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公开(公告)号:KR1020070003996A
公开(公告)日:2007-01-05
申请号:KR1020067020324
申请日:2005-02-24
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 파틀로윌리암엔. , 보워링노베르트에르. , 어쇼브알렉산더아이. , 포멘코브이고르브이. , 올리버아이.로저 , 비아텔라존 , 자크로버트엔.
CPC classification number: G03F7/70033 , B82Y10/00 , G03F7/70175 , G03F7/70916 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/065 , G21K2201/067 , H05G2/003 , H05G2/005 , H05G2/006 , H05G2/008
Abstract: An apparatus and method for EUV light production is disclosed which may comprise a laser produced plasma (" LPP") extreme ultraviolet ("EUV") light source control system comprising a target delivery system adapted to deliver moving plasma initiation targets and an EUV light collection optic having a focus defining a desired plasma initiation site, comprising: a target tracking and feedback system comprising: at least one imaging device providing as an output an image of a target stream track, wherein the target stream track results from the imaging speed of the camera being too slow to image individual plasma formation targets forming the target stream imaged as the target stream track; a stream track error detector detecting an error in the position of the target stream track in at least one axis generally perpendicular to the target stream track from a desired stream track intersecting the desired plasma initiation site. At least one target crossing detector may be aimed at the target track and detecting the passage of a plasma formation target through a selected point in the target track. A drive laser triggering mechanism utilizing an output of the target crossing detector to determine the timing of a drive laser trigger in order for a drive laser output pulse to intersect the plasma initiation target at a selected plasma initiation site along the target track at generally its closest approach to the desired plasma initiation site. A plasma initiation detector may be aimed at the target track and detecting the location along the target track of a plasma initiation site for a respective target. An intermediate focus illuminator may illuminate an aperture formed at the intermediate focus to image the aperture in the at least one imaging device. The at least one imaging device may be at least two imaging devices each providing an error signal related to the separation of the target track from the vertical centerline axis of the image of the intermediate focus based upon an analysis of the image in the respective one of the at least two imaging devices. A target delivery feedback and control system may comprise a target delivery unit; a target delivery displacement control mechanism displacing the target delivery mechanism at least in an axis corresponding to a first displacement error signal derived from the analysis of the image in the first imaging device and at least in an axis corresponding to a second displacement error signal derived from the analysis of the image in the second imaging device. ® KIPO & WIPO 2007
Abstract translation: 公开了一种用于EUV光产生的装置和方法,其可以包括激光产生的等离子体(“LPP”)极紫外(“EUV”)光源控制系统,其包括适于递送移动等离子体引发靶的目标传送系统和EUV光收集 光学元件具有限定期望的等离子体起始位置的焦点,包括:目标跟踪和反馈系统,包括:至少一个成像装置,其提供目标流轨迹的图像作为输出,其中,所述目标流轨迹来自所述目标流轨迹的成像速度 摄像机太慢,不能成像形成被作为目标流轨迹成像的目标流的各个等离子体形成目标; 流轨迹误差检测器,从与期望的等离子体起始位置相交的期望的流轨道检测在大致垂直于目标流轨迹的至少一个轴上的目标流轨迹位置的误差。 至少一个目标交叉检测器可以瞄准目标轨道并且检测等离子体形成目标通过目标轨道中的选定点的通过。 驱动激光触发机构利用目标交叉检测器的输出来确定驱动激光触发的定时,以便驱动激光输出脉冲在等离子体引发目标处沿着目标轨道在一般最接近的等离子体起始位置处相交 接近所需的等离子体引发位点。 等离子体起始检测器可以瞄准目标轨道并且检测针对相应目标的等离子体起始位置沿着目标轨迹的位置。 中间焦点照明器可以照亮形成在中间焦点处的孔,以对至少一个成像装置中的孔进行成像。 所述至少一个成像装置可以是至少两个成像装置,每个成像装置基于对所述中间焦点的图像的图像的分析,提供与所述目标轨道与所述中间焦点的图像的垂直中心线轴线分离相关的误差信号 所述至少两个成像装置。 目标传送反馈和控制系统可以包括目标传送单元; 目标传送位移控制机构至少在对应于从第一成像装置中的图像的分析导出的第一位移误差信号的轴上移动目标传送机构,并且至少在与由第二位移误差信号 对第二成像装置中的图像进行分析。 ®KIPO&WIPO 2007
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公开(公告)号:KR100850450B1
公开(公告)日:2008-08-07
申请号:KR1020037004934
申请日:2001-09-25
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 마이어데이비드더블유. , 베사우쉘레허브에이. , 어쇼브알렉산더아이. , 파틀로윌리암엔. , 샌드스트롬리차드엘. , 다스팔라쉬피. , 앤더슨스튜어트엘. , 포멘코프이고브이. , 우자츠도우스키리차드씨. , 판지아오지앙제이. , 온켈스에케하르트디. , 네스리차드엠. , 브라운다니엘제이.더블유.
