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公开(公告)号：KR101471425B1
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：KR1020130054465
申请日：2013-05-14
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
Abstract: 본발명은사파이어등의기판위에형성되는질화물반도체층사이에양자섬(Quantum Island)을삽입한후 저결함밀도를갖는질화물반도체층이재성장되도록한 템플레이트층을이용하여, 내부양자효율이향상된고품질반도체소자가제조될수 있는, 고품질반도체소자용기판의제조방법에관한것이다.
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公开(公告)号：KR101056422B1
公开(公告)日：2011-08-12
申请号：KR1020090047797
申请日：2009-05-29
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: H01L33/20
Abstract: 본 발명은 낮은 순방향 전압에서도 광효율이 좋으며 전류를 분산시킬 수 있도록 p형 및 n형의 콘택 금속 전극의 구조를 핑거(finger) 타입으로 하여 최대한의 광 방출이 가능하면서 활성층에서 고른 온도 분포가 이루어지도록 한 발광 다이오드에 관한 것이다. 본 발명에 따른 n형 질화물 반도체층과 p형 질화물 반도체층 사이에 활성층을 갖는 사각 모양의 발광 다이오드는, 상기 n형 질화물 반도체층의 일부 가장자리에서 상기 n형 질화물 반도체층과 전기적으로 연결되는 n형 콘택 금속 전극을 형성하고, 상기 n형 질화물 반도체층의 상기 일부 가장자리를 제외한 상기 p형 질화물 반도체층 위에 투명 도전막을 형성한 후, 상기 투명 도전막 위의 일부 영역에 p형 콘택 금속 전극을 형성하며, 상기 n형 콘택 금속 전극은 상기 n형 질화물 반도체층의 장방향으로 일단에 위치한 제1 본딩 영역을 중심으로 좌우 대칭의 핑거 형태로 상기 n형 질화물 반도체층의 좌우 가장자리를 따라 일정 폭과 소정 길이로 연장되고, 상기 p형 콘택 금속 전극은 상기 제1 본딩 영역의 반대쪽에 상기 장방향으로 타단에 위치한 제2 본딩 영역의 안쪽 네크에서 단일 핑거 형태로 상기 제1 본딩 영역의 중심을 향하여 일정 폭과 소정 길이로 연장된 것을 특징으로 한다.
LED, p형 콘택 금속 전극 핑거, n형 콘택 금속 전극 핑거, EBL, MQWAbstract translation: 本发明具有良好的光效率即使在低的正向电压，而在接触金属型电极的结构，以分配在当前的p型和n在手指（手指）的类型可以是尽可能的光发射，即使在活性层的温度分布发生 到发光二极管。 具有在n型氮化物半导体层的边缘的一部分的n型氮化物半导体层和根据本发明的半导体层之间的p型氮化物有源层，n型的正方形形状的发光二极管与所述n型氮化物半导体层和电连接 和形成接触金属电极，形成透明在n型氮化物半导体的导电膜后，其特征在于比层以外的p型氮化物半导体层的边缘的一部分，在形成透明导电膜，在上部的部分中的p型接触金属电极与 的n型接触金属电极具有沿着所述第一右侧一端与所述n型氮化物半导体层的左右两侧与在左右对称边的中心的形式手指，位于预定的宽度和在所述n型氮化物半导体层的纵向方向上具有预定长度的接合面积 并且p型接触金属电极从第一接合区域延伸到位于纵向另一端的第二接合区域， 在颈部的内部，以形成朝向所述第一结合区域的中心的单个手指，并在预定宽度的所述伸展和预定的长度。
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公开(公告)号：KR1020110082886A
公开(公告)日：2011-07-20
申请号：KR1020100002818
申请日：2010-01-12
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: H01L33/06
CPC classification number: H01L33/06 , H01L33/0008 , H01L33/145 , H01L2924/12041 , H01L2933/0058
Abstract: PURPOSE: A high efficient semiconductor optical device formed by an epitaxial structure and a manufacturing method thereof are provided to insert diffusion preventing layers into the upper/lower parts of each barrier layer of an MWQ(Multi-Quantum Well) structure, thereby increasing quantum efficiency. CONSTITUTION: An active layer(30) is formed on an N type nitride semiconductor layer(20). An electron blocking layer(40) is formed on the active layer. A P type nitride semiconductor layer(50) is formed on the electron blocking layer. The transparent conductive film(52) is formed on the P-type nitride semiconductor layer. The P-type contact metal electrode(54) is formed on the transparent conductive film.
Abstract translation: 目的：提供一种通过外延结构形成的高效半导体光学器件及其制造方法，以将扩散防止层插入MWQ（多量子阱）结构的每个势垒层的上/下部分，从而提高量子效率 。 构成：在N型氮化物半导体层（20）上形成有源层（30）。 在有源层上形成电子阻挡层（40）。 在电子阻挡层上形成P型氮化物半导体层（50）。 透明导电膜（52）形成在P型氮化物半导体层上。 P型接触金属电极（54）形成在透明导电膜上。
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公开(公告)号：KR1020100129048A
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：KR1020090047797
申请日：2009-05-29
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: H01L33/20
Abstract: PURPOSE: A highly efficient light emission diode structure is provided to improve the light efficiency even in the low forward voltage by forming the structure of a contact metal electrode of P type and N type in finger type. CONSTITUTION: A n-type contact metal electrode(22) is electrically connected to a n-type nitride semiconductor layer(20). The n-type contact metal electrode is made of Ni, Au, or their alloy. A transparent conductive film(52) is formed on the p-type nitride semiconductor layer. A p-type contact metal electrode(54) is formed on the partial area of the transparent conductive film.
