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公开(公告)号：KR100953652B1
公开(公告)日：2010-04-20
申请号：KR1020050075928
申请日：2005-08-18
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사 , 재단법인서울대학교산학협력재단
IPC: H01L29/786 , G02F1/136
CPC classification number: H01L51/0004 , H01L21/268 , H01L51/0545
Abstract: 본 발명에 따른 유기 박막 트랜지스터의 제조 방법은 기판 위에 게이트 전극, 게이트 절연막, 소스 전극 및 드레인 전극을 형성하는 단계, 상기 게이트 절연막, 상기 소스 전극 및 드레인 전극 위에 감광성 절연막을 도포하는 단계, 상기 감광성 절연막 위에 소수성 절연막을 적층하는 단계, 광마스크를 통하여 상기 감광성 절연막에 레이저를 조사하는 단계, 상기 감광성 절연막을 현상하여 상기 감광성 절연막의 일부 및 그 위에 위치하는 상기 소수성 절연막 부분을 제거하여 개구부를 형성하는 단계, 상기 기판의 전면(全面)에 친수성 유기 반도체와 용매를 포함하는 용액을 도포하여 상기 소수성 절연막 표면을 제외한 상기 개구부 내에만 상기 용액을 남기는 단계, 그리고 상기 용매를 제거하는 단계를 포함한다.
표시 장치, OTFT, LCD, OLED, 친수성, 소수성-
公开(公告)号：KR1020070021567A
公开(公告)日：2007-02-23
申请号：KR1020050075928
申请日：2005-08-18
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사 , 재단법인서울대학교산학협력재단
IPC: H01L29/786 , G02F1/136
CPC classification number: H01L51/0004 , H01L21/268 , H01L51/0545
Abstract: 본 발명에 따른 유기 박막 트랜지스터의 제조 방법은 기판 위에 게이트 전극, 게이트 절연막, 소스 전극 및 드레인 전극을 형성하는 단계, 상기 게이트 절연막, 상기 소스 전극 및 드레인 전극 위에 감광성 절연막을 도포하는 단계, 상기 감광성 절연막 위에 소수성 절연막을 적층하는 단계, 광마스크를 통하여 상기 감광성 절연막에 레이저를 조사하는 단계, 상기 감광성 절연막을 현상하여 상기 감광성 절연막의 일부 및 그 위에 위치하는 상기 소수성 절연막 부분을 제거하여 개구부를 형성하는 단계, 상기 기판의 전면(全面)에 친수성 유기 반도체와 용매를 포함하는 용액을 도포하여 상기 소수성 절연막 표면을 제외한 상기 개구부 내에만 상기 용액을 남기는 단계, 그리고 상기 용매를 제거하는 단계를 포함한다.
표시 장치, OTFT, LCD, OLED, 친수성, 소수성-
公开(公告)号：KR1020110082415A
公开(公告)日：2011-07-19
申请号：KR1020100002377
申请日：2010-01-11
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사 , 서울대학교산학협력단
IPC: H01L21/027 , H01L51/50
CPC classification number: H01L51/0016 , H01L27/322 , H01L51/0003 , H01L51/0545 , H01L51/56 , H01L21/0272
Abstract: PURPOSE: A method for forming an organic thin film pattern with high resolution is provided to optically lift off a sacrificial layer to form a pattern, thereby easily forming an organic thin film pattern of high resolution. CONSTITUTION: A first organic layer(130) is formed on a substrate(110). Light energy is irradiated onto the first organic layer to selectively eliminate the first organic layer. A sacrificial layer is formed on a part where the first organic layer remains. A second organic layer is formed on the substrate and the sacrificial layer. The second organic layer is lifted off to form a second organic layer pattern.
Abstract translation: 目的：提供用于形成高分辨率的有机薄膜图案的方法以光学提取牺牲层以形成图案，从而容易地形成高分辨率的有机薄膜图案。 构成：在衬底（110）上形成第一有机层（130）。 将光能照射到第一有机层上以选择性地除去第一有机层。 在残留第一有机层的部分上形成牺牲层。 在基板和牺牲层上形成第二有机层。 第二有机层被提起以形成第二有机层图案。
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公开(公告)号：KR100964235B1
公开(公告)日：2010-06-17
申请号：KR1020080134985
申请日：2008-12-26
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
CPC classification number: H01L27/322 , H01L39/2461 , H01L51/5237 , H01L2251/558 , H01L2924/01077
Abstract: PURPOSE: An organic light emitting device is provided to improve the red, the green, and the blue radiation efficiency by effectively controlling the electric charge inserted into a light emitting layer. CONSTITUTION: A second electrode(230) faces a first electrode(210). A first or a third light emitting layer is formed between a first electrode and a second electrode. A color filter is arranged on the progressing route of the light emitted from a first or a third light emitting layer. An electronic blocking intermediate layer is formed between the first light emitting layer and the second light emitting layer. The electronic blocking intermediate layer has the thickness of 1nm or 3nm. A hole blocking intermediate layer is formed between the second light emitting layer and the third light emitting layer.
