公开(公告)号：KR1020020094719A

公开(公告)日：2002-12-18

申请号：KR1020010033106

申请日：2001-06-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김병태

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: A polishing apparatus having a cooling function is provided to prevent a down and a misoperation of the apparatus due to temperature rise by using a cooling unit. CONSTITUTION: In the polishing apparatus comprising a platen, cross and a polisher, a sensing unit(16) is formed in the cross for sensing the temperature in the cross. A control unit(18) is applied to the sensing signal and outputted a control signal. A cooling unit(20) is controlled the temperature in the cross responding to the control signal. A power supply unit(22) is supplied to the control unit(18), the sensing unit(16), and the cooling unit(20). A fan or a chiller is used as the cooling unit(20).

Abstract translation: 目的：提供具有冷却功能的抛光装置，以通过使用冷却单元来防止由于温度上升引起的装置的下降和误操作。 构成：在包括压板，十字和抛光机的抛光装置中，在十字架中形成感测单元（16）以感测十字架中的温度。 控制单元（18）被施加到感测信号并输出​​控制信号。 冷却单元（20）根据控制信号控制交叉的温度。 电源单元（22）被提供给控制单元（18），感测单元（16）和冷却单元（20）。 风扇或冷却器用作冷却单元（20）。

公开(公告)号：KR1019970013173A

公开(公告)日：1997-03-29

申请号：KR1019950027215

申请日：1995-08-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김병태 ,  이동희 ,  전재우

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 반도체 제조 공정중 확산(DIFFUSION) 공정에 있어서, 반도체 공정재료인 웨이퍼(WAFER)를 보트(BOAT)와 케리어(CARRIER) 상호간에 로딩(LOADING), 언 로딩(UNLOADING)하기 위하여 제공되는 웨이퍼 트랜스퍼에 관한 것으로 특히, 다량의 웨이퍼를 로딩, 언 로딩하는 척의 구조를 개선하여 웨이퍼의 파손(BROKEN)과 긁힘(SCRATCH) 현상을 방지한 반도체 웨이퍼용 트랜스퍼 척에 관한 것으로 반도체제조의 확산공정에 적용되는 웨이퍼 이송용 트랜스퍼 척에 있어서, 상부 블럭과 피치 가이드를 갖는 중앙 블럭, 하부 가이드를 포함한 하부 블럭이 분리 조합형으로 마련됨과; 상기 조합체의 배면에 위치되어 변형 방지를 위해 감싸질 수 있도록 별도의 변형 방지판이 마련됨을 그 특징으로 하는 것이다.

公开(公告)号：KR1020120054442A

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：KR1020100115817

申请日：2010-11-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 장민화 ,  김종선 ,  김병태

IPC: G09G3/20 ,  G09G3/30 ,  G09G3/36 ,  G09G3/22

CPC classification number: G09G3/20 ,  G06F3/1446 ,  G09G2310/027 ,  G09G2310/0297 ,  G09G2330/08 ,  G09G2330/12 ,  G09G2370/08

Abstract: PURPOSE: A source driving circuit, a display apparatus including the same, and an operation method thereof are provided to display a stable replacement image in a failure mode by operating a plurality of timing controllers in the failure mode when a failure is detected among the timing controllers. CONSTITUTION: A master timing controller(161) controls a first source driver according to a first image signal. A slave timing controller(162-166) controls a second source driver according to a second image signal. The master timing controller creates a first replacement image signal and a failure operation signal. The slave timing controller creates a second replacement image signal and a failure detection signal.

