公开(公告)号：KR1020060028936A

公开(公告)日：2006-04-04

申请号：KR1020040077852

申请日：2004-09-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김동건 ,  이도우 ,  엄태석 ,  김용기 ,  박경수 ,  정경환

IPC: H05K3/34

CPC classification number: H05K3/3436 ,  H01L2924/15311

Abstract: 본 발명은 솔더 볼 접착 장치의 배선기판 스테이션에 관한 것으로, 스테이션 블록의 유지보수작업을 진행할 때 로케이션 핀이 외력에 의해 부러지는 것을 억제하기 위해서, 베이스 블록에 스테이션 블록이 설치될 때만 로케이션 핀이 스테이션 블록의 상부면으로 돌출되고, 베이스 블록에서 스테이션 블록이 분리되면 로케이션 핀이 스테이션 블록의 상부면 아래로 삽입되어 로케이션 핀이 외력에 의해 부러지는 것을 억제할 수 있는 솔더 볼 접착 장치의 배선기판 스테이션을 제공한다.
솔더 볼, 접착, 배선기판, 로케이션, 스테이션, 핀

公开(公告)号：KR1020050106661A

公开(公告)日：2005-11-11

申请号：KR1020040031661

申请日：2004-05-06

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 심은기 ,  김성현 ,  정성훈 ,  정경환

IPC: H01L23/48

CPC classification number: H01L21/67144 ,  H01L21/67121

Abstract: 본 발명은 반도체 제조공정의 리드프레임 스트립 고정장치에 관한 것으로, 리드프레임 스트립을 가이드하기 위한 수단으로서 그 리드프레임 스트립을 관통하는 평판 형상의 가이드 블럭(guide block)을 포함하는 구성을 특징으로 한다.
이에 따라, 그 리드프레임 스트립의 유동이 억제되어 리드프레임 스트립의 자세 안정성이 향상된다.

公开(公告)号：KR1020140139842A

公开(公告)日：2014-12-08

申请号：KR1020130060464

申请日：2013-05-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고용균 ,  김세연 ,  정경환 ,  김종수 ,  전필권

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/3065 ,  F04B37/14 ,  H01J37/241 ,  H05H1/46

Abstract: 본 발명은 반도체 제조설비 및 그의 세라믹 박막 코팅 방법을 개시한다. 그의 세라믹 박막 코팅 방법은, 세라믹 파우더를 제공하는 단계와, 상기 세라믹 파우더에 불순물을 주입하는 단계와, 상기 불순물이 주입된 상기 세라믹 파우더를 챔버의 내에 분사하여 상기 챔버의 내벽을 세라믹 박막으로 코팅하는 단계를 포함한다. 여기서, 상기 세라믹 파우더는 이리듐 산화막을 포함할 수 있다.

Abstract translation: 本发明公开了一种半导体制造设备和涂覆陶瓷薄层的方法。 涂覆陶瓷薄层的方法包括：提供陶瓷粉末; 向陶瓷粉末注入杂质; 并将其中注入杂质的陶瓷粉末喷射到室中以在室的内壁上涂覆陶瓷薄层。 在这种情况下，陶瓷粉末包括氧化铱层。

公开(公告)号：KR102025574B1

公开(公告)日：2019-09-26

申请号：KR1020130006003

申请日：2013-01-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정종철 ,  정경환 ,  김종수 ,  전필권

IPC: H01L21/02 ,  G01N1/34 ,  G01N1/22

公开(公告)号：KR1020140095825A

公开(公告)日：2014-08-04

申请号：KR1020130008697

申请日：2013-01-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김세연 ,  정경환

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32091 ,  H01J37/3266 ,  H01J37/32697

Abstract: Disclosed are plasma equipment and a dry cleaning method thereof. The equipment comprises a chamber providing a sealed space inside; a shower head disposed on the upper part of the chamber and discharging cleaning gas into the chamber; high-frequency power generating the cleaning gas to plasma gas; an upper electrode disposed inside the shower head; a lower electrode disposed at the lower part of the chamber; a chuck covering the lower electrode; and a field induction unit protecting the chuck from the plasma gas, disposed outside the chamber to concentrate the plasma gas on an inner side wall of the chamber, and inducing an electric field or a magnetic field within the chamber in a direction parallel to the lower electrode.

Abstract translation: 公开了等离子体设备及其干洗方法。 该设备包括一个内部提供密封空间的腔室; 喷淋头，其设置在所述室的上部并将清洁气体排放到所述室中; 将清洁气体产生到等离子气体的高频发电; 布置在淋浴喷头内的上电极; 设置在所述室的下部的下电极; 覆盖下电极的卡盘; 以及场感应单元，其保护卡盘免受等离子体气体的影响，所述等离子体气体设置在腔室外部，以将等离子体气体集中在腔室的内侧壁上，并且在平行于下部腔室的方向上在腔室内感应电场或磁场 电极。

公开(公告)号：KR1020140093511A

公开(公告)日：2014-07-28

申请号：KR1020130006003

申请日：2013-01-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정종철 ,  정경환 ,  김종수 ,  전필권

IPC: H01L21/02 ,  G01N1/34 ,  G01N1/22

CPC classification number: G01N1/22 ,  G01N33/0009 ,  G01N33/0011 ,  Y10T137/87619 ,  Y10T436/25875

Abstract: Provided are an apparatus and a method for supplying a sample gas. The apparatus for supplying a sample gas includes: a gas introduction unit; a first pressure gauge for measuring the pressure of the sample gas introduced through the gas introduction unit; a plurality of flow lines located between the gas introduction unit and a gas analysis unit to be opened and closed according to the pressure measured by the first pressure gauge; a plurality of control valves formed in the plurality of flow lines, respectively, to control opening/closing of the flow lines; a bypass line formed in at least one of the flow lines to discharge some of the sample gas flowing along the flow line; and a control unit for controlling the control value formed in the selected flow line by selecting one of the flow lines according to the pressure measured by the first pressure gauge.

Abstract translation: 提供了一种供应样品气体的装置和方法。 供给样品气体的装置包括：气体导入单元; 用于测量通过气体导入单元引入的样品气体的压力的第一压力计; 位于气体引入单元和气体分析单元之间的多条流线根据由第一压力表测量的压力而打开和关闭; 多个控制阀分别形成在多条流水线中，以控制流水线的打开/关闭; 在至少一个所述流动管线中形成的旁通管线，以排出沿着所述流动管线流动的一些样品气体; 以及控制单元，用于通过根据由第一压力计测量的压力选择一条流路来控制在所选择的流动管线中形成的控制值。

公开(公告)号：KR2019970002463U

公开(公告)日：1997-01-24

申请号：KR2019950015979

申请日：1995-06-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정경환

IPC: F24C7/02

Abstract: 본고안은음식물의가열조리시조리실내부에조명을통과시켜조리실내부를밝게해주는전자렌자의조명장치에관한것으로써, 조리실(3)을비춰주는램프(27)와, 상기램프(27)에서발산되는빛을모아주는갓부재(29)와, 상기램프(27)의빛을조리실(3)내로투과시키고, 외부공기의유입을차단하는필름부재(31)로이루어진것을특징으로한다.