제품 온톨로지 구축 방법 및 이를 이용한 장치
    5.
    发明授权
    제품 온톨로지 구축 방법 및 이를 이용한 장치 失效
    用于构建产品本体的方法和装置

    公开(公告)号:KR101092949B1

    公开(公告)日:2011-12-12

    申请号:KR1020100003883

    申请日:2010-01-15

    Abstract: 본발명의제품온톨로지구축장치는제품개발에관한개념들을기초메타속성들로써정의한최상위의메타제품온톨로지(MPO), 제품설계의배경지식들에관한명제들을포함하는제품배경지식온톨로지(PCO), 메타제품온톨로지와제품배경지식온톨로지의명제들로부터생성된확장성마크업언어(XML) 스키마및 XML-온톨로지변환규칙테이블을포함하는스토리지, 사용자로부터제품의상세데이터를 XML 스키마에기초하여입력받아 XML 제품데이터를생성하는제품데이터입력모듈및 XML 제품데이터를 XML-온톨로지변환규칙에따라제품상세온톨로지(PSO)로변환하는온톨로지변환모듈을포함할수 있다.

    수직 채널 영역을 갖는 이미지 소자 및 그 제조방법
    9.
    发明公开
    수직 채널 영역을 갖는 이미지 소자 및 그 제조방법 失效
    具有垂直通道区域的图像装置及其制造方法

    公开(公告)号:KR1020090022992A

    公开(公告)日:2009-03-04

    申请号:KR1020070115317

    申请日:2007-11-13

    CPC classification number: H01L27/14616 H01L21/0337 H01L21/762 H01L27/1461

    Abstract: An imaging device and the manufacturing method thereof having the vertical channel region are provided to form the second conductive line connected with photo-sensing pattern and to implement the high fill factor. The first conductive trace(310) is formed on the substrate(300). The light detection pattern(327) is formed on the first conductive line. The second conductive line(357) is adjacent to the light detection pattern. The second conductive line is separated from the first conductive line. The connectivity pattern is interposed between the second conductive line and light detection pattern. The connectivity pattern is contacted with the second conductive line and optical sensing pattern. The light detection pattern comprises the lower channel region and the upper channel region.

    Abstract translation: 提供具有垂直沟道区域的成像装置及其制造方法,以形成与感光图案相连的第二导线并实现高填充因子。 第一导电迹线(310)形成在基板(300)上。 光检测图案(327)形成在第一导线上。 第二导线(357)与光检测图案相邻。 第二导线与第一导线分离。 连接图案介于第二导线和光检测图案之间。 连接图案与第二导线和光学感测图案接触。 光检测图案包括下通道区域和上通道区域。

    반도체 소자의 특성 시뮬레이션 방법

    公开(公告)号:KR101880192B1

    公开(公告)日:2018-07-20

    申请号:KR1020170046768

    申请日:2017-04-11

    CPC classification number: G06F17/5036 G06F2217/78 G06F17/5009

    Abstract: 반도체소자의특성시뮬레이션방법은밀도함수이론(density functional theory; DFT)을이용하여대상반도체소자의원자간상호작용에너지정보를나타내는해밀토니언(Hamiltonian) 및중첩매트릭스를추출하고, 유효에너지영역에내에서의해밀토니언및 중첩매트릭스와에너지-k 관계식에기초하여해당에너지각각에대한블로흐스테이트(Bloch state)들을각각산출하며, 블로흐스테이트들을표현하는매트릭스를직교화(orthonormalization)한변환매트릭스에해밀토니언및 중첩매트릭스를적용하여매트릭스사이즈가줄어든제1 축소해밀토니언및 제1 축소중첩매트릭스를얻는다. 또한, 해밀토니언및 중첩매트릭스에기초하여산출된제1 에너지밴드구조와제1 축소해밀토니언및 제1 축소중첩매트릭스에기초하여산출된제2 에너지밴드구조를비교하여유효에너지영역내에서제2 에너지밴드구조에서제1 에너지밴드구조와대응하지않는에너지밴드인비물리적가지들(unphysical branch)이모두제거된최종변환매트릭스및 최종에너지밴드구조를산출한다.

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