公开(公告)号：KR1020040102559A

公开(公告)日：2004-12-08

申请号：KR1020030034072

申请日：2003-05-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김유권 ,  이용욱 ,  김선영 ,  문병훈

IPC: H01L21/02

Abstract: PURPOSE: A chemical supply apparatus is provided to recycle permanently a carrier gas and reduce the fabrication cost by refilling the carrier gas into a carrier storage unit without exhausting the carrier gas. CONSTITUTION: A gas supply unit(110) supplies a mixed gas of chemicals for semiconductor fabrication and a carrier gas for transporting the chemicals, to a process chamber(150). A gas removal unit(120) is installed on a first gas line for connecting the gas supply unit and the process chamber and is used for separating the carrier gas from the mixed gas. A carrier gas recycling unit(130) is connected to a second gas line and re-supplies the carrier gas of the gas removal unit to the gas supply unit through a third gas line.

Abstract translation: 目的：提供一种化学品供应装置，用于永久回收载气，并通过将载气重新填充到载体储存单元中而不排出载气而降低制造成本。 构成：气体供应单元（110）将用于半导体制造的化学品和用于运输化学品的载气的混合气体提供给处理室（150）。 气体去除单元（120）安装在用于连接气体供应单元和处理室的第一气体管线上，并用于将气体与混合气体分离。 载气回收单元（130）连接到第二气体管线，并且通过第三气体管线将气体去除单元的载气重新供给到气体供应单元。

公开(公告)号：KR1020020094508A

公开(公告)日：2002-12-18

申请号：KR1020010032772

申请日：2001-06-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김유권 ,  이용욱

IPC: H04L12/24

CPC classification number: G06F11/0721 ,  G06F11/0793

Abstract: PURPOSE: An ARS(Automatic Recovery System) for a unit controller is provided to have no difficulty in production although the unit controller is abnormally operated. CONSTITUTION: A reset circuit(20) detects whether a power outputted from a main power supply(10) is abnormal, and outputs a reset signal. An ARS module(50) responds to the reset signal from the reset circuit(20) and outputs a fault signal to a unit controller(30). An automatic recovery main power supply(40) supplies a power to the ARS module(50). The unit controller(30) is reset when the fault signal is inputted from the ARS module(50).

Abstract translation: 目的：提供单元控制器的ARS（自动恢复系统），尽管单元控制器异常运行，但不会生产困难。 构成：复位电路（20）检测从主电源（10）输出的电力是否异常，并输出复位信号。 ARS模块（50）响应来自复位电路（20）的复位信号，并将故障信号输出到单元控制器（30）。 自动恢复主电源（40）向ARS模块（50）供电。 当从ARS模块（50）输入故障信号时，单元控制器（30）被复位。

公开(公告)号：KR100246857B1

公开(公告)日：2000-03-15

申请号：KR1019970013870

申请日：1997-04-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김유권 ,  김형수

IPC: H01L21/027

Abstract: 웨이퍼 얼라인 작업시, 웨이퍼 손상으로 인해 야기되는 파티클 발생을 방지하기 위한 디퓨젼(diffusion) 설비 및 이를 이용한 웨이퍼 얼라인 방법이 개시된다. 상기 방법은 크게, 로드 스테이지에 복수의 웨이퍼가 로딩된 캐리어 박스를 탑재시키는 제 1단계와, 프리 얼라인먼트 방식으로 상기 캐리어 박스 내에 탑재된 복수의 웨이퍼 플랫존을 디퓨젼 설비 내에 기 설정된 웨이퍼 플랫존 위치에 맞추어 얼라인시켜주는 제 2단계 및 얼라인이 완료된 상기 복수의 웨이퍼가 탑재된 캐리어 박스를 카세트단에 로딩시키는 제 3단계로 구분된다. 그 결과, 웨이퍼의 백 사이드면이나 에지 부위의 손상에 의한 파티클 발생 및 이로 인한 공정 불량을 방지할 수 있게 되고, 반복되는 얼라인 작업의 재현성을 높일 수 있게 되어 설비 다운 현상을 감소시킬 수 있게 된다.

