Abstract:
제 1 실리콘 기판에 적층되는 복수의 게이트 전극층을 갖는 적층 구조체, 상기 적층 구조체를 관통하여, 상기 기판의 상부면에 수직하는 방향으로 연장되는 복수의 채널 영역, 상기 적층 구조체 상에 배치되는 제 1 층간 절연층, 및 상기 층간 절연층 상에 배치되는 주변 회로 구조체를 포함하는 3차원 반도체 장치를 제공하되, 상기 주변 회로 구조체는 제 2 실리콘 기판의 제 1 면 상에 배치되고, 상기 복수의 채널 영역 및 상기 복수의 게이트 전극층 중 적어도 일부와 전기적으로 연결되는 복수의 주변 회로 소자를 포함하고, 상기 제 1 실리콘 기판은 그의 상부면에 평행한 제 1 결정면을 갖고, 상기 제 2 실리콘 기판은 상기 제 1 면에 평행한 제 2 결정면을 갖고, 상기 제 1 기판의 상기 상부면 상에 노출되는 상기 제 1 결정면의 원자들의 배열 방향과 상기 제 2 기판의 상기 제 1 면 상에 노출되는 상기 제 2 결정면의 원자들의 배열 방향은 서로 교차할 수 있다.
Abstract:
본 발명은 불휘발성 메모리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 불휘발성 메모리 장치의 각 메모리 블록은 제1 필라의 제1 메모리 셀들 및 제2 필라의 제2 메모리 셀들을 포함한다. 불휘발성 메모리 장치는 메모리 블록들 중 선택된 메모리 블록에서 연속한 주소들에 기반하여 프로그램 동작들을 수행할 때, 제1 및 제2 메모리 셀들 중에서 제1 필라와 제2 필라의 경계에 인접하지 않은 비인접 메모리 셀들의 제1 프로그램 동작들을 순차적으로 완료한 후에, 경계에 인접한 인접 메모리 셀의 제2 프로그램 동작을 완료하도록 구성된다.
Abstract:
본 개시의 기술적 사상에 따른 메모리 시스템의 동작 방법은, 비휘발성 메모리에 포함된 메모리 그룹의 소거 시점으로부터 프로그램 시점 사이의 시간을 나타내는 EPI(Erase Program Interval)를 검출하고, 검출된 EPI를 기초로 메모리 그룹에 대한 프로그램 모드를, 각 메모리 셀에 저장하는 데이터 비트 수에 따라 미리 정의된 복수의 프로그램 모드들 중 하나로 결정하며, 결정된 프로그램 모드로 메모리 그룹에 대한 프로그램 동작을 수행한다.
Abstract:
본 발명은 플라즈마의 증착시 챔버내의 열손실이 방지되게 하므로서 투시창에의 폴리머 응착을 극소화시켜 관리가 용이하고, 가공시의 제품 불량률이 저감될 수 있도록 하는 반도체 제조용 화학기상증착 장치의 뷰우포트에 관한 것으로서, 상기의 목적 달성을 위하여 본 발명은 챔버(3)의 외벽을 이루는 제2일렉트로드(10)의 측면 일측에 소정의 크기로 개구(11)를 형성하고, 상기 개구(11)의 외측의 주연부를 돌출되게 형성한 브라켓(20)과; 상기 브라켓(20)의 내부로 삽입되면서 상기 개구(11)의 외측 주연부와는 O링(31)에 의해 긴밀하게 밀착되는 투시창(30)과; 상기 브라켓(20)의 외측면을 개방시킨 홀(21)의 외주연 단부를 따라 구비되며, 상기 브라켓(20)의 서로 대응되는 외주연 단부에 일단이 힌지결합되고, 타단은 체해결이 가능하게 잠금수단(41)에 의해 결합되는 캡부재(40)와; 상기 캡부재(40)의 내측면에 부착되면서 상기 브라켓(20)의 외측면으로 형성한 홀(21)과 상기 투시창(30)의 일면으로 동시에 긴밀하게 밀착되게 삽입되는 단열부재(50)를 포함하는 구성으로 형성되도록 하는데 특징이 있다.
Abstract:
PURPOSE: A view port of a chemical vapor deposition apparatus for manufacturing a semiconductor is provided to increase endurance and to improve production yield, by easily observing the inside of a chamber through a window and by remarkably lengthening a cleaning period caused by contamination of the window. CONSTITUTION: A predetermined size of an opening(11) is formed in a side of the side surface of the second electrode(10) constituting the outer wall of the chamber, and a bracket(20) is so formed that the outer circumferential portion of the opening is protruded. The window(30) is inserted into the bracket, and is closely adhered to the outer circumferential portion of the opening by an O ring(31). A cap unit(40) is formed along the end portion of the outer circumference of a hole(21) opening a side surface of the bracket. One end of the cap unit is hinge-coupled to a corresponding end portion of the outer circumference of the bracket, and the other end of the cap unit is detachably connected to a corresponding end portion of the bracket by a lock unit(41). An adiabatic unit(50) is closely and simultaneously adhered to the hole formed on the outer side surface of the bracket and the one surface of the window while adhered to the inner side surface of the cap unit.
Abstract:
본발명의실시예에따른불휘발성메모리장치는셀 어레이, 제 1 페이지버퍼, 제 2 페이지버퍼를포함할수 있다. 셀어레이는복수의메모리셀을포함할수 있다. 제 1 페이지버퍼는셀 어레이의제 1 메모리셀에연결되고, 프로그램검증동작수행시, 제 1 메모리셀의프로그램완료여부를센싱하여생성한제 1 센싱데이터를저장할수 있다. 제 2 페이지버퍼는셀 어레이의제 2 메모리셀에연결되고, 프로그램검증동작수행시, 제 2 메모리셀의프로그램완료여부를센싱하여생성한제 2 센싱데이터를기초로제 1 검증데이터를생성하여저장하고, 제 1 센싱데이터를제 1 페이지버퍼로부터전송받고, 제 1 센싱데이터및 제 1 검증데이터를누적하여생성한제 2 검증데이터를저장할수 있다.