Abstract:
무기 발광 소자, 디스플레이 모듈 및 그 제조 방법이 개시된다. 개시된 무기 발광 소자는, 제1 반도체 층과, 제2 반도체 층과, 제1 반도체 층 및 제2 반도체 층 사이에 배치된 활성층과, 제1 반도체 층과 연결된 제1 전극과, 제2 반도체 층과 연결된 제2 전극과, 제1 및 제2 전극을 함께 덮고 제1 전극 및 제2 전극에 대응하는 위치에 있는 비아홀들을 포함하는 절연층과, 비아홀들을 통해 제1 전극 및 제2 전극과 각각 연결된 제1 도전 부재 및 제2 도전 부재를 포함하며, 제1 도전 부재 및 제2 도전 부재 사이의 간격은 제1 전극 및 제2 전극 사이의 간격보다 클 수 있다.
Abstract:
디스플레이 모듈이 개시된다. 디스플레이 모듈은 글라스 기판과 글라스 기판의 일면에 형성된 TFT(Thin Film Transistor) 층을 포함하는 TFT 기판과, TFT 층에 형성된 다수의 TFT 전극에 전기적으로 연결된 다수의 LED(Light Emitting Diode)를 포함하며, TFT 층은 다수의 LED에 각각 병렬로 연결되어 TFT 층에 발생하는 정전기를 흡수하는 다수의 희생 스위칭 소자를 포함한다.
Abstract:
박막 트랜지스터 어레이를 포함하는 박막 트랜지스터 기판이 개시된다. 게이트 라인은 절연막의 하부에 배치되며 게이트 전극부를 갖는다. 채널층은 게이트 전극부와 마주보도록 절연막 상에 형성되고, 데이터 라인은 절연막 상에 배치되며, 게이트 라인과 교차하고 채널층에 연결된 소오스 전극부를 갖는다. 커플링 전극은 채널층에 연결되도록 절연막 상에 배치되며, 데이터 라인과 나란하게 배치되고, 드레인 전극부를 갖는다. 유전층은 커플링 전극을 덮고, 드레인 전극부를 개구시킨다. 화소 전극은 게이트 라인 및 데이터 라인에 의하여 형성된 영역의 일부에 배치되며 드레인 전극부와 연결되도록 유전층 상에 형성된 메인 전극 및 영역의 나머지에 배치되고 커플링 전극과 오버랩 되도록 유전층 상에 형성된 서브 전극을 포함한다. 스토리지 커패시턴스 라인은 커플링 전극과 인접한 곳을 제외하고, 영역의 내부에 형성된다. 이로써, 서브 전극 및 스토리지 커패시턴스 라인의 커플링 커패시턴스의 발생을 억제하여, 서브 전극의 전압이 일정하게 제어될 수 있다.
Abstract:
본 발명은 액정 표시 장치 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 액정 표시 장치는 색부재, 상기 색부재의 상부에 형성되어 있는 공통 전극, 상기 공통 전극의 상부에 형성되어 있는 블랙 매트릭스를 포함하는 제1 기판, 상기 제1 기판과 대향하여 결합되어 있는 제2 기판, 상기 제1 및 제2 기판과의 사이에 개재되어 있는 액정층, 그리고 상기 제1 및 제2 기판과의 사이에 개재되어 있는 셀 간격 유지 부재를 포함한다. 본 발명에서는 블랙 매트릭스와 셀 간격 유지 부재를 동일한 공정으로 제조함으로써 공정 단계의 수를 감소시킬 수 있고, 제조 원가를 절감할 수 있다.
Abstract:
A TFT(Thin Film Transistor) array panel and a manufacturing method are provided to enhance reliability in a contact portion by forming an insulating layer adjacent to a conductive layer as a convexo-concave pattern passing a boundary line of the conductive layer. A TFT array panel includes a gate line, a gate insulating layer(140), a semiconductor(151), a data line(171), a drain electrode(175), a passivation layer(180), and a pixel electrode(190). The gate line is formed on an insulating substrate. The gate insulating layer covers the gate line. The semiconductor is formed on the gate insulating layer. The date line is formed on the gate insulating layer. The drain electrode is spaced apart from the data line. The passivation layer covers both the data line and the drain electrode and includes a first contact hole obtained by using a portion of a boundary line of the drain electrode. The pixel electrode is connected with the drain electrode through the first contact hole and is formed on an upper part of the passivation layer. Both the gate insulating layer and the passivation layer disposed adjacent to the first contact hole are formed as a convexo-concave pattern, whose boundary line passes the boundary line of the drain electrode.