公开(公告)号：KR1019990070395A

公开(公告)日：1999-09-15

申请号：KR1019980005207

申请日：1998-02-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김유권 ,  신동화

IPC: H01L21/22

Abstract: 본 발명은 분리 및 결합이 가능한 히팅챔버를 구비시킨 반도체소자 제조용 확산장치에 관한 것이다.
본 발명은, 히팅챔버가 구비되는 반도체소자 제조용 확산장치에 있어서, 상기 히팅챔버는 분리 및 결합이 가능한 두 개의 반원통으로 형성시키고, 상기 반원통의 히팅챔버 각각의 내측벽에 소정의 온도를 제공할 수 있는 권선(捲線)을 형성시켜 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 히팅챔버를 분리 및 결합이 가능한 구조로 형성시켜 석영튜브의 삽입으로 인한 불량 등의 발생을 미연에 방지할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR100196915B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019970002029

申请日：1997-01-24

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김유권 ,  정재형

IPC: B01J19/00

Abstract: 본 발명은 가열산화 열분해관의 내측벽에 축적되는 파우더를 제거하고 미반응가스를 완전히 가열산화 열분해하여 배기시킴으로써 공정불량의 발생을 방지하도록 한 확산설비용 가열산화 열분해장치에 관한 것이다.
본 발명의 목적은 열분해관에 적층된 파우더를 제거하여 공정불량의 발생을 방지하도록 한 확산설비용 가열산화 열분해장치를 제공하는데 있다.
이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 확산설비용 가열산화 열분해장치는 열분해관의 배기구에 이웃한 열분해관의 내측벽은 물론 내측벽의 중간부분까지에도 도달할 수 있도록 세척기구용 완충부인 코일을 체결부에 의해 길게 연장하고 또한 U형 관 대신에 탱크를 설치하고 탱크의 측면에 투시창을 설치된 구조로 이루어져 있다. 세척기구용 코일이 열분해관의 내측벽 중간부분에까지 적층된 파우더를 제거하여 열분해관의 통로를 넓게 유지시켜 주고 열분해관의 부식을 방지하고 탱크의 측면에 투시창을 설치하여 탱크내의 파우더의 존재유무에 따라 확산설비의 이상여부를 확인할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990033656A

公开(公告)日：1999-05-15

申请号：KR1019970055072

申请日：1997-10-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김유권 ,  신동화

IPC: H01L21/22

Abstract: 본 발명은 확산공정이 진행되는 수직형 확산로에 설치된 노즐을 변형시킨 반도체장치 제조용 수직형 확산로에 관한 것이다.
본 발명은, 내부튜브를 포함하는 외부튜브가 구비되고, 반응가스를 사용한 반도체장치 제조공정이 진행되는 반도체장치 제조용 수직형 확산로에 있어서, 상기 내부튜브와 동일한 두께를 가지는 장노즐이 상기 내부튜브 내벽에 밀착되어 설치됨을 특징으로 한다.
따라서, 장노즐의 방출구에 축적된 분해된 반응가스를 세정한 후, 재사용함으로서 장노즐의 교체에 따른 시간적 로스 및 비용을 절감할 수 있고, 장노즐과 보트가 부딪혀 장노즐이 깨지는 문제점을 해결할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1019970077095A

公开(公告)日：1997-12-12

申请号：KR1019960016738

申请日：1996-05-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 남기흠 ,  고혁준 ,  한오연 ,  김유권

IPC: H01L21/205

Abstract: 종형 기상 성장 장치용 캡에 관해 개시한다. 이 기상 성장 장치용 캡은 제1평판, 상기 제1평판과 소정 거리 평행하게 이격되어 있는 제2평판, 상기 제1평판과 제2평판 사이에 적충된 복수개의 단열판 및 상기 단열판들의 외주면에 접하며 상기 제1평판, 제2평판을 연결하는 복수개의 로드를 구비하고, 사기 제1, 2평판, 단열판 및 복수의 로드는 일체로 구성된 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면 캡의 모든 구성요소들이 일체형으로 형성되어 있기 때문에 부품조립시 발생한 오염입자에 의한 공정불안정이 해결되고 장치의 설치, 교환 및 유지 관리가 용이해진다.

公开(公告)号：KR1020010055918A

公开(公告)日：2001-07-04

申请号：KR1019990057253

申请日：1999-12-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 노영석 ,  김유권 ,  김종철

IPC: H01L21/00

Abstract: PURPOSE: A chemical supply system having a double purge lines is provided to maximize purging efficiency in chemical supply lines. CONSTITUTION: The chemical supply system is employed to supply chemicals such as reaction gases(F) from a gas cylinder to reaction chambers(A) through the chemical supply lines comprised of input supply lines(100,100') and output supply lines(200). The purge lines(300,300') are formed respectively to down-stream parts and up-stream parts of the chemical supply lines. The down-stream purge line(300) is connected between valves(250) and regulators(240), while the up-stream purge line(300') is connected between another valves(210) and filters(220). In addition, the purge lines(300,300') have control valves(380,380') for selectively purging the chemical supply lines.

