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 아킨스로버트피. , 샌드스트롬리차드엘. , 파르틀로윌리암엔. , 포멘코프이고르브이. , 스타이거토마스디. , 알고츠마틴제이. , 보워링노버트알 , 자크스로버트엔. , 팔렌샤트프레데릭에이. , 송준
CPC classification number: B82Y10/00 , G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
Abstract: 선택된 펄스 반복율로 소망하는 타겟 점화 사이트(28)에 포커싱된 레이저 펄스(55)를 공급하는 펄스 레이저(22); 이산 타겟(94)을 제공하는 타겟 형성 시스템(92); 타겟 형성 시스템(92)과 점화 사이트(28) 사이에 있는 타겟 스티어링 시스템(350); 타겟 형성 시스템(92)과 타겟 스티어링 시스템(350) 사이에서의 타겟의 이동에 대한 정보를 제공하는 타겟 추적 시스템(42); 점화시 점화 사이트(28) 또는 그 근방에 전기 플라즈마 감금 필드(316)를 제공하는 정전 플라즈마 억제 장치(314); EUV광을 통과시키기 위한 중간벽(282)을 갖는 베셀(30); 및 점화 사이트 근방에 자기 필드(320)를 발생시키는 자기 플라즈마 한정 매커니즘(329)을 포함하는 EUV 광원 장치(20).
타겟 스티어링 시스템, 펄스 반복율, 점화 사이트, EUV 광, 펄스 레이저Abstract translation: 公开了一种EUV光源装置和方法，其可以包括脉冲激光，其以所选择的脉冲重复频率提供激光脉冲，聚焦在期望的目标点火部位; 目标形成系统，以与激光脉冲重复率配合的选定间隔提供离散目标; 目标转向系统在目标地层系统和期望的目标点火站点之间; 以及目标跟踪系统，其提供关于目标形成系统和目标转向系统之间的目标移动的信息，使得目标转向系统能够将目标定向到期望的目标点火点。 该装置和方法可以包括具有中间壁的容器和具有低压阱的容器，其允许EUV光通过并且保持横跨低压阱的压差。
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公开(公告)号：KR1020060125903A
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：KR1020067019050
申请日：2005-03-03
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 아킨스로버트피. , 샌드스트롬리차드엘. , 파르틀로윌리암엔. , 포멘코프이고르브이. , 스타이거토마스디. , 알고츠마틴제이. , 보워링노버트알 , 자크스로버트엔. , 팔렌샤트프레데릭에이. , 송준
CPC classification number: B82Y10/00 , G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
Abstract: An EUV light source apparatus (20) comprises a pulse laser (22) providing laser pulses (55) at a selected pulse repetition rate focused at a desired target ignition site (28); a target formation system (92) providing discrete targets (94); a target steering system (350) intermediate the target formation system (92) and the ignition site (28); a target tracking system (42) providing information about movement of the target (94) between the target formation system (92) and the target steering system (350); an electrostatic plasma containment apparatus (314) providing an electric plasma confinement field (316) at or near the ignition site (28) at the time of ignition; a vessel (30) having an intermediate wall (282) for passing EUV light; and a magnetic plasma confinement mechanism (329) creating a magnetic field (320) in the vicinity of the ignition site (28).
Abstract translation: EUV光源装置（20）包括脉冲激光器（22），所述脉冲激光器以聚焦在期望的目标点火现场（28）的选定的脉冲重复频率提供激光脉冲（55）; 提供离散目标（94）的目标形成系统（92）; 在目标形成系统（92）和点火位置（28）之间的目标转向系统（350）; 目标跟踪系统（42）提供关于目标形成系统（92）和目标转向系统（350）之间的目标（94）的移动的信息; 静电等离子体容纳装置（314），其在点火时在点火现场（28）处或附近提供电等离子体限制场（316）; 具有用于使EUV光通过的中间壁（282）的容器（30） 以及在点火现场（28）附近产生磁场（320）的磁等离子体限制机构（329）。
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公开(公告)号：KR101456859B1
公开(公告)日：2014-11-03
申请号：KR1020097023062
申请日：2008-04-09
Applicant: 사이머 엘엘씨
CPC classification number: H01S3/1055 , G02B27/646 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/225 , H01S2301/02
Abstract: 본 발명의 실시예의 측면에 따라, 오차 신호에 기초하여, 대역폭 제어를 위해, 또는 임의의 빔 배율 제어를 이용하지 않으면서, 대역폭이 아닌 다른 레이저 동작 파라미터의 제어를 위해, 시드 레이저 및 증폭기 레이저에서의 가스 방전 사이의 미분 타이밍을 조정하거나, 또는 오차 신호에 기초하여, 대역폭 제어를 위해, 또는 대역폭 제어가 아닌 것을 위해 빔 배율 제어를 이용하면서, 대역폭이 아닌 다른 레이저 동작 파라미터의 제어를 위해, 시드 레이저 및 증폭기 레이저에서의 가스 방전 사이의 미분 타이밍을 조정하고, 오차 신호에 기초하여, 대역폭 제어를 위해, 또는 오차 신호에 기초한 대역폭 제어를 위해 빔 배율 제어를 이용하면서, 대역폭이 아닌 다른 레이저 동작 파라미터의 제어를 위해, 시드 레이저 및 증폭기 레이저에서의 가스 방전 사� ��의 미분 타이밍을 조정하는 것을 포함하는 방법 및 장치가 개시된다.
레이저 시스템, 대역폭, 캐비티, 시드 레이저 출력, 가스 방전 시드 레이저, 가스 방전 증폭기 레이저, 대역폭 측량 유닛, 대역폭 측정치, 대역폭 세트 포인트, 대역폭 오차 신호 생성기, 격자, 가변 빔 배율 광학 시스템, 가변 배율 라인 협대화 유닛, 미분 타이밍 컨트롤러, 대역폭 컨트롤러, 불감대, 대역폭 오차 신호-
公开(公告)号：KR1020100016222A
公开(公告)日：2010-02-12
申请号：KR1020097023062
申请日：2008-04-09
Applicant: 사이머 엘엘씨
CPC classification number: H01S3/1055 , G02B27/646 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/225 , H01S2301/02
Abstract: According to aspects of an embodiment of the disclosed subject matter, method and apparatus are disclose that ma y comprise adjusting a differential timing between gas discharges in the seed laser and amplifier laser for bandwidth control, based on the error signal, or for control of another laser operating parameter other than bandwidth, without utilizing any beam magnification control, or adjusting a differential timing between gas discharges in the seed laser and amplifier laser for bandwidth control, based on the error signal, or for control of another laser operating parameter other than bandwidth, while utilizing beam magnification control for other than bandwidth control, and adjusting a differential timing between gas discharges in the seed laser and amplifier laser for bandwidth control, based on the error signal, or for control of another laser operating parameter other than bandwidth, while utilizing beam magnification control for bandwidth control based on the error signal.
Abstract translation: 根据所公开主题的实施例的方面，公开了一种方法和装置，其包括基于误差信号调整种子激光器中的气体放电与用于带宽控制的放大器激光器之间的差分定时，或用于控制另一个 除了带宽之外的激光操作参数，不利用任何光束放大控制，或者基于误差信号调整用于带宽控制的种子激光器和放大器激光器中的气体放电之间的差分定时，或用于除带宽以外的另一激光器操作参数的控制 同时利用除带宽控制之外的光束放大控制，并且基于误差信号调整种子激光器和放大器激光器中的气体放电之间的差分定时，或用于控制除带宽之外的另一个激光器操作参数，同时 利用基于误差信号的带宽控制的光束放大控制。
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