3D 반도체 장치
    1.
    发明授权
    3D 반도체 장치 有权
    3D半导体器件

    公开(公告)号:KR101751045B1

    公开(公告)日:2017-06-27

    申请号:KR1020100048616

    申请日:2010-05-25

    Abstract: 본발명은 3D 반도체장치에대하여개시된다. 3D 반도체장치는, 슬레이브칩들은채널들과연결되지않고마스터칩의전극패드들만이채널들과연결된다. 마스터칩만이채널들의부하를바라보게되어채널부하를갖게된다. 동종의반도체칩들이스택된반도체장치의데이터입력경로, 데이터출력경로, 어드레스/커맨드경로그리고클럭경로에서 TSV 바운더리를설정한다. TSV 바운더리가설정되면, 마스터칩에존재하는글로벌제어회로는글로벌칩 선택신호발생회로, 글로벌커맨드발생회로그리고글로벌 ODT 제어회로에의해제어된다. 마스터칩의커맨드와클럭신호는 TSV를바이패스시켜 TSV 부하를바라보지않게하고, 슬레이브칩들의커맨드와클럭신호는 TSV를거치도록하는 TSV I/O 모듈을채용한다. 물리적으로동일한칩들이스택된반도체장치는각 층별로설계목적에부합하도록구성요소들을서로다르게구성한다. 반도체장치의관통전극패드의높이와 TSV의돌출높이는서로같게형성되고, 관통전극패드에접촉하는범프의두께는관통전극패드의높이또는관통전극의돌출높이보다작게형성한다. 적층된반도체칩들의웨이퍼뒷면에분리막을도포한다. 반도체칩의웨이퍼테스트중 셀리페어단계에서반도체칩의칩 식별퓨즈커트에의해칩 식별신호를발생시키고, 프로브패드를이용하여반도체칩을웨이퍼테스트한다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种3D半导体器件。 在3D半导体器件中,只有主芯片的电极焊盘连接到通道,而没有从芯片连接到通道。 只有主芯片才会查看通道的负载并具有通道负载。 的相同类型的半导体芯片层叠型半导体器件中,数据输入路径,一个数据输出路径,地址/命令路径,并设置在时钟路径中的TSV边界。 当TSV边界被设置时,存在于主芯片全局控制电路由全局芯片选择信号发生电路,一个全局命令生成电路和全球ODT控制电路控制。 命令和主芯片的时钟信号绕过TSV命令和时钟信号不看所述TSV的负载,和从芯片采用TSV I / O模块通过所述TSV。 其中堆叠物理上相同芯片的半导体器件为每个层配置不同组件以满足设计目标。 在半导体器件与TSV的贯通电极焊盘的突出高度的高度形成彼此相等,在与所述贯通电极焊盘接触的垫的厚度被形成为比所述贯通电极垫的通孔的高度或突起高度较小。 分离膜被施加到堆叠的半导体芯片的晶片的背面。 在半导体芯片的晶片测试沙利对步骤产生由半导体芯片的识别芯片熔丝切断的芯片识别信号,并使用探针垫用于测试半导体芯片的晶片。

    반도체 적층 패키지 및 이의 제조 방법
    5.
    发明公开
    반도체 적층 패키지 및 이의 제조 방법 无效
    半导体堆叠封装及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020120032254A

    公开(公告)日:2012-04-05

    申请号:KR1020100093804

    申请日:2010-09-28

    Abstract: PURPOSE: A semiconductor stacked package and a manufacturing method thereof are provided to perform a molding process without restrictions on a scribe line width by extending a chip protection film. CONSTITUTION: A second semiconductor chip(C2) includes a through-electrode. A first semiconductor chip(C1) is laminated on the second semiconductor chip. A chip protection film(80) covers the upper surface of the first semiconductor chip. A molding layer(90) covers side surfaces of the second semiconductor chip and the first semiconductor chip. The molding layer is under-filled between the first semiconductor chip and the second semiconductor chip.

    Abstract translation: 目的:提供一种半导体层叠封装及其制造方法,通过延长芯片保护膜来进行模制加工而不限制划线宽度。 构成:第二半导体芯片(C2)包括通孔。 第一半导体芯片(C1)层叠在第二半导体芯片上。 芯片保护膜(80)覆盖第一半导体芯片的上表面。 成型层(90)覆盖第二半导体芯片和第一半导体芯片的侧面。 模制层在第一半导体芯片和第二半导体芯片之间的填充不足。

    반도체 패키지의 배선 구조물 및 이의 제조 방법, 이를이용한 웨이퍼 레벨 패키지 및 이의 제조 방법
    7.
    发明授权
    반도체 패키지의 배선 구조물 및 이의 제조 방법, 이를이용한 웨이퍼 레벨 패키지 및 이의 제조 방법 失效
    반도체패키지의배선구조물및이의제조방법,이를이용한웨이퍼레벨패키지및이의제조방반

    公开(公告)号:KR100647483B1

    公开(公告)日:2006-11-23

    申请号:KR1020050076286

    申请日:2005-08-19

    Abstract: An interconnection structure of a semiconductor package is provided to more simplify the fabricating process of an interconnection structure by forming a contact hole for exposing an interconnection on a photoresist pattern without removing a preliminary photoresist structure from a conductive pattern such that the preliminary photoresist structure is disposed on the conductive pattern to form a conductive pattern connected to a pad. A pad(110) inputs a signal to a circuit part(105) or outputs a signal from the circuit part, disposed on a body(102) with the circuit part. A conductive pattern(120) is disposed on the upper surface of the body, electrically connected to the pad. An insulating photoresist structure(130) is formed on the upper surface of the conductive pattern, having a contact hole for exposing a part of the upper surface of the conductive pattern. The insulating photoresist structure has substantially the same outer shape as the conductive pattern.

    Abstract translation: 提供半导体封装的互连结构以通过形成用于暴露光致抗蚀剂图案上的互连的接触孔而不从导电图案移除初始光致抗蚀剂结构以使得初始光致抗蚀剂结构被布置而更加简化互连结构的制造工艺 在导电图案上以形成连接到焊盘的导电图案。 垫(110)将信号输入到电路部分(105)或从电路部分输出来自布置在主体(102)上的电路部分的信号。 导电图案(120)设置在本体的上表面上,电连接到焊盘。 绝缘光刻胶结构(130)形成在导电图案的上表面上,具有用于暴露导电图案的上表面的一部分的接触孔。 绝缘光刻胶结构具有与导电图案基本相同的外部形状。

    웨이퍼 레벨 패키지 및 그 제조 방법
    9.
    发明公开
    웨이퍼 레벨 패키지 및 그 제조 방법 无效
    WAFER LEVEL PACKAGE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME

    公开(公告)号:KR1020050059618A

    公开(公告)日:2005-06-21

    申请号:KR1020030091319

    申请日:2003-12-15

    Abstract: 본 발명은 웨이퍼 레벨 패키지 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 웨이퍼 레벨 패키지 제조 중에 고온 공정으로 인하여 반도체 소자의 특성과 수율이 저하되는 문제를 해결하기 위한 것이다. 본 발명은 웨이퍼 레벨 패키지 제조 공정 중 다층의 폴리머층을 형성할 때 칩 윗면의 입출력 패드와 퓨즈 박스를 노출시키고, 이를 이용하여 EDS 테스트와 레이저 수리를 거쳐 수율 저하를 보상한 후에, 노출된 입출력 패드와 퓨즈 박스 위에 밀봉제를 덮는다.

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