Abstract translation: 目的：提供高效率的发光二极管结构，通过形成手指型P型和N型接触金属电极的结构，即使在低正向电压下也能提高光效。 构成：n型接触金属电极（22）与n型氮化物半导体层（20）电连接。 n型接触金属电极由Ni，Au或它们的合金制成。 在p型氮化物半导体层上形成透明导电膜（52）。 p型接触金属电极（54）形成在透明导电膜的局部区域上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020130076957A
公开(公告)日：2013-07-09
申请号：KR1020110145408
申请日：2011-12-29
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: H01L21/20
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a high quality semiconductor device on a BSFS-free nitride semiconductor is provided to improve the recombination of electrons and holes by using a template layer for restraining a piezoelectric effect. CONSTITUTION: A substrate (110) is prepared. A mask pattern composed of an insulating layer is formed on the substrate. A nitride semiconductor layer is formed. The height of the nitride semiconductor layer is same as the height of the mask pattern. A template layer (120) is formed. A semiconductor device structure is formed on the template layer. [Reference numerals] (110) Substrate; (120) Template layer; (130) LED layer
Abstract translation: 目的：提供一种在无BSFS的氮化物半导体上制造高质量半导体器件的方法，通过使用用于抑制压电效应的模板层来改善电子和空穴的复合。 构成：准备衬底（110）。 在基板上形成由绝缘层构成的掩模图案。 形成氮化物半导体层。 氮化物半导体层的高度与掩模图案的高度相同。 形成模板层（120）。 在模板层上形成半导体器件结构。 （附图标记）（110）基板; （120）模板层; （130）LED层
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公开(公告)号：KR101174331B1
公开(公告)日：2012-08-16
申请号：KR1020100002818
申请日：2010-01-12
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: H01L33/06
Abstract: 본발명은활성층의다중양자우물(MQW: Multi-Quantum Well) 구조에 P형또는 N형의도펀트를선택적으로도핑한배리어층을갖는구조와각 배리어층의상하에도펀트의확산을방지하기위한확산방지층(DBL: Diffusion Blocking Layer)을삽입한구조를반도체광소자에적용하여양자효율을향상시킬수 있는반도체광소자및 그제조방법에관한것이다. 본발명의일면에따른반도체소자의제조방법은, N형화합물반도체층과 P형화합물반도체층 사이에활성층과전자차단층(EBL)을갖는광소자구조를형성하는반도체소자의제조방법으로서, 상기활성층은다중양자우물(MQW)층구조를포함하고, 상기 MQW층을형성하는과정은, 배리어층을형성하는제1과정, 상기배리어층상부에우물층을형성하는제2과정, 및상기우물층상부의배리어층을형성하는제3과정을포함하며, 상기우물층하부의배리어층또는상기우물층상부의배리어층이소정도펀트로도핑된것을특징으로한다.
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公开(公告)号：KR1020130067525A
公开(公告)日：2013-06-25
申请号：KR1020110134141
申请日：2011-12-14
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/6838
Abstract: PURPOSE: A tweezer device for a wafer is provided to form a uniform pattern by using a tweezer body, a rotation part, and a vibration part. CONSTITUTION: A tweezer body(100) mounts a wafer on a first surface. A handle part(150) is arranged on the central axis of a second surface of the tweezer body. A rotation part(120) is arranged in the handle part. The rotation part rotates the tweezer body. A control part controls the rotation part.
Abstract translation: 目的：提供一种用于晶片的镊子装置，通过使用镊子本体，旋转部件和振动部件来形成均匀的图案。 构成：镊子主体（100）将晶片安装在第一表面上。 手柄部件（150）布置在镊子主体的第二表面的中心轴线上。 旋转部（120）布置在手柄部分中。 旋转部旋转镊子体。 控制部分控制旋转部分。
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公开(公告)号：KR1020140134809A
公开(公告)日：2014-11-25
申请号：KR1020130054465
申请日：2013-05-14
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
Abstract: 본 발명은 사파이어 등의 기판 위에 형성되는 질화물 반도체층 사이에 양자섬(Quantum Island)을 삽입한 후 저 결함밀도를 갖는 질화물 반도체층이 재성장되도록 한 템플레이트층을 이용하여, 내부양자효율이 향상된 고품질 반도체 소자가 제조될 수 있는, 고품질 반도체 소자용 기판의 제조 방법에 관한 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及制造高质量半导体衬底的方法。 具有提高的内部量子效率的高质量半导体衬底可以通过在将量子岛插入形成在诸如蓝宝石的衬底上的氮化物半导体层之后使用用于再生长具有低缺陷密度的氮化物半导体层的模板层来制造 。
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公开(公告)号：KR101402785B1
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：KR1020110145408
申请日：2011-12-29
Applicant: 한국산업기술대학교산학협력단
IPC: H01L21/20
Abstract: 본 발명은 질화물 반도체층에서 발생하는 면 적층 결함(BSFs)이 없도록 하기 위하여 반극성 질화물 반도체층 성장이 가능한 사파이어 결정면 위에 반극성 질화물 반도체 결정을 형성하되, 산화막, 질화막 등 절연막 마스크를 일정 두께 이상 형성 후 그 사이의 윈도우를 통해 질화물 반도체 결정을 성장시켜 절연막 마스크에 의한 적층 결함(BSFs)의 측면 성장을 블로킹함으로써, 절연막 마스크 패턴 위로는 저 결함밀도를 갖는 질화물 반도체층이 이루어지도록 하고, 그 위에 내부양자효율과 광추출 효율을 향상시킨 고품질 반도체 소자를 제조할 수 있는 방법에 관한 것이다.
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