公开(公告)号：KR1020170118996A

公开(公告)日：2017-10-26

申请号：KR1020160045911

申请日：2016-04-15

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김태홍 ,  오정민 ,  김석훈 ,  김채령 ,  박미현 ,  이효산

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306

CPC classification number: B24B37/20 ,  B05D1/60 ,  B08B3/024 ,  B08B3/08 ,  B24B37/005 ,  C23C16/4407 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67

Abstract: 본발명은세정장치및 그를포함하는기판처리시스템을개시한다. 그의장치는기판을수납하는척과, 상기기판상에제 1 세정수 또는제 1 유기용매를제 1 압력으로제공하는제 1 노즐과, 상기제 1 노즐에인접하여배치되고, 제 2 세정수와제 2 유기용매의세정용액을상기제 1 압력보다낮은제 2 압력으로제공하는제 2 노즐을포함한다.

Abstract translation: 本发明公开了一种清洁装置和包括该清洁装置的基板处理系统。 该设备包括用于容纳基板的卡盘，用于在基板上以第一压力供应第一冲洗溶液或第一有机溶剂的第一喷嘴以及与第一喷嘴相邻设置的第二喷嘴， 2有机溶剂在低于第一压力的第二压力下进行。

公开(公告)号：KR1020170044968A

公开(公告)日：2017-04-26

申请号：KR1020150144740

申请日：2015-10-16

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박미현 ,  오정민 ,  김경환 ,  김인기 ,  이효산 ,  김경섭 ,  김석훈 ,  정지훈

IPC: H01L21/02 ,  C11D1/12

CPC classification number: H01L21/02057 ,  C11D1/146 ,  C11D1/22 ,  C11D1/29 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02068 ,  H01L21/02071 ,  H01L21/67051 ,  H01L29/0653 ,  H01L29/0847 ,  H01L29/1608 ,  H01L29/161 ,  H01L29/4966 ,  H01L29/517 ,  H01L29/66545 ,  H01L29/66636 ,  H01L29/66795 ,  H01L29/7851

Abstract: 본발명은기판의세정방법에관한것으로서, 금속물질막을포함하는기판을제공하는단계; 상기기판에대하여물리적세정을수행하는단계; 상기기판에대하여화학적세정을수행하는단계; 및상기기판의표면을건조시키는단계를포함하는기판의세정방법을제공한다. 본발명의세정방법을이용하면모든크기범위의파티클들을효과적으로제거할수 있으며, 기판상에형성된피처들의손상이최소화될수 있다.

Abstract translation: 本发明涉及一种用于基板的清洁方法，包括：提供包含金属材料膜的基板; 在基材上进行物理清洁; 在基材上进行化学清洗; 并干燥基材的表面。 利用本发明的清洁方法，可以有效地去除所有尺寸的颗粒，并且可以使形成在基底上的特征的损伤最小化。

公开(公告)号：KR1020160127582A

公开(公告)日：2016-11-04

申请号：KR1020150059184

申请日：2015-04-27

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  동우 화인켐 주식회사

Inventor： 오정민 ,  박미현 ,  이효산 ,  정지훈 ,  고용선 ,  김인기 ,  김나림 ,  김상태 ,  김성민 ,  이경호

IPC: G03F7/42

CPC classification number: G03F7/426 ,  G03F7/039 ,  G03F7/42 ,  G03F7/422 ,  G03F7/425 ,  H01L21/266 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/823814 ,  H01L21/823828 ,  H01L29/16

Abstract: 포토레지스트제거용조성물은불화알킬암모늄염 0.5 중량% 내지 10 중량%, 유기술폰산 1 중량% 내지 20 중량%, 및락톤계용매 70 중량% 내지 98.5 중량%를포함한다.

Abstract translation: 基于组合物的总重量，用于除去光致抗蚀剂的组合物，其包含约0.5重量％至约10重量％的烷基铵氟化物盐; 基于组合物的总重量的约1重量％至约20重量％的量的有机磺酸; 和基于组合物总重量的约70重量％至约98.5重量％的内酯类溶剂。

公开(公告)号：KR1020170029758A

公开(公告)日：2017-03-16

申请号：KR1020150126736

申请日：2015-09-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 오정민 ,  박미현 ,  김인기 ,  정지훈 ,  김석훈 ,  이효산

IPC: H01L21/02 ,  H01L51/00 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051 ,  C11D7/265 ,  C11D7/28 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/34 ,  C11D7/5004 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67017

Abstract: 반도체세정공정시스템은반도체기판이로딩되는공정챔버, 공정챔버내부로유기불화물, 유기산및 유기용매를포함하는세정액을공급하는세정액공급부, 공정챔버로부터배출된세정액을회수하는회수부, 회수부에수집된회수액의불소농도를측정하는제1 농도측정부, 및상기제1 농도측정부에의해측정된상기불소농도에따라상기세정액공급부에상기유기불화물을보충하는서브-세정액공급부를포함한다.

Abstract translation: 半导体清洗处理系统被收集到回收单元，用于回收从清洗液供给部排出的清洗液回收部，用于供给含有有机氟化物，有机酸和有机溶剂到所述处理室中的清洗液中的处理室，所述处理室是半导体衬底装载 以及副清洁液体供应单元，用于根据由第一浓度测量单元测量的氟浓度向清洁液体供应单元供应有机氟化物。

公开(公告)号：KR1020170027919A

公开(公告)日：2017-03-13

申请号：KR1020150124255

申请日：2015-09-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김경환 ,  김인기 ,  박미현 ,  김영후 ,  박의순 ,  오정민 ,  이근택 ,  이효산

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/31111 ,  H01L21/67086 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67288

Abstract: 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는, 인산수용액및 실리콘화합물을포함하는약액을이용하여기판을처리하는기판처리유닛및 상기기판처리유닛으로상기약액을공급하는약액공급유닛을포함하되, 상기약액공급유닛은, 상기약액을샘플링하여상기약액의농도를측정하는농도측정부를포함하되, 상기농도측정부는약액의수분의농도를측정하는제 1 농도측정부및 상기약액의실리콘의농도를측정하는제 2 농도측정부를포함한다.

Abstract translation: 一种基板处理装置和基板处理方法，该装置包括使用化学溶液处理基板的基板处理器，所述化学溶液包括磷酸水溶液和硅化合物; 以及向所述基板处理单元供给所述化学溶液的化学溶液供给体，所述化学溶液供给体包含测定所述化学溶液浓度的浓度测定器，所述浓度测定器包括测定所述化学溶液的水浓度的第一浓度测定器 ; 以及测量化学溶液的硅浓度的第二浓度测量器。