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    광추출부가 형성된 단일 광학 시트를 포함하는 백라이트 유닛 및 광추출부가 형성된 선형 광원을 포함하는 모바일용 백라이트 유닛
    1.
    发明申请
    광추출부가 형성된 단일 광학 시트를 포함하는 백라이트 유닛 및 광추출부가 형성된 선형 광원을 포함하는 모바일용 백라이트 유닛 审中-公开
    背光单元包括其上形成有光提取单元的单个光学片和形成有光提取单元的线性光源，

    公开(公告)号：WO2018070551A1

    公开(公告)日：2018-04-19

    申请号：PCT/KR2016/011297

    申请日：2016-10-10

    Applicant: 국민대학교산학협력단

    Inventor： 소회섭 ,  이재갑

    IPC: F21V8/00 ,  G02F1/1335 ,  G02B5/30

    CPC classification number: G02B5/30 ,  G02F1/1335

    Abstract: 본 발명은 광추출부가 형성된 단일 광학 시트를 포함하는 백라이트 유닛을 제공한다. 단일 광학 시트의 광추출부들은 광의 전반사 특성만을 이용하여 도광판 내부의 광을 추출하고 백라이트 유닛의 상부 쪽으로 수직하게 방출시킨다. 이는 빛 방출 경로상의 계면 수를 최소화함으로써 광 손실을 줄여 광 이용 효율을 극대화할 수 있다. 또한, 본 발명은 광추출부가 형성된 선형 광원을 포함하는 모바일용 백라이트 유닛도 제공한다.

    Abstract translation: 本发明提供了一种背光单元，其包括其上形成光提取部分的单个光学片。 单一光学片的光提取单元仅使用光的全反射特性来提取导光板内部的光并朝向背光单元的上侧垂直地发射光。 这使发光路径上的接口数量最小化，由此通过减少光损失来最大化光利用效率。 本发明还提供一种包括由光提取单元形成的线性光源的移动式背光单元。

    전도성 폴리머 패턴 형성 방법
    3.
    发明公开
    전도성 폴리머 패턴 형성 방법 无效
    导电聚合物的方法

    公开(公告)号：KR1020080048195A

    公开(公告)日：2008-06-02

    申请号：KR1020060118233

    申请日：2006-11-28

    Applicant: 삼성전자주식회사 ,  국민대학교산학협력단

    Inventor： 배양호 ,  정창오 ,  김병범 ,  이재갑 ,  권태욱

    IPC: G03F1/76 ,  G03F1/48

    CPC classification number: H01L51/0021 ,  G03F7/0755 ,  G03F7/165 ,  H01L51/0023

    Abstract: A method for forming a conductive polymer pattern is provided to improve the adhesive strength to an oxide layer and to enhance the precision of patterning. A method for forming a conductive polymer pattern comprises the steps of forming a self-assembly monolayer(30) on a substrate(10); patterning the self-assembly monolayer; forming a catalyst layer(60) on the self-assembly monolayer; and forming a conductive polymer layer on the self-assembly monolayer. Preferably an insulation layer(20) is formed between the substrate and the self-assembly monolayer. Preferably the conductive polymer layer is made of a polythiophene-based material or a polyaniline-based material.

    Abstract translation: 提供形成导电聚合物图案的方法以改善对氧化物层的粘合强度并提高图案化的精度。 形成导电聚合物图案的方法包括以下步骤：在基底（10）上形成自组装单层（30）; 图案化自组装单层; 在所述自组装单层上形成催化剂层（60）; 并在自组装单层上形成导电聚合物层。 优选地，在衬底和自组装单层之间形成绝缘层（20）。 优选地，导电聚合物层由基于聚噻吩的材料或基于聚苯胺的材料制成。

    플랙시블 소자 제조방법 및 이를 위한 플랙시블 소자 제조용 희생 기판
    4.
    发明公开
    플랙시블 소자 제조방법 및 이를 위한 플랙시블 소자 제조용 희생 기판 审中-实审
    用于制造柔性元件和用于为其制造柔性元件的牺牲基板的方法

    公开(公告)号：KR1020170101685A

    公开(公告)日：2017-09-06

    申请号：KR1020160024549

    申请日：2016-02-29

    Applicant: 국민대학교산학협력단

    Inventor： 이재갑 ,  김명기 ,  정대균

    IPC: H01L51/56 ,  H01L51/00 ,  H01L21/02

    Abstract: 플랙시블소자제조방법및 플랙시블소자제조용희생기판이제공된다. 본발명의일 실시예에따르면, 플랙시블소자제조방법은, 기판표면에변성층을형성하는단계; 상기변성층전체를 1차표면처리하여상기변성층을변성시키는단계; 상기 1차표면처리된상기변성층의일부영역을마스킹하는단계; 마스킹처리된상기변성층을 2차표면처리하는단계; 상기일부영역의마스크를제거하는단계; 상기변성층상에플랙시블소자를형성하는단계; 및상기기판을플랙시블소자로부터제거하는단계;를포함할수 있다.