Abstract translation: 目的：提供源驱动电路，包括该源驱动电路的显示装置及其操作方法，以在故障模式下通过在故障模式下操作多个定时控制器以在定时中检测到故障时显示稳定的替换图像 控制器。 构成：主时序控制器（161）根据第一图像信号控制第一源驱动器。 从机定时控制器（162-166）根据第二图像信号控制第二源驱动器。 主时序控制器创建第一替换图像信号和故障操作信号。 从时序控制器产生第二替换图像信号和故障检测信号。

公开(公告)号：KR100263922B1

公开(公告)日：2000-09-01

申请号：KR1019980027138

申请日：1998-07-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 최연성 ,  오승준 ,  김영서 ,  김병태 ,  최용 ,  김상은 ,  이경한

IPC: A61J3/00

Abstract: 탄소-11로 표지된 방사성의약품을 제조하기 위한 자동화장치가 개시된다. 본 발명에 의한 탄소-11로 표지된 방사성의약품의 제조를 위한 자동화장치는, 전구물질 및 반응용매가 들어 있는 반응용기를 구비하며 [탄소-11]요오드화 메탄이 상기 반응용기로 포집되면 상기 반응용기가 냉각조에서 가열조로 이동되어 상기 전구물질과 상기 [탄소-11]요오드화 메탄의 메틸화반응이 수행되는 방사성화합물 합성부와, 리저버, 자동시료주입기 및 고압액상크로마토그래피 시스템을 구비하며 상기 반응용기의 반응액이 상기 리저버로 유입되고 상기 리저버의 반응액이 상기 자동시료주입기에 의하여 고압액상크로마토그래피 칼럼으로 주입된 후, 정제되어 원하는 방사성화합물만이 얻어지는 정제부 및 감압증류기와 생리식염수가 채워진 주사기를 구비하며 상기 정제부에서 정제된 방사성화합물 용액이 플라스크로 이동되어 상기 감압� ��류기에 의해 상기 용매가 제거된 후, 상기 주사기의 상기 생리식염수가 상기 감압증류기의 플라스크로 이동되어 상기 플라스크에 있는 상기 방사성화합물을 용해한 후 상기 용액이 무균 막여과기를 거쳐 무균바이알로 이동됨으로써 주사액이 형성되는 제제화부를 포함한다. 상기 자동화장치는, 방사능에 대한 피폭을 최소화할 수 있으며 저렴한 비용으로 제작이 가능하고 고장시 단시간에 보수가 가능하며 한 개의 자동화 장치를 사용하여 다양한 종류의 방사성의약품을 제조할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020000051947A

公开(公告)日：2000-08-16

申请号：KR1019990002683

申请日：1999-01-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김종호 ,  최용 ,  김병태 ,  최연성 ,  김상은 ,  이경한

IPC: A61B5/00

Abstract: PURPOSE: A gamma camera system is provided, which images the position and size of radioactivity exactly and can be manufactured compactly. CONSTITUTION: A gamma camera system comprises a detection part (10) which outputs the signal containing the two-dimensional information based on the input of radioactive ray; a delay part (20) which amplifies the signal output from the detection part (10) and delays the amplified signal for a certain period; a control part (30) which inputs the amplified signal and selects a certain range of signal among the input signal; a signal transformation part (40) which is controlled by the output of the control part (30) and transforms the signal input from the delay part (20); and an image output part (50) which outputs image from the output of the signal transformation part (40).

Abstract translation: 目的：提供一个伽马相机系统，可以精确地对放射性的位置和大小进行成像，并可以紧凑地制造。 构成：γ照相机系统包括：检测部（10），其基于放射线的输入输出包含二维信息的信号; 延迟部分（20），放大从检测部分（10）输出的信号并延迟放大的信号一段时间; 控制部分（30），其输入放大的信号并在输入信号中选择一定范围的信号; 信号变换部（40），其由所述控制部（30）的输出控制，并变换从所述延迟部（20）输入的信号。 以及从信号变换部（40）的输出输出图像的图像输出部（50）。

公开(公告)号：KR1019970052098A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950050053

