KR102233355B1 - Method of Adhering Particles in Nano Scale

    公开(公告)号:KR102233355B1

    公开(公告)日:2021-03-30

    申请号:KR1020140137516A

    申请日:2014-10-13

    Abstract: 본 발명은 고분자가 개시제를 이용한 화학 기상 증착(iCVD) 방법으로 증착된 기판에 증류수에 분산된 다양한 금속산화물 입자 분산액을 적하하여 어닐링하여 접착하는 방법으로, 평면 기판 뿐 아니라 플렉서블(flexible)한 플라스틱 기판 등 여러 기판에 다양한 입자를 접착하는데 사용할 수 있는 방법을 제시한다.

    접착 박막 및 이를 이용하는 접착 방법
    9.
    发明申请
    접착 박막 및 이를 이용하는 접착 방법 审中-公开
    粘合膜和粘合方法使用相同

    公开(公告)号:WO2014003275A1

    公开(公告)日:2014-01-03

    申请号:PCT/KR2013/000391

    申请日:2013-01-18

    Inventor: 임성갑 유재범

    CPC classification number: C09J5/04 C08F265/06 C09J4/00

    Abstract: 본 발명의 일실시예에 따르면, 서로 대향하는 제1표면 및 제2표면의 사이에 단량체 및 개시제를 제공하는 단계, 열을 주입하여 상기 개시제를 열분해하여 유리 라디칼(free radical)을 형성하는 단계, 상기 유리 라디칼을 이용하여 상기 단량체를 활성화시킴으로써 상기 단량체를 연쇄 중합 반응시켜 고분자를 형성하는 단계, 상기 서로 대향하는 상기 제1표면 및 제2표면 상에 상기 고분자가 증착되어 고분자 박막을 형성하는 단계 및 상기 각각의 표면 상에 구비된 상기 고분자 박막 사이에 상기 고분자의 특정 작용기와 결합되는 작용기를 2개 이상 지닌 결합물질을 제공하고, 상기 결합물질이 서로 대향하는 상기 제1표면 및 제2표면 상에 위치한 다수의 상기 고분자와 결합하여 접착 박막을 형성하는 단계가 포함된 접착 방법이 제공된다.

    Abstract translation: 根据本发明的一个实例,提供了一种粘合方法,包括以下步骤:在彼此相对的第一表面和第二表面之间提供单体和引发剂; 通过引入热量使引发剂热解形成自由基; 通过单体通过使用自由基活化单体的链聚合反应形成聚合物; 通过将聚合物沉积在彼此相对的第一表面和第二表面上而形成聚合物膜; 在每个表面上提供的聚合物膜之间提供粘合材料,其中所述粘合材料具有两个或更多个结合所述聚合物的特定官能团的官能团; 以及通过将结合材料与放置在彼此相对的第一和第二表面上的多个聚合物结合而形成粘合剂膜。

    박막 트랜지스터용 고분자 절연막의 제조방법

    公开(公告)号:WO2018194220A1

    公开(公告)日:2018-10-25

    申请号:PCT/KR2017/008697

    申请日:2017-08-10

    CPC classification number: C23C16/44 C23C16/448 H01L29/49

    Abstract: 본 발명은 개시제를 이용한 화학기상증착법(initiated chemical vapor deposition, iCVD)을 이용하고 높은 유전상수를 나타내는 사이아나이드(cyanide) 또는 히드록시(hydroxyl) 작용기를 가진 단량체를 디비닐에테르 작용기를 가진 가교제를 이용해 가교하여 절연막의 절연특성을 증가시킬 수 있으며, 20~100nm의 매우 얇은 두께에서도 매우 작은 누설전류만 나타내 유기반도체뿐만 아니라 산화물반도체를 이용한 TFT에 적용하여 낮은 구동전압을 가진 고성능 TFT를 제작할 수 있다.

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