    Abstract translation: 提供了一种制造用于制造柔性元件的柔性元件和牺牲基板的方法。 根据本发明的实施例，一种制造柔性元件的方法包括：在衬底的表面上形成变性层; 对整个改性层进行第一次表面处理以使改性层变性; 掩盖第一表面处理的改性层的一部分; 对经过掩蔽处理的变性层进行第二次表面处理; 去除局部区域的掩模; 在改性层上形成柔性元件; 并从柔性元件上移除衬底。

    돌출방지 및 컨택 개선을 위한 층상 조립층의 형성 방법
    6.
    发明公开
    돌출방지 및 컨택 개선을 위한 층상 조립층의 형성 방법 审中-实审
    层叠预处理和接触改进的准备方法

    公开(公告)号：KR1020160052143A

    公开(公告)日：2016-05-12

    申请号：KR1020140151997

    申请日：2014-11-04

    Applicant: 국민대학교산학협력단

    Inventor： 이재갑 ,  정대균

    IPC: H01L21/28 ,  H01L21/768

    CPC classification number: H01L21/0272 ,  H01L21/28141

    Abstract: 돌출방지및 컨택개선을위한층상조립층의형성방법에관한것이다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于形成用于防止突起和接触改善的层叠组装层的方法。 该方法包括以下步骤：制备其上形成图案的基材; 在基材上形成纳米材料层; 在基材上形成弹性层; 消除纳米材料层; 并用金属填充图案的内部。 因此，该方法可以实现优异的导电性。

    광학 시트의 제조 방법, 이에 따른 광학 시트를 포함하는 백라이트 유닛
    8.
    发明公开
    광학 시트의 제조 방법, 이에 따른 광학 시트를 포함하는 백라이트 유닛 无效
    光学片的制备方法和包括光学片的背光单元

    公开(公告)号：KR1020150117078A

    公开(公告)日：2015-10-19

    申请号：KR1020140042367

    申请日：2014-04-09

    Applicant: 국민대학교산학협력단

    Inventor： 이재갑 ,  소회섭

    IPC: G02B5/02 ,  G02F1/1335

    CPC classification number: G02B5/02 ,  G02F1/1335

    Abstract: 본원은광학시트의제조방법, 상기제조방법에따라제조된광학시트가도광판의일측면에형성된백라이트유닛, 및상기백라이트유닛을포함하는디스플레이장치를제공한다.

    Abstract translation: 本发明提供了一种制造光学片的方法，其中由此制造的光学片形成在导光板的一侧上的背光单元和具有能够廉价制造背光单元的背光单元的显示装置。 制造光学片的方法包括以下步骤：在圆形模具的表面上形成凹坑; 通过复制圆形模具制造复印模具至少一次; 并通过使用复制的模具制造具有锥形的棱锥形片。

    반도체 소자 및 그 제조방법
    10.
    发明公开
    반도체 소자 및 그 제조방법 有权
    半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号：KR1020130081749A

    公开(公告)日：2013-07-18

    申请号：KR1020120002726

    申请日：2012-01-10

    Applicant: 서울대학교산학협력단 ,  국민대학교산학협력단

    Inventor： 주영창 ,  연한울 ,  이영주 ,  이재갑 ,  이치영 ,  한정석

    IPC: H01L21/31

    CPC classification number: H01L21/76843 ,  H01L21/28556 ,  H01L21/288 ,  H01L21/76877 ,  H01L21/76898

    Abstract: PURPOSE: A semiconductor device and a manufacturing method thereof are provided to secure an even step coverage property by using a self-assembled monolayer. CONSTITUTION: A barrier layer (120) comprises a Mercapto Propyl Tri Methoxy Silane (MPTMS). The barrier layer comprises a monomolecular film. The MPTMS is formed on a substructure (110). A conductive layer (130) is formed on the barrier layer. The conductive layer comprises a copper.

    Abstract translation: 目的：提供一种半导体器件及其制造方法，以通过使用自组装单层来确保均匀阶梯覆盖性。 构成：阻挡层（120）包含巯基丙基三甲氧基硅烷（MPTMS）。 阻挡层包含单分子膜。 MPTMS形成在子结构（110）上。 导电层（130）形成在阻挡层上。 导电层包括铜。

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