公开(公告)号：KR1020030041151A

公开(公告)日：2003-05-23

申请号：KR1020037004934

申请日：2001-09-25

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 마이어데이비드더블유. ,  베사우쉘레허브에이. ,  어쇼브알렉산더아이. ,  파틀로윌리암엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  다스팔라쉬피. ,  앤더슨스튜어트엘. ,  포멘코프이고브이. ,  우자츠도우스키리차드씨. ,  판지아오지앙제이. ,  온켈스에케하르트디. ,  네스리차드엠. ,  브라운다니엘제이.더블유.

IPC: H01S3/10

CPC classification number: H01S3/2366 ,  G01J9/00 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333

Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율 및 약 5mJ이상의 펄스 에너지에서 고품질 펄스 레이저 빔을 발생시킬 수 있는 인젝션 시드 모듈 가스 방전 레이저 시스템. 두개의 분리된 방전 챔버(10A, 12B)가 제공되고, 그 중하나는 두번째 방전 챔버(12)에서 증폭되는 초협대역 살포 빔을 발생시키는 마스터 발진기(10)의 부분이다. 챔버(10A, 12A)는 마스터 발진기(10)에서 파장 파라메터 및 증폭 챔버(12A)에서 펄스 에너지 파라메터의 분리된 최적화를 분리되어 허용하도록 제어될 수 있다. MOPA로서 구성되고 집적회로 리소그래피를 위하여 광원으로서 사용을 위해 특별히 디자인된 ArF엑시머 레이저 시스템에서 바람직한 실시예. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버(10A, 12A)는 펄스간 약 0.25밀리초보다 더 적은시간에서 방전 영역으로 부터찌꺼기를 정화함으로써 4,000Hz이상의 펄스율에 동작을 허용하도록 충분한 가스 흐름(11)을 제공하는 단일의 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 발진기(10)는 0.2pm이하의 정확도로 4,000Hz 이상의 반복율에서 펄스 대 펄스 기반에서 중심 라인 파장을 제어할 수 있는 매우 빠른 튜닝 미러를 가지는 라인 내로우잉 패키지(16, 16A)를 장착한다.

Abstract translation: 一种注入式模块化气体放电激光系统，能够以大约4,000Hz或更高的脉冲速率和大约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量脉冲激光束。 提供了两个独立的放电室，其中一个是主振荡器的一部分，产生在第二放电室中放大的非常窄带的种子束。 这些室可以分开控制，允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。 ArF准分子激光系统中的一个优选实施例被配置为MOPA并且被专门设计用作集成电路光刻的光源。 在优选的MOPA实施例中，每个腔室包括单个切向风扇，该单个切向风扇提供足够的气流以允许通过在比脉冲之间的大约0.25毫秒更少的时间内清除来自放电区域的碎片而以4000Hz或更大的脉冲速率进行操作。 主振荡器配备有线变窄的封装，该封装具有非常快速的调谐反射镜，其能够以4000Hz或更高的重复率以脉冲至脉冲的方式控制中心线波长，精度低于0.2μm。

公开(公告)号：KR1020010049332A

公开(公告)日：2001-06-15

申请号：KR1020000024186

申请日：2000-05-06

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 온켈스에케하르트디. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  듀페이토마스피.

IPC: H01S3/225

CPC classification number: H01S3/10092 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/036 ,  H01S3/225

Abstract: PURPOSE: F2 laser with visible red and IR control is provided to realize a reliable, modular, production quality F2 excimer laser capable of producing, at repetition rates in the range of 1,000 to 2,000 Hz or greater, laser pulses with pulse energies in the range of a few mJ with a full width half, maximum bandwidth of about 1 pm or less at wavelengths in the range of 157 nm. CONSTITUTION: A very narrow band reliable modular production quality high repetition rate F2 excimer laser for producing a narrow band pulsed laser beam at repetition rates of at least about 1000 Hz, the laser comprising: A) a laser chamber module comprising a laser chamber comprising: 1) two elongated electrodes; 2) a laser gas comprised of a) fluorine, and b) a buffer gas mixture comprising helium and neon; 3) a gas circulator for circulating the gas between the electrodes at speeds of at least two cm/millisecond B. a pulse power system of a power supply and pulse compression and amplification circuits and pulse power controls for producing high voltage electrical pulses of at least 14,000 volts across the electrodes at rates of at least about 1000 Hz; and C) a laser pulse energy control system for controlling the voltage provided by the pulse power system, the control system comprising a laser pulse energy monitor and a computer processor programmed with an algorithm for calculating, based on historical pulse energy data, electrical pulses needed to produce laser pulses having pulse energies within a desired range of energies.