申请日：1995-12-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김병태

IPC: H01L21/22

Abstract: 본 발명은 확산로용 쉘 보트 보관 박스에 관한 것으로서, 본 발명은 확산로용 쉘 보트의 파손 및 오염을 방지할 수 있는 확산로용 쉘 보트 보관 박스를 제공하는데 그 목적을 두고 있다.
상기의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 확산로용 쉘 보트 보관박스는 몸체의 전면에 복수 개의 삽입공이 일정 간격으로 나열 형성되어 있는 종형 지지판과, 상기 종형 지지판의 상하단부에 그 일단이 수평으로 고정되는 수평 지지판과, 상기 수평 지지판을 수직 방향으로 지지할 수 있도록 구비된 조형 지지부와, 상기 종형 지지판에 일정간격으로 고정되어 보트를 올려 놓을 수 있도록 구비된 보트 받칩부로 구성되어 있음을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR1019970077766A

公开(公告)日：1997-12-12

申请号：KR1019960014672

申请日：1996-05-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김병태

IPC: H01L35/00

Abstract: 본 발명은 반도체 제조공정의 확산챔버의 온도를 제어하는 센서에 관한 것으로, 구체적으로는 확산챔버의 온도를 정확하게 정상적으로 검출할 수 있도록 절연체부분을 개선한 열전쌍 센서에 관한 것이다. 종래의 열전쌍 센서는 리드부가 절연체의 상부에 노출되어 있기 때문에 반응챔버의 온도를 검출할때 상기 리드부가 고온의 반응챔버에 닿거나 또는 열을 공급하는 코일이나 퍼니스튜브표면등의 이물질과 닿을 경우가 발생하게 된다. 이 경우 외부의 과다한 열이 열전쌍 센서의 리드부에 전달되어 실온도보다 높게 측정되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상술한 제반 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 절연체상부에 외부의 접촉으로부터 보호하기 위한 요홈을 형성하여 이 요홈에 리드부를 구비하여 온도를 정확히 측정하므로서 반응챔버의 온도를 소정온도로 제어할 수 있기 때문에 웨이퍼에 확산이 균일하게 형성될 수 있다. 그 결과 반도체 장치의 생산 효율 및 성능향상을 얻는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020010064602A

公开(公告)日：2001-07-09

申请号：KR1019990064831

申请日：1999-12-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김병태 ,  송주헌

IPC: H01L21/66

Abstract: PURPOSE: A detecting apparatus for flat zone is provided to reduce a cleaning time and enhance productivity of a semiconductor device by detecting a flat zone of a wafer in a rapid and reliable fashion after brushing. CONSTITUTION: A light radiating unit(120) is fixedly installed to a mount(110) over a wafer(150), and outputs an optical signal toward a flat zone(155) of the wafer to detect the flat zone. A light receiving unit(130) is arranged under the wafer(150) to receive the optical signal from the light radiating unit(120). An injector nozzle(180) injects gas to the flat zone(155) of the wafer(150) during a detection process of the flat zone(155) to remove moisture existing in the flat zone(155). A control unit(160) applies an operation signal to the light radiating unit(120) and the injector nozzle(180). A brush driving unit(199) rotates brushes(140,145) to brush the wafer surface. A rotating unit(190) rotates the wafer during brushing.

Abstract translation: 目的：提供一种用于平坦区域的检测装置，用于通过在刷洗之后以快速和可靠的方式检测晶片的平坦区域来减少清洁时间并提高半导体器件的生产率。 构成：将光辐射单元（120）固定地安装在晶片（150）上的安装件（110）上，并向晶片的平坦区域（155）输出光信号以检测平坦区域。 光接收单元（130）布置在晶片（150）的下方，以接收来自光辐射单元（120）的光信号。 喷射器喷嘴（180）在平坦区域（155）的检测过程期间将气体喷射到晶片（150）的平坦区域（155），以去除存在于平坦区域（155）中的水分。 控制单元（160）向光辐射单元（120）和喷射器喷嘴（180）施加操作信号。 刷驱动单元（199）旋转刷（140,145）以刷刷晶片表面。 旋转单元（190）在刷洗期间旋转晶片。

