공정가스 분석장치
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:KR101735300B1

    公开(公告)日:2017-05-16

    申请号:KR1020150154988

    申请日:2015-11-05

    CPC classification number: G01L19/00 G01N1/22 G01N21/03 G01N21/05 G01N21/25

    Abstract: 본발명에따른공정가스분석장치(100)는, 공정가스가수집되도록설치되는가스셀(130); 가스셀(130) 내에광을조사하도록가스셀(130)의외부에설치되는광원부(110); 광원부(110)를통하여가스셀(130) 내에조사되는광을가스셀(130) 내에다중반사시킨후 가스셀(130) 외부로인출하도록설치되는다반사광학부(140); 및다반사광학부(140)에의해다중반사된후 가스셀(130) 외부로인출되는광을수광받도록가스셀(130)의외부에설치되는광검출부(120); 를포함하여이루어지는것을특징으로한다. 본발명에의하면, 다반사광학부(140)에의해광경로가충분히확보될수 있기때문에소량의공정가스에대해서도정밀한정량및 정성분석이가능하다. 또한, 광원부(110)와광검출부(120)가가스셀(130)의외부에분해조립가능하게설치되기때문에원하는광분석기법에맞게해당광원부(110)와광검출부(120)를적절한것으로교체할수 있어다양한분석기법을활용할수 있다.

    KR102235245B1 - Light Irradiation Apparatus for Particle Monitoring, and Particle Measuring Apparatus using the Same

    公开(公告)号:KR102235245B1

    公开(公告)日:2021-04-05

    申请号:KR1020190126813A

    申请日:2019-10-14

    CPC classification number: G01N15/0211 G01N21/01 G01N21/85 G01N2021/8592

    Abstract: 본 발명에 따른 오염 입자 측정용 광 조사 장치는 챔버 내의 오염 입자 측정을 위하여 챔버의 내부 공간으로 레이저 광을 조사하는 장치로서, 레이저 광을 생성하여 조사하는 광 조사부, 조사되는 레이저 광의 경로를 챔버를 향하도록 바꾸어주는 반사 거울, 반사 거울에서 반사된 레이저 광을 챔버 내의 일정 위치로 집속하는 포커스 렌즈, 광 조사부를 일정 범위 내에서 직선 이동시키는 액추에이터부를 포함하여 이루어진다. 광 조사부가 일정 범위만큼 직선 이동하기 때문에 결국 챔버 내에서 광이 집속되는 부분이 하나의 특정 지점이 아니라 일정한 영역 범위로 확장된다. 이에 따라, 확장된 영역 범위에 존재하는 오염 입자들을 측정할 수 있게 되어 더욱 정확한 오염 입자 측정이 가능하며, 챔버 내에 광이 집속되도록 미리 설정된 반사 거울과 포커스 렌즈 등의 광학계를 새로 설정할 필요가 없어 적은 비용으로 편리하게 구현할 수 있다.

    KR102227433B1 - Apparatus and Method for High-Accuracy Optical Particle Measuring using Laser Power Scanning

    公开(公告)号:KR102227433B1

    公开(公告)日:2021-03-15

    申请号:KR1020200158562A

    申请日:2020-11-24

    Inventor: 문지훈 강상우

    CPC classification number: G01N15/0205 G01N21/39 G01N2015/0096 G01N2015/0222

    Abstract: 본 발명은 입자 측정 장치 및 입자 측정 방법에 관한 것으로서, 여러 파워의 레이저를 순서대로 조사하는 레이저 파워 스캐닝을 이용하여, 높은 정확도로 크기 범위별 입자 개수를 측정할 수 있다. 먼저, 복수 개의 서로 다른 입자 크기에 각각 대응하여, 해당 크기 이상의 입자를 측정할 수 있는 최소 파워의 레이저를 입자측정공간에 일정 시간 동안 조사하고, 산란된 광을 검출하여 입자의 크기별 개수를 측정한다. 그리고, 측정된 실측값을 이용하여, 각 크기 범위에 속한 입자의 개수를 알고리즘을 이용하여 정확하게 산출한다. 이때, 측정되는 입자 개수와 레이저 파워에 관한 비례관계를 이용할 수 있다. 플로우 노즐이나 플랫-탑 광학계 등 추가적 부품을 사용하지 않으므로, 입자 측정 장치의 개발 비용을 절감할 수 있으며, 상압(대기압)이나 진공 환경에 상관없이 사용 가능하다. 또한, 기존 장치에 대한 알고리즘 업그레이드를 통해서도 정확도를 개선할 수 있다.

