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公开(公告)号:KR100682868B1
公开(公告)日:2007-02-15
申请号:KR1020040079201
申请日:2004-10-05
Applicant: 삼성전기주식회사
IPC: G02B26/08 , G11B7/1362
CPC classification number: G11B7/1362 , G02B5/08 , G02B6/4214 , G11B7/123 , G11B7/22
Abstract: 마이크로 미러 및 그 제조방법이 개시된다. 개시된 마이크로 미러는, 제1경사면 및 제2경사면이 서로 마주보게 형성된 실리콘 기판과, 상기 제1경사면 및 제2경사면 상에 각각 형성된 제1미러면 및 제2미러면을 구비한 클래드층을 구비한다. 상기 클래드층이 광반사면이 된다.
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公开(公告)号:KR1020160043357A
公开(公告)日:2016-04-21
申请号:KR1020140137636
申请日:2014-10-13
Applicant: 삼성전기주식회사
CPC classification number: H05K1/183 , H05K1/185 , H05K3/0097 , H05K3/305 , H05K3/306 , H05K3/4682 , H05K3/4697 , H05K2201/10015 , H05K2201/10636 , H05K2203/1536 , Y02P70/611
Abstract: 본발명은임베디드기판및 임베디드기판의제조방법에관한것이다. 본발명의실시예에따르면임베디드기판은절연층, 절연층내부에내장된소자, 절연층하면에매립되도록형성된제1 회로패턴, 절연층하면으로부터돌출되도록형성된제2 회로패턴및 소자와제2 회로패턴에접합되도록형성된비아를포함한다.
Abstract translation: 本发明涉及嵌入式基板和嵌入式基板的制造方法。 根据本发明的实施例,嵌入式基板包括:绝缘层; 嵌入绝缘层中的器件; 第一电路图案,被配置为嵌入在所述绝缘层的底表面中; 第二电路图案,被配置为从绝缘层的底表面突出; 以及经配置以结合到所述装置和所述第二电路图案的通孔。 本发明的目的是为嵌入式基板提供改进的信号传输可靠性。
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公开(公告)号:KR100634511B1
公开(公告)日:2006-10-13
申请号:KR1020040072087
申请日:2004-09-09
Applicant: 삼성전기주식회사
IPC: G11B7/1353
CPC classification number: G02B27/0037 , G02B27/4211 , G02B27/4216 , G02B27/4255 , G02B27/4261 , G02B27/4272 , G02B27/4277 , G11B7/1353 , G11B7/1362 , G11B7/13922
Abstract: 본 발명은 미러의 표면 형상 오차에 의해 발생되는 수차를 홀로그램 소자를 이용하여 보상하는 광학계 및 이를 이용한 광 픽업 장치를 개시한다. 본 발명의 한 유형에 따른 미러의 수차를 보정하는 광학계는, 광을 발생시키는 광원; 상기 광원에서 발생한 광의 광 경로를 변환시키기 위한 미러; 및 상기 미러의 표면 형상 오차로 인해 상기 미러로부터 반사된 광에 발생하는 수차를 보상하기 위한 수차 보상 소자;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
광 픽업 장치, PV 값, 미러, 수차, 습식 에칭, 홀로그램 소자-
公开(公告)号:KR100580657B1
公开(公告)日:2006-05-16
申请号:KR1020040092106
申请日:2004-11-11
Applicant: 삼성전기주식회사
IPC: H01L21/77
Abstract: 본 발명은 마이크로 미러 어레이 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 광소자의 광경로 제어를 위해 사용되는 마이크로 미러 어레이의 제조 방법에 있어서, (가) 기판 상에 마이크로 미러가 안착되는 적어도 하나 이상의 정렬 패턴을 형성시키는 단계; 및 (나) 상기 정렬 패턴 내에 적어도 하나 이상의 반사면을 지닌 마이크로 미러를 안착시키는 단계;로 제작되는 마이크로 미러 어레이를 제공한다.
Abstract translation: 微镜阵列及其制造方法技术领域本发明涉及一种微镜阵列及其制造方法。 一种制造用于光学器件的光路控制的微反射镜阵列的方法,包括以下步骤:(a)形成其上安装微反射镜的至少一个对准图案; 并且(b)将具有至少一个反射表面的微反射镜放置在对准图案中。
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5.
公开(公告)号:KR1020050114412A
公开(公告)日:2005-12-06
申请号:KR1020040039627
申请日:2004-06-01
Applicant: 삼성전기주식회사
CPC classification number: G11B7/22 , G11B7/123 , G11B7/1263 , G11B7/131 , G11B7/1353 , G11B7/1362 , Y10T156/1052
Abstract: 광을 발생시키는 광원 및 광을 수광하는 메인 광검출기를 포함하는 적어도 하나의 광검출기가 배치된 광학 벤치와; 광학 벤치에 결합되는 렌즈부와; 광원에서 출사되어 렌즈부쪽으로 진행하는 광과 렌즈부쪽에서 입사되어 진행하는 광의 광경로를 분리하는 광경로 분리부재를 포함하는 집적 광학 시스템, 그 제조 방법 및 이를 광모듈 및 광픽업 중 어느 하나로 적용한 정보 기록 및/또는 재생기가 개시되어 있다.