Abstract translation: 目的：提供可见红和IR控制的F2激光器，以实现可靠，模块化，生产质量的F2准分子激光器，能够以1,000至2000Hz或更大的重复频率产生脉冲能量范围内的激光脉冲 的几个mJ，全长为半宽，在157nm的波长处的最大带宽为约1μm或更小。 构成：一种非常窄带可靠的模块化生产质量高重复率F2准分子激光器，用于以至少约1000Hz的重复速率产生窄带脉冲激光束，该激光器包括：A）包括激光室的激光室模块，包括： 1）两个细长电极; 2）由a）氟组成的激光气体，和b）包含氦和氖的缓冲气体混合物; 3）用于使气体在电极之间以至少2cm /毫秒B的速度循环的气体循环器。电源的脉冲电力系统和脉冲压缩和放大电路以及脉冲功率控制，用于产生至少 以至少约1000Hz的速率跨越电极14,000伏; 以及C）用于控制由脉冲电力系统提供的电压的激光脉冲能量控制系统，所述控制系统包括激光脉冲能量监测器和用基于历史脉冲能量数据计算所需电脉冲的算法编程的计算机处理器 以产生具有在所需能量范围内的脉冲能量的激光脉冲。

公开(公告)号：KR100850450B1

公开(公告)日：2008-08-07

申请号：KR1020037004934

申请日：2001-09-25

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 마이어데이비드더블유. ,  베사우쉘레허브에이. ,  어쇼브알렉산더아이. ,  파틀로윌리암엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  다스팔라쉬피. ,  앤더슨스튜어트엘. ,  포멘코프이고브이. ,  우자츠도우스키리차드씨. ,  판지아오지앙제이. ,  온켈스에케하르트디. ,  네스리차드엠. ,  브라운다니엘제이.더블유.

IPC: H01S3/10

CPC classification number: H01S3/2366 ,  G01J9/00 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333

Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율 및 약 5mJ이상의 펄스 에너지에서 고품질 펄스 레이저 빔을 발생시킬 수 있는 인젝션 시드 모듈 가스 방전 레이저 시스템. 두개의 분리된 방전 챔버(10A, 12B)가 제공되고, 그 중하나는 두번째 방전 챔버(12)에서 증폭되는 초협대역 살포 빔을 발생시키는 마스터 발진기(10)의 부분이다. 챔버(10A, 12A)는 마스터 발진기(10)에서 파장 파라미터 및 증폭 챔버(12A)에서 펄스 에너지 파라미터의 분리된 최적화를 분리되어 허용하도록 제어될 수 있다. MOPA로서 구성되고 집적회로 리소그래피를 위하여 광원으로서 사용을 위해 특별히 디자인된 ArF엑시머 레이저 시스템에서 바람직한 실시예. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버(10A, 12A)는 펄스간 약 0.25밀리초보다 더 적은시간에서 방전 영역으로 부터찌꺼기를 정화함으로써 4,000Hz이상의 펄스율에 동작을 허용하도록 충분한 가스 흐름(11)을 제공하는 단일의 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 발진기(10)는 0.2pm이하의 정확도로 4,000Hz 이상의 반복율에서 펄스 대 펄스 기반에서 중심 라인 파장을 제어할 수 있는 매우 빠른 튜닝 미러를 가지는 라인 내로우잉 패키지(16, 16A)를 장착한다.
엑시머 레이저, 가스 방전 레이저, 마스터 발진기, 펄스 에너지, 포토다이오드, 파워 증폭기

公开(公告)号：KR100343032B1

公开(公告)日：2002-07-02

申请号：KR1020000024186

申请日：2000-05-06

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 온켈스에케하르트디. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  듀페이토마스피.

IPC: H01S3/225

Abstract: 신뢰성 있으며, 모듈화되어 있고, 1000 내지 2000Hz 이상 범위의 반복율에서 생성가능한 생성능력을 갖는 F₂엑시머 레이저로서, 레이저 펄스는 대역폭이 157nm의 범위의 파장에서 약 1pm 이하인 반치전폭을 가지며, 펄스에너지가 10mJ이상이 된다. 레이저 가스 농도는 레이저에서의 불필요한 적외선 방사의 감소에 대하여 개시되어 있다. 또한 적외선광을 실제로 감광하지 않는 UV 에너지 검출기를 개시한다. 본 발명의 바람직한 실시예는, 10 내지 40 와트범위의 전력출력으로 10 내지 5 mJ 범위의 펄스 에너지로 1000 내지 4000 Hz범위로 동작할 수 있다. 조명원으로서 이 레이저를 사용하면, 스테퍼 또는 스캐너 장치는 0.1㎛ 이하의 집적회로 해상도를 만들어낼 수 있다. 대체가능한 모듈은 레이저 챔버와 모듈러 펄스 전력 시스템을 포함한다.
바람직한 실시예에서, 레이저는 2개의 외부 프리즘 세트를 사용하여 F₂157.6nm라인으로 동조된다. 바람직한 제 2 실시예에서, 레이저는 광대역에서 동작하고, 157.6nm 라인은 공동공진기 외부에 선택된다. 바람직한 제 3 실시예에서, 0.2pm의 라인폭이 주입 시딩을 사용하여 제공된다. 또 다른 실시예는 4기압을 초과하는 압력에서 레이저를 동작시켜 동조 범위를 증가시키고 라인 선택용 회절격자를 사용한다.