    공정가스 분석장치
    4.
    发明申请
    공정가스 분석장치 审中-公开
    过程气体分析仪

    公开(公告)号:WO2017078504A2

    公开(公告)日:2017-05-11

    申请号:PCT/KR2016/012756

    申请日:2016-11-07

    CPC classification number: G01L19/00 G01N1/22 G01N21/03 G01N21/05 G01N21/25

    Abstract: 본 발명에 따른 공정가스 분석장치(100)는, 공정가스가 수집되도록 설치되는 가스셀(130); 가스셀(130) 내에 광을 조사하도록 가스셀(130)의 외부에 설치되는 광원부(110); 광원부(110)를 통하여 가스셀(130) 내에 조사되는 광을 가스셀(130) 내에 다중 반사시킨 후 가스셀(130) 외부로 인출하도록 설치되는 다반사 광학부(140); 및 다반사 광학부(140)에 의해 다중 반사된 후 가스셀(130) 외부로 인출되는 광을 수광받도록 가스셀(130)의 외부에 설치되는 광검출부(120); 를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 다반사 광학부(140)에 의해 광경로가 충분히 확보될 수 있기 때문에 소량의 공정가스에 대해서도 정밀한 정량 및 정성 분석이 가능하다. 또한, 광원부(110)와 광검출부(120)가 가스셀(130)의 외부에 분해조립 가능하게 설치되기 때문에 원하는 광분석 기법에 맞게 해당 광원부(110)와 광검출부(120)를 적절한 것으로 교체할 수 있어 다양한 분석기법을 활용할 수 있다.

    Abstract translation: 根据本发明的过程气体分析仪100包括:安装用于收集过程气体的气室130; 光源110,其安装在气室130的外部以照射气室130内的光; 多反射光学单元140,其被安装以便多次反射通过气室130中的光源单元110照射到气室130中的光并将气体吸入气室130外部; 光电探测器120,其安装在气室130的外部,以便在由多反射光学单元140多次反射之后接收发射到气室130的外部的光; 和一个控制单元。 根据本发明,因为可以通过多响应光学单元140充分确保光路,所以即使使用少量工艺气体也可以进行精确的定量和定性分析。 由于光源单元110和光检测单元120在气室130的外部被拆卸和组装,光源单元110和光学检测单元120可以根据期望的光学分析技术用适当的替换 您可以使用各种分析技术。

    레이저 파워 스캐닝을 이용한 고정확 광학식 입자 측정 장치 및 입자 측정 방법

    公开(公告)号:WO2022114452A1

    公开(公告)日:2022-06-02

    申请号:PCT/KR2021/010552

    申请日:2021-08-10

    Inventor: 문지훈 강상우

    Abstract: 본 발명은 입자 측정 장치 및 입자 측정 방법에 관한 것으로서, 여러 파워의 레이저를 순서대로 조사하는 레이저 파워 스캐닝을 이용하여, 높은 정확도로 크기 범위별 입자 개수를 측정할 수 있다. 먼저, 복수 개의 서로 다른 입자 크기에 각각 대응하여, 해당 크기 이상의 입자를 측정할 수 있는 최소 파워의 레이저를 입자측정공간에 일정 시간 동안 조사하고, 산란된 광을 검출하여 입자의 크기별 개수를 측정한다. 그리고, 측정된 실측값을 이용하여, 각 크기 범위에 속한 입자의 개수를 알고리즘을 이용하여 정확하게 산출한다. 이때, 측정되는 입자 개수와 레이저 파워에 관한 비례관계를 이용할 수 있다. 플로우 노즐이나 플랫-탑 광학계 등 추가적 부품을 사용하지 않으므로, 입자 측정 장치의 개발 비용을 절감할 수 있으며, 상압(대기압)이나 진공 환경에 상관없이 사용 가능하다. 또한, 기존 장치에 대한 알고리즘 업그레이드를 통해서도 정확도를 개선할 수 있다.