Abstract translation: 目的：提供有机发光装置，通过有效地控制插入发光层的电荷来提高红，绿，蓝的辐射效率。 构成：第二电极（230）面向第一电极（210）。 在第一电极和第二电极之间形成第一或第三发光层。 在从第一或第三发光层发射的光的前进路线上布置滤色器。 在第一发光层和第二发光层之间形成电子阻挡中间层。 电子阻挡中间层的厚度为1nm或3nm。 在第二发光层和第三发光层之间形成空穴阻挡中间层。
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公开(公告)号：KR1020100045305A
公开(公告)日：2010-05-03
申请号：KR1020080104427
申请日：2008-10-23
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
Inventor： 서민철
CPC classification number: H01L51/56 , H01L27/3246 , H01L21/02129 , H01L21/312 , H01L2251/558
Abstract: PURPOSE: An organic electroluminescent display device and a manufacturing method thereof are provided to prevent the diffusion of a contaminant by forming a fluorinated polymer film on a pixel defining layer. CONSTITUTION: A first electrode(112) is formed on a substrate(100). A pixel defining layer(114) is formed on the first electrode. The pixel defining layer includes a photoresist material. A fluorinated polymer film(115) is formed on the pixel defined layer. The fluorinated polymer film is made of hydrophobic materials and has the thickness of 100 to 3000 angstrom. The organic layer is formed on the first electrode and includes the organic light emitting layer. A second electrode is formed over the whole surface of the substrate.
Abstract translation: 目的：提供一种有机电致发光显示装置及其制造方法，以通过在像素限定层上形成氟化聚合物膜来防止污染物的扩散。 构成：在基板（100）上形成第一电极（112）。 像素限定层（114）形成在第一电极上。 像素限定层包括光致抗蚀剂材料。 氟化聚合物膜（115）形成在像素限定层上。 氟化聚合物膜由疏水性材料制成，厚度为100〜3000埃。 有机层形成在第一电极上并且包括有机发光层。 第二电极形成在衬底的整个表面上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020080065486A
公开(公告)日：2008-07-14
申请号：KR1020070002660
申请日：2007-01-09
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
Inventor： 서민철
IPC: G02F1/167
CPC classification number: G02F1/167 , G02F1/133516 , G02F1/1368
Abstract: An electrophoretic display device and a manufacturing method thereof are provided to implement the full color electrophoretic display device through a simple method, thereby further improving productivity. A first substrate(1) includes a TFT(Thin Film Transistor). A second substrate(2) is coupled with one side of the first substrate, and includes electrophoretic particles and electrophoretic dispersants. A third substrate(3) is coupled with one side of the second substrate and includes a color filter. The first substrate includes a first base substrate(11) and TFTs(12,13,14a,14b,15) formed on the first base substrate. The second substrate is configured by forming an electrophoretic layer(23) in the other side of a common electrode(22) after forming the common electrode in the other side of a second base substrate(21).
Abstract translation: 提供电泳显示装置及其制造方法，通过简单的方法实现全色电泳显示装置，从而进一步提高生产率。 第一基板（1）包括TFT（薄膜晶体管）。 第二衬底（2）与第一衬底的一侧耦合，并且包括电泳颗粒和电泳分散剂。 第三基板（3）与第二基板的一侧耦合并且包括滤色器。 第一基板包括形成在第一基板上的第一基板（11）和TFT（12,13,14a，14b，15）。 在第二基板（21）的另一侧形成公共电极之后，在公共电极（22）的另一侧形成电泳层（23）来构成第二基板。
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公开(公告)号：KR1020060108945A
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：KR1020050030709
申请日：2005-04-13
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L29/786
CPC classification number: H01L51/0023 , H01L51/0014 , H01L51/105
Abstract: A method for manufacturing a TFT(Thin Film Transistor) and the TFT manufactured thereby are provided to improve the bonding between an electrode and an insulating layer and to perform easily an electrode patterning process by using the irradiation of a laser beam. A gate insulating layer(13) is formed on a gate electrode(12). A bonding layer(14a) is formed on the gate insulating layer. A conductive layer(14b) is formed on the bonding layer. Source and drain electrodes spaced apart from each other are formed on the resultant structure by etching simultaneously the bonding layer and the conductive layer using a laser beam irradiation. A semiconductor layer for contacting the source and drain electrodes is formed on the resultant structure.