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing a TFT(Thin Film Transistor) substrate is provided to be capable of preventing the increase of the contact resistance between a sub data pad and a probe tip in a gross test for securing the reliability of the test. CONSTITUTION: A gate line is formed on an insulation substrate(110). At this time, the gate line includes a gate line(121), a gate pad(125), and a gate electrode(123). A gate isolating layer(140) is formed on the gate line. A semiconductor layer(151,154) is formed on the gate isolating layer. A resistive contact layer(161,163) is formed on the semiconductor layer. A data line is formed on the resistive contact layer, wherein the data line includes a data line, a drain electrode(175), a source electrode(173), and a data pad(179). A protection layer is formed on the data line. A photoresist pattern is formed on the protection layer, wherein the photoresist pattern has the first portion having the first thickness and the second portion having the second thickness. A contact hole is formed by selectively etching the protection layer and the data pad using the photoresist pattern as an etching mask for exposing the drain electrode. A convexoconcave portion is formed on the data pad. A pixel electrode(190) is connected with the drain electrode through the contact hole.
Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing thin film transistor substrate for LCD using four masks is provided to decrease a manufacturing cost and effectively decrease a leakage current. CONSTITUTION: A gate wire and a maintaining wire are formed on an insulating substrate. The gate wire has a gate line(22) spreaded in a horizontal direction, a gate pad(26) connected to the end of the gate line(22), and a gate electrode(14) of a thin film transistor. The gate pad(26) receives a gate signal inputted from the outside and provides the received gate signal to the gate line(22). The maintaining wire has a maintaining electrode line(28) spreaded in a horizontal direction, a maintaining electrode(27) formed in a vertical direction and connected to the maintaining electrode line(28) and the gate line, and a maintaining electrode(29).
Abstract:
PURPOSE: A TFT(Thin Film Transistor) in which a test process facilitates and a display device including the same are provided to easily perform a test process according to a structure of a shorting bar and a connection wire. CONSTITUTION: A first signal wiring is extended toward a first direction. A signal line pad is formed in one end of the first signal wiring. Shorting bars(50a, 50b) are formed in the other end of the signal wiring in order to decentralize the static electricity of the signal wiring and extended toward the first direction. A connection wiring(60) electrically connects the signal wiring and shorting bar. The first signal wiring comprises the even numbered turn and the odd numbered signal wiring and is electrically connected to the shorting bar'.
Abstract:
A display device is provided to reduce the deviation of voltage between storage electrode lines and decrease the error rate due to disconnection of the storage electrode lines. A TFT(Thin Film Transistor) substrate includes a plurality of gate lines(121), a plurality of data lines(171), pixel regions defined by the gate lines and the data lines, a plurality of pixel electrodes positioned in the pixel regions, a plurality of storage electrode lines each having a branch line parallel with the gate line or the data line and storage electrodes(133a,133b) connected to the branch line, and a plurality of connecting legs(83) each connecting adjacent storage electrode lines across the gate line or the data line. A common electrode substrate(220) includes a light shielding member(220) having a plurality of openings facing the pixel electrodes, and a common electrode formed above the light shielding member. A liquid crystal layer is formed between the TFT substrate and the common electrode substrate. Column spacers(320) are positioned between the TFT substrate and the common electrode substrate. The column spacers overlap the light shielding member while the column spacers are disposed between adjacent pixel electrodes.
Abstract:
표시특성을 향상시킬 수 있는 표시패널이 개시된다. 표시패널의 제1 표시기판에는 다수의 보조전극라인, 다수의 보조전극라인의 양단부에 결합되어 다수의 보조전극라인에 공통전압을 인가하는 제1 및 제2 공통전압라인이 구비된다. 제1 표시기판에는 다수의 보조전극라인과 평행하고, 제1 공통전압라인을 기준으로 서로 전기적으로 분리되어 있는 다수의 제1 및 제2 게이트 라인이 더 구비된다. 다수의 제1 및 제2 게이트 라인은 다수의 브릿지 전극에 의해서 전기적으로 연결된다. 따라서,