    확장된 검사 영역을 갖는 웨이퍼 센서, 및 이를 이용한 건식 공정 장치

    公开(公告)号:WO2019240372A1

    公开(公告)日:2019-12-19

    申请号:PCT/KR2019/004934

    申请日:2019-04-24

    Abstract: 본 발명에 따른 확장된 검사 영역을 갖는 웨이퍼 센서는, 지지 부재에 그 둘레를 따라 원형을 이루도록 부착되는 복수 개의 확장 패드를 포함하여 이루어지며, 각 확장 패드는 웨이퍼 조각으로서 지지 부재에 부착되어 적어도 12 인치 기본 직경과 확장 직경 사이에 구비되는 확장 영역을 형성한다. 확장 직경은 공정 챔버 내에 12 인치 웨이퍼가 놓이는 곳의 둘레에 배치되는 에지 링의 외곽까지 이르도록 구성될 수 있다. 12 인치보다 큰 확장 영역에 대하여 모니터링이 가능하므로, 에지 링이 배치된 영역의 온도와 플라즈마 상태 등을 모니터링할 수 있다. 일반적으로 사용되고 있는 12 인치 이하의 웨이퍼를 활용하여 구성될 수 있으므로, 큰 비용을 들이지 않고 저렴하게 구현할 수 있다.

    금속 디스크 어레이를 구비한 적층형 태양전지

    公开(公告)号:WO2018097531A1

    公开(公告)日:2018-05-31

    申请号:PCT/KR2017/012824

    申请日:2017-11-14

    Abstract: 본 발명은 적층형 태양전지 및 그 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 적층형 태양전지는, 기판; 상기 기판 상에 서로 적층되어 배치되고 순차적으로 서로 다른 파장 대역을 가지고 광전 변환을 수행하는 수행하는 복수의 서브 셀들; 및 서로 이웃한 서브 셀들 사이 계면 중에서 적어도 하나에 배치된 금속 디스크 어레이을 포함한다. 상기 서브 셀들에 대응하는 파장 대역들의 중심 파장은 최상위층을 기준으로 점차 하부로 진행함에 따라 순차적으로 감소한다. 상기 금속 디스크 어레이는 상기 금속 디스크 어레이의 상부에 배치된 서브 셀에서 흡수되지 못하고 투과한 광을 반사시킨다. 상기 금속 디스크 어레이는 웨이퍼 본딩 기법에 의하여 삽입된다.

    푸리어 변환 적외선 분광 장치
    8.
    发明申请
    푸리어 변환 적외선 분광 장치 审中-公开
    FOURIER变换红外光谱仪

    公开(公告)号:WO2016002987A1

    公开(公告)日:2016-01-07

    申请号:PCT/KR2014/005941

    申请日:2014-07-03

    Inventor: 이주인 강상우

    CPC classification number: G01S3/28

    Abstract: 본 발명의 푸리어 변환 적외선 분광 장치 및 그 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 푸리어 변환 적외선 분광 장치는 제1 방향으로 광을 출력하는 광대역 광원; 상기 광대역 광원의 출력광을 제공받아, 상기 출력광의 일부를 제1 방향으로 투과시키고, 상기 출력광의 다른 일부를 상기 제1 방향에 수직인 제2 방향으로 반사시키는 빔 분할기; 상기 빔 분할기로부터 상기 제1 방향으로 이격되어 배치되고 상기 투과한 광을 반사시키는 제1 고정 미러; 상기 빔 분할기로부터 상기 제2 방향으로 이격되어 배치되고 상기 반사한 광을 반사시키는 제2 고정 미러; 상기 제1 고정 미러와 상기 빔 분할기 사이에 배치된 제1 실린더리컬 볼록 렌즈; 상기 제1 실린더리컬 볼록 렌즈와 상기 제1 고정 미러 사이에 배치된 제2 실린더리컬 블록 렌즈; 및 간섭 신호를 측정하는 광 검출부를 포함한다. 상기 빔 분할기는 상기 제1 고정 미러에서 반사한 반사광과 상기 제2 고정 미러에서 반사한 광을 결합하여 상기 간섭 신호를 제공하고, 상기 제1 실린더리컬 볼록 렌즈의 초점 위치는 상기 제2 실린더리컬 볼록 렌즈의 초점 위치와 일치하고, 상기 제1 실린더리컬 볼록 렌즈와 상기 제2 실린더리컬 볼록 렌즈는 위치에 의존하는 광 경로(optical path)를 제공한다.

