Abstract:
The present invention relates to a method for manufacturing a flexible transparent electrode using nanosphere lithography and a flexible transparent electrode using the same. The method for manufacturing a flexible transparent electrode using nanosphere lithography comprises the steps of: a nanosphere coating step of coating nanospheres on a substrate; a heat treatment step of heating the nanospheres; a metal solution coating step of coating metal solution containing metal or metal oxide on the substrate; and a nanosphere removing step of removing the nanospheres from the substrate. According to the present invention, the nanospheres are heat treated under optimum conditions according to the sizes thereof, thereby minimizing the height and the area of the printed metal line to optimize the transparency, minimizing the surface resistance, and forming the nanosphere having the size optimized for a printing process in a single layer to form a mesh pattern which is uniform and has a remarkably low packing loss rate.
Abstract:
PURPOSE: An organic thin film transistor and a method of manufacturing the same are provided to improve electrical characteristic by forming grooves for a source, drain, and gate electrode at the same time to reduce parasitic capacitance due to gate overlap. CONSTITUTION: In an organic thin film transistor and a method of manufacturing the same, a plurality of barriers(113b,113c) and a plurality of groove portions(h1-h3) which are divided by the barriers are formed in an insulating substrate(110). A source electrode(210) and a drain electrode(230) are formed in grooves which are separated from each other. An opening unit(h4) is formed by etching the barriers between the source electrode and the gate electrode and between the gate electrode and the drain electrode. A gate insulating layer(310) is formed on the opening unit.
Abstract:
본 발명은 나노구 리소그래피를 이용한 플렉서블 투명전극의 제조방법 및 이를 이용한 플렉서블 투명전극에 관한 것으로서, 나노구를 기판상에 코팅하는 나노구 코팅단계; 상기 나노구를 가열하는 열처리단계; 상기 기판상에 금속 또는 금속산화물을 포함하는 금속용액을 코팅하는 금속용액 코팅단계; 및 상기 나노구를 상기 기판에서 제거하는 나노구 제거단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 나노구를 그 크기에 따라 최적의 조건에서 열처리함으로써, 인쇄되는 금속라인의 높이 및 면적을 최소화하여, 투명도를 극대화시킬 수 있을 뿐만 아니라, 면저항을 최소화할 수 있으며, 인쇄공정에 최적화된 크기의 나노구가 단층으로 형성됨으로써, 균일하며 패킹손실률이 현저히 낮은 메쉬패턴을 형성할 수 있는 장점이 있다.
Abstract:
An organic thin film transistor and a manufacturing method thereof are provided to improve insulating characteristics of an organic insulating layer by adding insulating characteristics of a hydrogenated amorphous carbon layer. A gate electrode(200) is formed on a substrate(100). An insulating layer(300) is formed on the gate electrode. A hydrogenated amorphous carbon layer(400) is formed on the insulating layer. An active layer(500) is formed on the hydrogenated amorphous carbon layer. A source electrode(600) and a drain electrode(700) are formed on the active layer. The substrate is a polyimide substrate or a polyestersulfone substrate. The gate electrode is an Au layer. The insulating layer is polyvinylcarbonate or polyvinylphenol.
Abstract:
본 발명은 양극산화를 이용한 인쇄롤의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 인쇄롤에 관한 것으로서, 금속롤을 준비하는 준비단계; 상기 금속롤의 표면에 금속막을 코팅시키는 금속막 형성단계; 상기 금속롤을 양극으로 하고, 상기 양극과 상기 양극에 대응되는 음극을 전해액에 투입하여 상기 금속롤을 양극산화처리함으로써 구멍을 형성하는 양극산화처리단계; 및 상기 금속롤을 산성 수용액에 투입하는 구멍확장 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 인쇄롤 표면을 최적의 양극산화 및 구멍확장 처리함으로써, 메쉬형태의 구멍을 나노사이즈의 미세패턴으로 구현가능할 뿐만 아니라, 구멍을 균일하면서도 용이하게 정렬시킬 수 있어, 투명 전극의 광 투과성을 현저히 향상시킬 수 있는 장점이 있다.
Abstract:
The present invention relates to a manufacturing method for a printing roll by anodizing and to a printing roll manufactured thereby. The present invention is characterized by comprising: a preparing step of preparing a metal roll; a metal membrane forming step of coating the surface of the metal roll with a metal membrane; an anodization treating step of using the metal roll as a positive electrode, putting the positive electrode and a negative electrode corresponding to the positive electrode into an electrolyte and forming pores by performing anodization treatment on the metal roll; and a widening step of putting the metal roll into an acidic aqueous solution. The present invention is able to form the pores of mesh shapes in fine patterns of nanosize by performing optimal anodization and widening treatment on the surface of the printing roll and is able to markedly improve the light transmittance of a transparent electrode since the pores are able to be uniformly and easily arranged.
Abstract:
PURPOSE: A method for growing vertical nanowire is provided to obtain nanowire with uniformity and regularity by forming air gaps with matrix arrangement and nanowire in air gaps. CONSTITUTION: A method for growing vertical nanowire comprises the steps of forming a thin film for a template on a substrate(10); forming depressions with a matrix arrangement inside the upper side of the thin film for the template; forming an anodized film with air gaps extended from the depressions in a substrate direction by anodizing the thin film for the template; growing nanowires(17) within the air gaps of anodized film; and removing the anodized film.
Abstract:
유기 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법이 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따르면, 음각 패턴이 형성된 패턴층을 기판에 형성하는 단계, 음각 패턴 내부에 소스 전극(source electrode) 및 드레인 전극(drain electrode)을 각각 형성하는 단계, 음각 패턴 내부에 수용되도록, 소스 전극 및 드레인 전극에 절연층을 각각 형성하는 단계, 패턴층 중, 소스 전극과 드레인 전극 사이, 및 절연층 사이에 개재된 일부를 제거하는 단계, 소스 전극 및 드레인 전극과 각각 접하도록, 패턴층의 일부가 제거된 공간에 유기 반도체층을 형성하는 단계, 패턴층의 일부가 제거된 공간에 수용되도록, 유기 반도체층에 게이트 절연막을 형성하는 단계, 및 패턴층의 일부가 제거된 공간에 수용되도록, 게이트 절연막에 게이트 전극(gate electrode)을 형성하는 단계를 포함하는 유기 박막 트랜지스터(OTFT, organic thin film transistor) 제조 방법이 제공된다. 이에 따라, 소스 전극, 드레인 전극, 유기 반도체층 및 게이트 전극이 상호 간에 보다 정밀하게 정렬됨으로써, 게이트 전극과 소스 전극 간, 및 게이트 전극과 드레인 전극 간 생성될 수 있는 기생 캐패시턴스를 최소화할 수 있다. 유기 박막 트랜지스터, 임프린트, 잉크젯
Abstract:
PURPOSE: The organic thin film transistor and manufacturing method thereof is the gate electrode and source electrode, and, the gate electrode and drain. The parasitic capacitance which goes electrode and can become can be minimized. CONSTITUTION: The pattern layer in which the intaglio pattern is formed is formed in substrate(S110). The source electrode and drain electrode are respectively formed in the intaglio pattern inside(S120). In order that it is accepted to the intaglio pattern inside, the insulating layer is respectively formed in the source electrode and drain electrode(S130).