IPC: H01S3/10
CPC classification number: H01S3/2366 , G01J9/00 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/0057 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333
Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율 및 약 5mJ이상의 펄스 에너지에서 고품질 펄스 레이저 빔을 발생시킬 수 있는 인젝션 시드 모듈 가스 방전 레이저 시스템. 두개의 분리된 방전 챔버(10A, 12B)가 제공되고, 그 중하나는 두번째 방전 챔버(12)에서 증폭되는 초협대역 살포 빔을 발생시키는 마스터 발진기(10)의 부분이다. 챔버(10A, 12A)는 마스터 발진기(10)에서 파장 파라미터 및 증폭 챔버(12A)에서 펄스 에너지 파라미터의 분리된 최적화를 분리되어 허용하도록 제어될 수 있다. MOPA로서 구성되고 집적회로 리소그래피를 위하여 광원으로서 사용을 위해 특별히 디자인된 ArF엑시머 레이저 시스템에서 바람직한 실시예. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버(10A, 12A)는 펄스간 약 0.25밀리초보다 더 적은시간에서 방전 영역으로 부터찌꺼기를 정화함으로써 4,000Hz이상의 펄스율에 동작을 허용하도록 충분한 가스 흐름(11)을 제공하는 단일의 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 발진기(10)는 0.2pm이하의 정확도로 4,000Hz 이상의 반복율에서 펄스 대 펄스 기반에서 중심 라인 파장을 제어할 수 있는 매우 빠른 튜닝 미러를 가지는 라인 내로우잉 패키지(16, 16A)를 장착한다.
엑시머 레이저, 가스 방전 레이저, 마스터 발진기, 펄스 에너지, 포토다이오드, 파워 증폭기-
公开(公告)号:KR101127078B1
公开(公告)日:2012-03-23
申请号:KR1020067020324
申请日:2005-02-24
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 파틀로윌리암엔. , 보워링노베르트에르. , 어쇼브알렉산더아이. , 포멘코브이고르브이. , 올리버아이.로저 , 비아텔라존 , 자크로버트엔.
CPC classification number: G03F7/70033 , B82Y10/00 , G03F7/70175 , G03F7/70916 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/065 , G21K2201/067 , H05G2/003 , H05G2/005 , H05G2/006 , H05G2/008
Abstract: An apparatus and method for EUV light production is disclosed which may comprise a laser produced plasma ("LPP") extreme ultraviolet ("EUV") light source comprising a target delivery system adapted to deliver moving plasma initiation targets and an EUV light collection optic having a focus defining a desired plasma initiation site.
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公开(公告)号:KR1020030041151A
公开(公告)日:2003-05-23
申请号:KR1020037004934
申请日:2001-09-25
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor: 마이어데이비드더블유. , 베사우쉘레허브에이. , 어쇼브알렉산더아이. , 파틀로윌리암엔. , 샌드스트롬리차드엘. , 다스팔라쉬피. , 앤더슨스튜어트엘. , 포멘코프이고브이. , 우자츠도우스키리차드씨. , 판지아오지앙제이. , 온켈스에케하르트디. , 네스리차드엠. , 브라운다니엘제이.더블유.
IPC: H01S3/10
CPC classification number: H01S3/2366 , G01J9/00 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/0057 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333
Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율 및 약 5mJ이상의 펄스 에너지에서 고품질 펄스 레이저 빔을 발생시킬 수 있는 인젝션 시드 모듈 가스 방전 레이저 시스템. 두개의 분리된 방전 챔버(10A, 12B)가 제공되고, 그 중하나는 두번째 방전 챔버(12)에서 증폭되는 초협대역 살포 빔을 발생시키는 마스터 발진기(10)의 부분이다. 챔버(10A, 12A)는 마스터 발진기(10)에서 파장 파라메터 및 증폭 챔버(12A)에서 펄스 에너지 파라메터의 분리된 최적화를 분리되어 허용하도록 제어될 수 있다. MOPA로서 구성되고 집적회로 리소그래피를 위하여 광원으로서 사용을 위해 특별히 디자인된 ArF엑시머 레이저 시스템에서 바람직한 실시예. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버(10A, 12A)는 펄스간 약 0.25밀리초보다 더 적은시간에서 방전 영역으로 부터찌꺼기를 정화함으로써 4,000Hz이상의 펄스율에 동작을 허용하도록 충분한 가스 흐름(11)을 제공하는 단일의 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 발진기(10)는 0.2pm이하의 정확도로 4,000Hz 이상의 반복율에서 펄스 대 펄스 기반에서 중심 라인 파장을 제어할 수 있는 매우 빠른 튜닝 미러를 가지는 라인 내로우잉 패키지(16, 16A)를 장착한다.
Abstract translation: 一种注入式模块化气体放电激光系统,能够以大约4,000Hz或更高的脉冲速率和大约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量脉冲激光束。 提供了两个独立的放电室,其中一个是主振荡器的一部分,产生在第二放电室中放大的非常窄带的种子束。 这些室可以分开控制,允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。 ArF准分子激光系统中的一个优选实施例被配置为MOPA并且被专门设计用作集成电路光刻的光源。 在优选的MOPA实施例中,每个腔室包括单个切向风扇,该单个切向风扇提供足够的气流以允许通过在比脉冲之间的大约0.25毫秒更少的时间内清除来自放电区域的碎片而以4000Hz或更大的脉冲速率进行操作。 主振荡器配备有线变窄的封装,该封装具有非常快速的调谐反射镜,其能够以4000Hz或更高的重复率以脉冲至脉冲的方式控制中心线波长,精度低于0.2μm。
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