公开(公告)号：KR100240417B1

公开(公告)日：2000-01-15

申请号：KR1019960034267

申请日：1996-08-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김병태 ,  이동희 ,  박준기 ,  전재우

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 웨이퍼에 공정을 수행하기 위하여 한 운반구에서 다른 운반구로 이송할 때 웨이퍼를 안전하게 이송하기 위한 웨이퍼 이송장치에 관한 것으로, 웨이퍼 이송장치의 몸체와, 상기 몸체를 관통하여 설치되고 일단에 모터와 연결되어 상·하 동작하는 동작바와, 상기 동작바의 타단에 연결되고 상·하 동작되어 웨이퍼가 이송되게 하는 푸셔를 갖는 웨이퍼 이송장치에 있어서, 푸셔의 길이 방향의 양단에 소정의 거리를 두고 각각 설치된 스톱퍼와, 푸셔 양단의 스톱퍼를 연결하여 일체되어 왕복운동을 하도록 하는 로드와, 푸셔 양단의 스톱퍼중, 어느 하나의 스톱퍼와 연결되도록 상기 몸체 상에 설치된 피스톤을 포함하여 상기 푸셔 상에 로딩된 보우트 또는 캐리어를 소정의 길이로 이동하게 하는 것을 포함한다. 이와 같은 장치에 의해서, 웨이퍼의 이송시 보우트 또는 캐리어의 정확한 위치를 맞추어 웨이퍼를 이송할 수 있다. 따라서, 웨이퍼의 표면에 발생하는 흠집을 방지하고, 웨이퍼의 파손을 방지하여 웨이퍼 이송장치의 수율을 높일 수 있다.

公开(公告)号：KR1020010002489A

公开(公告)日：2001-01-15

申请号：KR1019990022309

申请日：1999-06-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정의훈 ,  송재덕 ,  김병태

IPC: B24B7/24

Abstract: PURPOSE: A wafer polishing device having a wafer carrier, which a ring-shaped projection is formed on the bottom, is provided to secure the stable polishing conditions while the difference of the layer removing rate by polishing in the central part or the edge part of a wafer is removed and made even. CONSTITUTION: A wafer polishing device comprises; a polishing table(160) which a polishing pad(150) is bonded to on the top; a wafer carrier(120) which has the bottom to press a wafer(110) so that the wafer is bonded to the polishing pad when the wafer is fixed with a fixture; a guide ring(130) which fixes the wafer by surrounding to prevent the detachment of the wafer from the wafer carrier; and a ring-shaped projection part(125) which is projected from the bottom of the wafer carrier, and elongated from the bottom as much as the certain width to expose the center part(120c) of the bottom. The ring-shaped projection part is 2-7mm away from a bottom edge(120a) of the wafer carrier. In case of need, a backing film(140) is equipped in between the wafer carrier and the wafer so that the state of bond between the wafer and the polishing pad is maintained.

Abstract translation: 目的：提供一种具有在底部形成有环形突起的晶片载体的晶片抛光装置，以确保稳定的抛光条件，同时通过在中心部分或边缘部分中的抛光的层去除率的差异 晶片被去除并均匀。 构成：晶片抛光装置包括： 抛光台（160），抛光垫（150）在顶部结合; 晶片载体（120），其具有用于按压晶片（110）的底部，使得当晶片固定有固定装置时晶片结合到抛光垫; 引导环（130），其通过围绕固定所述晶片以防止所述晶片与所述晶片载体分离; 以及从所述晶片载体的底部突出并从所述底部延伸到所述一定宽度的环形突起部（125），以露出所述底部的中心部分（120c）。 环形突起部分距离晶片载体的底部边缘（120a）为2-7mm。 在需要的情况下，在晶片载体和晶片之间配备有背衬膜（140），以保持晶片和抛光垫之间的结合状态。