Abstract:
A method of manufacturing an enhancement semiconductor probe and an information storage device using the same are provided to reduce a process variable in device performance and to increase reliability of mass production by anisotropic-wet-etching a silicon substrate using side-walls. A method of manufacturing an enhancement semiconductor probe comprises the steps of: forming a first etching mask pattern(110a) on a silicon substrate(100c) to form a tip part of the probe in a first direction and forming side-wall areas at two sides of the first etching mask pattern; anisotropic-etching the silicon substrate to form two inclined surfaces of the probe; forming source and drain areas(160,170,180,190) on the silicon substrate by injecting dopants, using the side-wall area as masks, and removing the side-wall areas; removing the first etching mask pattern; forming a second etching mask pattern to form a tip part of the probe in a second direction; forming space layers at two sides of the second etching mask pattern; and etching the silicon substrate by photographing and etching processes and removing the space layers.
Abstract:
A semiconductor probe using an impact-ionization semiconductor device is provided to remarkably improve the limit of sensitivity of a resistive probe and easily adjust the quantity of charges capable of being detected by a probe by developing a new probe structure for easily adjusting the band energy of a source. One tilted surface of a probe is formed by an anisotropic etch process using a first etch mask pattern formed on a silicon substrate. After impurities are doped into the exposed substrate to form a first semiconductor electrode region(16), the first etch mask pattern is removed. A second etch mask pattern opposite to the direction of the first etch mask pattern is formed on the silicon substrate. Space layers are formed on the sidewalls of the second etch mask pattern. After the exposed silicon substrate is anisotropically etched to form an opposite tilted surface of the probe, the second etch mask pattern is removed. Impurities are doped into the exposed substrate to form a second semiconductor electrode region(18), and the second etch mask pattern is removed. A silicon oxide layer pattern is formed on the resultant structure by a known method. Space layers are formed on both sidewalls of the silicon oxide layer pattern. By using the space layer, a predetermined depth of the silicon substrate is etched by a photolithography process, and the space layer is removed. The first semiconductor electrode region can be a source terminal, and the second semiconductor electrode region can be a drain terminal.
Abstract:
본 발명에서는 이차 전지 특히 리튬 이차 전지의 음극 재료로 사용되는 안티몬 및 1종 이상의 탄소 성분을 함유하는 복합체 특히 나노 크기의 복합체, 그 제조 방법, 상기 복합체 특히 나노 크기의 복합체를 포함하는 이차 전지 특히 리튬 이차 전지 및 그 이용 방법을 제공한다. 본 발명의 안티몬 및 1종 이상의 탄소 성분을 함유하는 복합체 특히 나노 복합체를 이차 전지, 특히 리튬 이차 전지의 음극물질로서 사용하는 경우 충전 및 방전 동안 나타나는 응집현상을 제어할 수 있고, 음극물질의 부피 변화로 인한 물질의 파괴현상을 최소화하여 기계적 안정성을 확보할 수 있으며, 용량과 사이클 수명도 향상할 수 있다. 특히, 본 발명의 안티몬 및 탄소 성분을 함유하는 복합체 특히 나노 복합체가 이차 전지 특히 리튬 이차 전지의 음극 물질로 사용되는 경우에는 뛰어난 고율특성도 함께 발현할 수 있다. 안티몬, 탄소, 복합체, 고에너지볼밀링, 고율특성, 이차 전지, 음극재료
Abstract:
A composite is provided to ensure excellent initial efficiency while maintaining high capacity, high-rate characteristic and improved cycle life. A method for manufacturing the composite comprises a first step manufacturing binary system alloy from a first element capable of reacting with lithium and a second element forming binary alloy phase with the first element; and a second step manufacturing a composite containing the first element capable of reacting with lithium, carbide of the second element and carbon by dealloying the binary system alloy.
Abstract:
본 발명에서는 이차 전지 특히 리튬 이차 전지의 음극 재료로 사용가능한 리튬과 반응 가능한 제 1 원소, 상기 제 1 원소와 이원계 합금상의 형성이 가능한 제 2 원소-카바이드 및 탄소를 함유하는 것을 특징으로 하는 복합체, 그 제조 방법, 상기 복합체를 포함하는 이차 전지 및 그 이용 방법을 제공한다. 본 발명에 의하여, 합금 및 탈합금화의 새로운 방법에 의하여 화학적 방법 등의 복잡하고 비효율적인 과정을 거치지 않고도 간단하고 효율적으로 복합체를 제조할 수 있다. 상기 복합체는 이차 전지 특히 리튬 이차 전지의 음극 재료로 이용되어 기존의 이차 전지 특히 리튬 이차 전지의 음극 재료와 달리 높은 용량을 유지하면서 초기 효율이 우수하고, 입자 조대화에 의한 부피 변화의 문제점이 없다. 또한, 상기 복합체를 이용하는 이차 전지 특히 리튬 이차 전지는 고율 특성을 달성할 수 있고, 사이클 수명을 매우 향상시킬 수 있다. 안티몬, 알루미늄, 탄소, 나노 복합체, 고에너지 볼밀링, 고율특성, 이차 전지 음극재료
Abstract:
A composite containing antimony and carbon, a method for preparing the composite, a secondary battery comprising the composite, and a method for using the secondary battery are provided, wherein the composite containing antimony and carbon has excellent initial efficiency, does not have a volume change problem due to particle coarsening, and particularly can accomplish high rate capability and improve cycle life of the secondary battery. A method for preparing a composite containing antimony and carbon comprises the steps of: providing antimony and carbon; mixing the antimony with the carbon; and ball-milling a mixture of the antimony and the carbon to prepare a composite containing antimony and carbon. The method further comprises: additionally mixing graphite with the composite containing antimony and carbon; and ball-milling the mixture of the composite and the graphite. A composite containing antimony and carbon is characterized in that the composite is used as an anode material for a secondary battery. A secondary battery is characterized in that a composite containing antimony and carbon is used as an anode material for a secondary battery. The secondary battery is a lithium secondary battery. The composite is a nano-sized composite. The nano-sized composite further comprises graphite.
Abstract:
PURPOSE: A fluidic lens is provided to prevent optical fluid from being absorbed or leaked to an optical membrane. CONSTITUTION: An optical membrane(130) is formed of a transparent elastomer. The optical membrane includes a lens surface. A fixed space is filled with transparent optical fluid(125) when the fluid contacts the lens surface of the optical membrane. The transparent optical fluid is made of materials of an optical membrane and materials which generates a repulsive force.
Abstract:
본 발명의 전계기록재생장치의 구동방법은, 소오스 영역과 드레인 영역 사이에 위치되는 저항 영역과 이 저항영역 상에 위치되는 쓰기 전극을 구비하는 전계기록재생헤드를 채용한 전계기록재생장치의 구동방법으로서, 쓰기 전극에 기록매체에 분극을 유발하는 임계전압보다 낮은 조정전압을 인가하고, 기록매체 상의 전기 도메인의 분극방향에 따라 저항 영역을 통하여 흐르는 전류량의 변화에 기초하여 기록매체에 기록된 정보를 재생하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.