개시된 집적 광학 시스템은, 모니터 광검출기 및 광학 벤치에 결합된 광경로 형성부 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 이때, 모니터 광검출기는, 광원의 전방으로 출사된 광의 일부를 곧바로 수광하도록 광학 벤치에 배치된다. 광경로 형성부는, 광원에서 출사되어 입사되는 광의 진행 방향을 전환하여 렌즈부쪽으로 향하도록 하는 제1미러와, 렌즈부쪽에서 입사되고 제1미러에서 반사된 광의 진행 방향을 전환하여 메인 광검출기로 향하도록 하는 제2미러를 구비한다.-
6.
公开(公告)号:KR100601955B1
公开(公告)日:2006-07-14
申请号:KR1020040039627
申请日:2004-06-01
Applicant: 삼성전기주식회사
CPC classification number: G11B7/22 , G11B7/123 , G11B7/1263 , G11B7/131 , G11B7/1353 , G11B7/1362 , Y10T156/1052
Abstract: 광을 발생시키는 광원 및 광을 수광하는 메인 광검출기를 포함하는 적어도 하나의 광검출기가 배치된 광학 벤치와; 광학 벤치에 결합되는 렌즈부와; 광원에서 출사되어 렌즈부쪽으로 진행하는 광과 렌즈부쪽에서 입사되어 진행하는 광의 광경로를 분리하는 광경로 분리부재를 포함하는 집적 광학 시스템, 그 제조 방법 및 이를 광모듈 및 광픽업 중 어느 하나로 적용한 정보 기록 및/또는 재생기가 개시되어 있다.
개시된 집적 광학 시스템은, 모니터 광검출기 및 광학 벤치에 결합된 광경로 형성부 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 이때, 모니터 광검출기는, 광원의 전방으로 출사된 광의 일부를 곧바로 수광하도록 광학 벤치에 배치된다. 광경로 형성부는, 광원에서 출사되어 입사되는 광의 진행 방향을 전환하여 렌즈부쪽으로 향하도록 하는 제1미러와, 렌즈부쪽에서 입사되고 제1미러에서 반사된 광의 진행 방향을 전환하여 메인 광검출기로 향하도록 하는 제2미러를 구비한다.-
公开(公告)号:KR1020060023293A
公开(公告)日:2006-03-14
申请号:KR1020040072087
申请日:2004-09-09
Applicant: 삼성전기주식회사
IPC: G11B7/1353
CPC classification number: G02B27/0037 , G02B27/4211 , G02B27/4216 , G02B27/4255 , G02B27/4261 , G02B27/4272 , G02B27/4277 , G11B7/1353 , G11B7/1362 , G11B7/13922
Abstract: 본 발명은 미러의 표면 형상 오차에 의해 발생되는 수차를 홀로그램 소자를 이용하여 보상하는 광학계 및 이를 이용한 광 픽업 장치를 개시한다. 본 발명의 한 유형에 따른 미러의 수차를 보정하는 광학계는, 광을 발생시키는 광원; 상기 광원에서 발생한 광의 광 경로를 변환시키기 위한 미러; 및 상기 미러의 표면 형상 오차로 인해 상기 미러로부터 반사된 광에 발생하는 수차를 보상하기 위한 수차 보상 소자;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
광 픽업 장치, PV 값, 미러, 수차, 습식 에칭, 홀로그램 소자-
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公开(公告)号:KR1020060030369A
公开(公告)日:2006-04-10
申请号:KR1020040079201
申请日:2004-10-05
Applicant: 삼성전기주식회사
IPC: G02B26/08 , G11B7/1362
CPC classification number: G11B7/1362 , G02B5/08 , G02B6/4214 , G11B7/123 , G11B7/22
Abstract: A micro mirror and a method of manufacturing the same are provided. The micro mirror includes a silicon substrate having a first slant plane and a second slant plane that face each other, and a clad layer including a first mirror surface and a second mirror surface respectively formed on the first slant plane and the second slant plane, wherein the clad layer reflects light.
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公开(公告)号:KR100561871B1
公开(公告)日:2006-03-17
申请号:KR1020040058840
申请日:2004-07-27
Applicant: 삼성전기주식회사
IPC: G11B7/22
Abstract: 광픽업 장치가 개시된다. 본 발명에 따른 광픽업 장치는 일측에 마운트 삽입공이 형성되어 있는 판상 광학벤치, 상기 광학벤치에 결합되는 방열판, 상기 방열판에 일체적으로 형성되는 것으로서 상기 광학벤치의 마운트 삽입공에 끼워지는 소정 높이의 마운트 및 상기 마운트의 상면에 장착되는 광원을 구비한다.
Abstract translation: 公开了一种光学拾取装置。 根据本发明的光学拾取装置被耦合到一板状光具座,光具座,形成一个球安装到侧散热器,为形成在所述散热器的预定高度的一体并装配到光具座的安装插入孔 并且安装在安装座的上表面上的光源。
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