    Abstract translation: 本发明提供傅里叶变换红外光谱仪及其方法。 根据本发明实施例的傅立叶变换红外光谱装置包括:用于沿第一方向输出光的宽带光源; 用于接收来自宽带光源的输出光的分束器,在第一方向上传送一部分输出光,并沿垂直于第一方向的第二方向反射输出光的另一部分; 第一固定镜,布置成在所述第一方向上与所述分束器间隔开以反射所述透射光; 第二固定镜,布置成在所述第二方向上与所述分束器间隔开以反射所述反射光; 布置在第一固定镜和分束器之间的第一圆柱形凸透镜; 布置在所述第一圆柱形凸透镜和所述第一固定镜之间的第二圆柱形凸透镜; 以及用于测量干扰信号的光电检测单元。 分束器将已经被第一固定镜反射的反射光和已被第二固定镜反射的光耦合,从而提供干涉信号。 第一圆柱形凸透镜的焦点位置与第二圆柱形凸透镜的焦点位置重合。 第一圆柱形凸透镜和第二圆柱形凸透镜提供位置相关的光路。

    다층 저항-열전식 온도측정 웨이퍼 센서 및 그 제조 방법

    公开(公告)号:WO2020040381A1

    公开(公告)日:2020-02-27

    申请号:PCT/KR2019/001240

    申请日:2019-01-30

    Abstract: 본 발명에 따른 웨이퍼 센서는 저항식 온도 센서로서 기준온도를 측정하는 복수 개의 기준저항과, 열전식 온도 센서로서 기준저항의 일단으로부터 직렬로 하나 이상 연결되는 열전부를 포함하여 이루어지며, 열전부와 연결배선은 서로 다른 층에 배치된다. 특히, 열전부는 열전쌍(thermocouple)을 형성하는 2 종류의 도선이 서로 교대로 반복하여 100회~1,000회 정도 반복 형성되는 형태로 구성된다. 각 열전부가 연결배선이 형성되는 층과 다른 층에 형성되기 때문에 각 열전부를 배선의 방해를 받지 않고 웨이퍼 센서의 전 면적에 고르게 설치할 수 있다. 특히, 복수 개의 기준저항을 이용하여 기준온도와 열전부의 제백계수에 대한 교정이 이루어짐에 따라 측정되는 온도의 신뢰성을 향상시킬 수 있고, 각 열전부를 통해 측정되는 기전력이 물리적으로 증폭되기 때문에 측정이 더욱 편리해진다. 이에 따라, 웨이퍼의 전 면적에 대한 온도 균일도를 더욱 편리하고 정확하게 파악할 수 있게 된다.

    온도측정 웨이퍼 센서 및 그 제조방법
    10.
    发明申请
    온도측정 웨이퍼 센서 및 그 제조방법 审中-公开
    温度测量晶圆传感器及其制造方法

    公开(公告)号:WO2017200267A1

    公开(公告)日:2017-11-23

    申请号:PCT/KR2017/005058

    申请日:2017-05-16

    CPC classification number: G01N21/95 H01L21/28 H01L21/67 H01L21/768 H01L35/32

    Abstract: 본 발명에 따른 온도측정 웨이퍼 센서는, 웨이퍼 상에 온도측정부가 매립되는 매립홈이 형성되어 있고 온도측정부는 상기 매립홈에 매립되어 있는 것을 특징으로 해서, 온도측정부를 충분히 두껍게 형성할 수 있기 때문에 상기 온도측정부가 벌크 성질을 갖도록 제조할 수 있고, 이를 통해서 고온에서도 안정한 효과를 갖는다. 또한, 본 발명에 의하면, 전극부와 저항부가 서로 다른 층에 형성되기 때문에 저항부의 단위저항과 연결배선을 전극부의 방해를 받지 않고 웨이퍼의 전면적에 설치할 수 있다. 따라서 웨이퍼의 전면적에 대해서 온도 균일도를 세밀하게 파악할 수 있게 된다.

    Abstract translation:

    根据本发明的温度测量晶片传感器,所述埋入沟槽部位温度测定嵌入晶片部分形成,并且温度测量单元,以其特征在于,它被嵌入在嵌入槽,所述温度测量单元 温度测量部件可以具有整体性质,因此温度测量部件即使在高温下也具有稳定的效果。 根据本发明,它是在电极部和不同层的附加的电阻值,而不形成于电极配线也可以在晶片的整个区域内设置不干扰部分的电阻器单元电阻部分的连接。 因此,可以精确地掌握晶圆整个区域的温度均匀性。

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