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公开(公告)号：KR101118995B1
公开(公告)日：2012-03-12
申请号：KR1020067019050
申请日：2005-03-03
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 아킨스로버트피. , 샌드스트롬리차드엘. , 파르틀로윌리암엔. , 포멘코프이고르브이. , 스타이거토마스디. , 알고츠마틴제이. , 보워링노버트알 , 자크스로버트엔. , 팔렌샤트프레데릭에이. , 송준
CPC classification number: B82Y10/00 , G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
Abstract: 선택된 펄스 반복율로 소망하는 타겟 점화 사이트(28)에 포커싱된 레이저 펄스(55)를 공급하는 펄스 레이저(22); 이산 타겟(94)을 제공하는 타겟 형성 시스템(92); 타겟 형성 시스템(92)과 점화 사이트(28) 사이에 있는 타겟 스티어링 시스템(350); 타겟 형성 시스템(92)과 타겟 스티어링 시스템(350) 사이에서의 타겟의 이동에 대한 정보를 제공하는 타겟 추적 시스템(42); 점화시 점화 사이트(28) 또는 그 근방에 전기 플라즈마 감금 필드(316)를 제공하는 정전 플라즈마 억제 장치(314); EUV광을 통과시키기 위한 중간벽(282)을 갖는 베셀(30); 및 점화 사이트 근방에 자기 필드(320)를 발생시키는 자기 플라즈마 한정 매커니즘(329)을 포함하는 EUV 광원 장치(20).
타겟 스티어링 시스템, 펄스 반복율, 점화 사이트, EUV 광, 펄스 레이저Abstract translation: 公开了一种EUV光源装置和方法，其可以包括脉冲激光，其以所选择的脉冲重复频率提供激光脉冲，聚焦在期望的目标点火部位; 目标形成系统，以与激光脉冲重复率配合的选定间隔提供离散目标; 目标转向系统在目标地层系统和期望的目标点火站点之间; 以及目标跟踪系统，其提供关于目标形成系统和目标转向系统之间的目标移动的信息，使得目标转向系统能够将目标定向到期望的目标点火点。 该装置和方法可以包括具有中间壁的容器和具有低压阱的容器，其允许EUV光通过并且保持横跨低压阱的压差。
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公开(公告)号：KR1020030081471A
公开(公告)日：2003-10-17
申请号：KR1020037011272
申请日：2002-02-15
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 스팽글러로날드엘. , 자크로버트엔. , 룰존에이. , 팔렌샤트프레데릭에이. , 포멘코프이고르브이. , 알고츠존엠. , 립콘쟈콥피. , 샌드스트롬리차드엘.
IPC: H01S3/10
CPC classification number: G03F7/70575 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70933 , H01S3/02 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08036 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/1312 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/225
Abstract: 고속 파장 보정 기능을 갖춘 전기 방전 레이저가 개시되었다. 고속 파장 보정 장비는 적어도 하나의 압전 구동기와 고속 파장 측정 시스템(104)과 고속 피드백 응답 시간을 포함한다. 바람직한 실시예에서, 수밀리미터의 저속 시간 프레임, 약 1 내지 5 밀리초의 중속 시간 프레임 및 수 마이크로초의 초고속 프레임상에서 파장을 제어하기 위해 장비가 제공된다. 바람직한 기술은 튜닝 미러를 사용하여 레이저 파장을 튜닝하기 위해 초고속 압전 구동기와 비교적 저속인 스테퍼 모터의 조합을 포함한다. 초고속 파장 제어는 압전 구동기와의 조합으로 압전 로드 셀에 제공된다. 바람직한 실시예는 파장 측정치, 고속 진동 제어, 로드 셀 및 액티브 댐핑 모듈(320)을 사용한 액티브 댐핑, 및 이력 버스트 데이터를 기초로 하여 피드 포워드 알고리즘을 사용한 트랜지언트 반전에 기초하여 고속 피드백 제어를 제공한다.
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公开(公告)号：KR100878772B1
公开(公告)日：2009-01-14
申请号：KR1020037011272
申请日：2002-02-15
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 스팽글러로날드엘. , 자크로버트엔. , 룰존에이. , 팔렌샤트프레데릭에이. , 포멘코프이고르브이. , 알고츠존엠. , 립콘쟈콥피. , 샌드스트롬리차드엘.
IPC: H01S3/10
CPC classification number: G03F7/70575 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70933 , H01S3/02 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08036 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/1312 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/225
Abstract: 고속 파장 보정 기능을 갖춘 전기 방전 레이저가 개시되었다. 고속 파장 보정 장비는 적어도 하나의 압전 구동기와 고속 파장 측정 시스템(104)과 고속 피드백 응답 시간을 포함한다. 바람직한 실시예에서, 수밀리미터의 저속 시간 프레임, 약 1 내지 5 밀리초의 중속 시간 프레임 및 수 마이크로초의 초고속 프레임상에서 파장을 제어하기 위해 장비가 제공된다. 바람직한 기술은 튜닝 미러를 사용하여 레이저 파장을 튜닝하기 위해 초고속 압전 구동기와 비교적 저속인 스테퍼 모터의 조합을 포함한다. 초고속 파장 제어는 압전 구동기와의 조합으로 압전 로드 셀에 제공된다. 바람직한 실시예는 파장 측정치, 고속 진동 제어, 로드 셀 및 액티브 댐핑 모듈(320)을 사용한 액티브 댐핑, 및 이력 버스트 데이터를 기초로 하여 피드 포워드 알고리즘을 사용한 트랜지언트 반전에 기초하여 고속 피드백 제어를 제공한다.
전기 방전 레이저, 파장 보정, 튜닝 미러, 압전 구동기, 댐핑, 버스트 데이터, 피드백 제어, 스테퍼 모터-
公开(公告)号：KR1020060125903A
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：KR1020067019050
申请日：2005-03-03
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 아킨스로버트피. , 샌드스트롬리차드엘. , 파르틀로윌리암엔. , 포멘코프이고르브이. , 스타이거토마스디. , 알고츠마틴제이. , 보워링노버트알 , 자크스로버트엔. , 팔렌샤트프레데릭에이. , 송준
CPC classification number: B82Y10/00 , G03F7/70033 , H05G2/003 , H05G2/008
Abstract: An EUV light source apparatus (20) comprises a pulse laser (22) providing laser pulses (55) at a selected pulse repetition rate focused at a desired target ignition site (28); a target formation system (92) providing discrete targets (94); a target steering system (350) intermediate the target formation system (92) and the ignition site (28); a target tracking system (42) providing information about movement of the target (94) between the target formation system (92) and the target steering system (350); an electrostatic plasma containment apparatus (314) providing an electric plasma confinement field (316) at or near the ignition site (28) at the time of ignition; a vessel (30) having an intermediate wall (282) for passing EUV light; and a magnetic plasma confinement mechanism (329) creating a magnetic field (320) in the vicinity of the ignition site (28).
Abstract translation: EUV光源装置（20）包括脉冲激光器（22），所述脉冲激光器以聚焦在期望的目标点火现场（28）的选定的脉冲重复频率提供激光脉冲（55）; 提供离散目标（94）的目标形成系统（92）; 在目标形成系统（92）和点火位置（28）之间的目标转向系统（350）; 目标跟踪系统（42）提供关于目标形成系统（92）和目标转向系统（350）之间的目标（94）的移动的信息; 静电等离子体容纳装置（314），其在点火时在点火现场（28）处或附近提供电等离子体限制场（316）; 具有用于使EUV光通过的中间壁（282）的容器（30） 以及在点火现场（28）附近产生磁场（320）的磁等离子体限制机构（329）。
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