Abstract translation: 提供了一种用于制造TFT（薄膜晶体管）的方法及其制造的TFT，以改善电极和绝缘层之间的接合，并且通过使用激光束的照射容易地执行电极图案化工艺。 栅绝缘层（13）形成在栅电极（12）上。 在栅极绝缘层上形成接合层（14a）。 在接合层上形成导电层（14b）。 通过使用激光束照射同时蚀刻接合层和导电层，在所得结构上形成彼此间隔开的源极和漏极。 在所得结构上形成用于接触源极和漏极的半导体层。
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公开(公告)号：KR101127573B1
公开(公告)日：2012-03-23
申请号：KR1020050030709
申请日：2005-04-13
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L29/786
Abstract: 본 발명은 박막 트랜지스터의 전극과 절연막 사이의 접합이 개선되면서도 전극 패터닝이 용이해진 박막 트랜지스터의 제조방법을 위하여, (i) 게이트 전극을 형성하는 단계와, (ii) 상기 게이트 전극을 덮도록 게이트 절연막을 형성하는 단계와, (iii) 상기 게이트 절연막 상에 접합층을 형성하는 단계와, (iv) 상기 접합층 상에 도전층을 형성하는 단계와, (v) 상기 도전층에 레이저 빔을 조사하여 상기 접합층과 상기 도전층을 동시에 식각함으로써 서로 이격된 소스 전극 및 드레인 전극을 형성하는 단계와, (vi) 상기 소스 전극 및 상기 드레인 전극에 각각 접하는 반도체층을 형성하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 박막 트랜지스터의 제조방법 및 이에 의해 제조된 박막 트랜지스터를 제공한다.
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公开(公告)号：KR101108162B1
公开(公告)日：2012-01-31
申请号：KR1020100002377
申请日：2010-01-11
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사 , 서울대학교산학협력단
IPC: H01L21/027 , H01L51/50
CPC classification number: H01L51/0016 , H01L27/322 , H01L51/0003 , H01L51/0545 , H01L51/56
Abstract: 본 발명은 고해상도 유기 박막 패턴의 형성 방법에 관한 것으로, (a) 기판 상에 제 1 유기층을 형성하는 단계; (b) 상기 제 1 유기층에 선택적으로 광 에너지를 조사하여 상기 제 1 유기층을 선택적으로 제거하고, 상기 제 1 유기층의 남아있는 부분으로 희생층을 형성하는 단계; (c) 상기 기판 및 상기 희생층 상의 전면(全面)에 제 2 유기층을 형성하는 단계; 및 (d) 솔벤트를 사용하여, 상기 희생층을 제거하여 상기 희생층 상에 형성된 상기 제 2 유기층을 리프트 오프(lift off) 함으로써, 남아 있는 제 2 유기층으로 제 2 유기층 패턴을 형성하는 단계;를 포함하는 유기 박막 패턴 형성 방법을 제공한다.
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公开(公告)号：KR101084171B1
公开(公告)日：2011-11-17
申请号：KR1020090073519
申请日：2009-08-10
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
Inventor： 서민철
CPC classification number: H01L27/3279 , H01L51/5212 , H01L51/5228 , H01L51/5284
Abstract: 본 발명은 대향 전극의 IR 드롭이 방지되고, 콘트라스트 저하를 방지할 수 있는 유기 발광 디스플레이 장치 및 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법에 관한 것으로서, 기판; 상기 기판 상에 구비된 복수 개의 박막 트랜지스터들; 상기 박막 트랜지스터들에 전기적으로 연결된 복수 개의 화소 전극들과, 상기 기판의 전면(全面)에 걸쳐 배치된 대향 전극과, 상기 화소 전극들과 대향 전극 사이에 배치되며 적어도 발광층을 포함하는 중간층을 구비하는 유기 발광부; 상기 유기 발광부의 대향 전극 상부에 배치되고, 상기 유기 발광부의 화소 전극들 사이에 배치된 대향 전극 버스 라인; 및 상기 대향 전극 버스 라인을 둘러싸는 블랙 매트릭스;를 포함하는 유기 발광 디스플레이 장치 및 그 제조 방법을 제공한다.
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