Abstract translation: 目的：提供具有双重吹扫管线的化学品供应系统，以最大化化学品供应管线中的清洗效率。 构成：化学供应系统用于通过由输入供应管线（100,100'）和输出供应管线（200）组成的化学品供应管线将来自气瓶的反应气体（F）的化学品供应到反应室（A）。 清洗管线（300,300'）分别形成化学供应管线的下游部分和上游部分。 下游清洗管线（300）连接在阀（250）和调节器（240）之间，而上游清洗管线（300'）连接在另一个阀门（210）和过滤器（220）之间。 此外，净化管线（300,300'）具有用于选择性地清洗化学品供应管线的控制阀（380,380'）。

公开(公告)号：KR1020000073025A

公开(公告)日：2000-12-05

申请号：KR1019990016041

申请日：1999-05-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김유권 ,  박병섭

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: An apparatus for manufacturing a semiconductor having a system for aligning semiconductor wafers loaded in a boat is provided to prevent a breakage of a semiconductor wafer, an abrupt stop of a process and a generation of particles which are caused by a projection of the semiconductor wafer from a cassette in transferring the wafer, by having the semiconductor wafers not projected from the boat. CONSTITUTION: An apparatus for manufacturing a semiconductor having a system for aligning semiconductor wafers loaded in a boat comprises a process chamber(10), a boat(18) and an alignment unit. The semiconductor wafers are processed in the process chamber. And, the semiconductor wafers are loaded in the boat so that the wafers are processed in the process chamber. The alignment unit pushes the semiconductor wafers into the boat and aligns the wafers so that the semiconductor wafers are completely inserted into the boat.

Abstract translation: 目的：提供一种用于制造具有用于对准装载在船上的半导体晶片的系统的半导体的装置，以防止半导体晶片的破损，工艺的突然停止和由半导体的投影引起的颗粒的产生 通过使半导体晶片不从船上突出而从晶片转移晶片。 构成：用于制造半导体的装置，具有用于对准装载在舟皿中的半导体晶片的系统，包括处理室（10），舟（18）和对准单元。 在处理室中处理半导体晶片。 并且，将半导体晶片装载在舟皿中，使得晶片在处理室中被处理。 对准单元将半导体晶片推入舟状物并对准晶片，使得半导体晶片完全插入到舟皿中。

公开(公告)号：KR100230987B1

公开(公告)日：1999-11-15

申请号：KR1019960043984

申请日：1996-10-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김유권 ,  김동호

IPC: H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67271 ,  G01R31/2831 ,  Y10S269/903 ,  Y10S414/136 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/14

Abstract: 본 발명은 광문자인식기가 부착된 반도체 웨이퍼 검사장치에 관한 것이다.
본 발명의 광문자인식기가 부착된 반도체 웨이퍼 검사장치는, 검사할 웨이퍼가 내재된 캐리어가 놓이는 작업대, 상기 작업대 내부에 위치하며 웨이퍼가 캐리어내에 적재된 상태에서 개방된 캐리어 하부로 투입되어 상기 웨이퍼면과 수직을 이루는 상태로 상기 웨이퍼의 원주의 두 점에 닿아 회전하는 두 개의 롤러 핀으로 이루어지는 웨이퍼 플랫존 정렬기, 상기 웨이퍼 플랫존 정렬기의 상부에 위치하며 상기 케리어 아래에서의 전후운동을 수행하며, 상기 개방된 캐리어 하부방향으로의 상하운동에 의해 상기 캐리어내에 적재된 웨이퍼들 사이로 투입되어 각각의 웨이퍼에 존재하는 코드번호를 인식하는 광문자인식기, 상기 작업대에 근접하여 위치하며 검사할 웨이퍼의 확대 이미지를 형성하여 검사하는 마이크로스코프, 상기 캐리어내의 웨이퍼를 상기 마이크로스코프의 스테이지로 옮겨주는 로봇아암 및 검사장치의 각 부분의 구동을 조정하는 콘트롤러를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 웨이퍼 검사가 자동화된 상태로 이루어지므로 작업자요인 파티클과 튀져로 인한 스크래치성 파티클의 발생을 방지할 수 있고, 또한, 전체의 공정소요시간을 단축할 수 있다는 효과가 있다.