Abstract:
본 발명의 일 실시예에 따른 전도성 금속박막의 제조방법은 a)금속 코어가 유기산을 포함하는 캡핑층으로 캡핑된 금속나노입자,비수계 유기 바인더 및 비수계 용매를 함유하는 전도성 잉크조성물을 제조하는단계; b)상기 전도성 잉크조성물을 절연성 기판에 도포하여 도포막을 형성하는 단계;및 c)상기 도포막에 비수계 유기 바인더가 잔류하는 광의 강도에서 최대 광 강도 이하로 광을 조사하여 전도성 금속박막을 제조하는 단계;를 포함할 수 있다.
Abstract:
본 발명에 따른 금속 나노입자는 적어도 바이모달 (bimodal) 이상의 크기 분포를 가지며,금속 나노입자의 크기 분포에서,피크의 중심 크기를 기준으로,가장 작은 중심크기를 갖는 제 1피크의 면적을 크기 분포를 이루는 모든 피크의 면적을 합한 총 면적으로 나눈 비가 0.4내지 0.8을 만족하며,유기산을 포함하는 캡핑층으로 캡핑된 금속 나노입자이다.
Abstract:
본 발명은 태양전지 광활성층용 복합입자및 그 제조방법에 관한 것으로, 상세하게,본 발명에 따른 복합입자는 M 1 A X (M은 11족 금속에서 하나 또는 둘 이상 선택된 것이며, A는 칼코젠 원소이며, X 는 1내지 2를 만족하는 실수)을 만족하는 11족 금속 칼코젠화합물이 매질에 혼재된 태양전지 광활성층용 복합입자이다.
Abstract:
The present invention relates to a novel method for synthesizing graphene having excellent properties by using a metal conductive thin film and fine patterns manufactured by metal nanoparticles on which formation of a surface oxide film is suppressed. According to the present invention, graphene having large area and fine nanopatterns can be manufactured.
Abstract:
본 발명은 캡핑된 나노 결정 실리콘의 제조방법에 관한 것으로, 자세하게는 환원제 및 캡핑제를 유기 용매에 투입하고, 실리콘 원료로서 테트라에톡시실란(TEOS) 또는 테트라메톡시실란(TMOS)을 사용함으로써 불순물이 없고, 재분산성이 우수하며, 합성방법이 단순하고, 환경 부담이 적은 캡핑된 나노 결정 실리콘의 제조방법에 관한 것이다.
Abstract:
PURPOSE: A method of manufacturing nano crystalline silicon is provided to manufacture a hydrophilic or hydrophobic silicon particle based on a capping reagent. CONSTITUTION: A method of manufacturing nano crystalline silicon comprises the following steps. A capping reagent chosen from a reduced agent, C5-C20 alcohol, amin, thiol or fatty acid is added to an organic solution. Tetraehoxysilane(TEOS) or tetramethoxysilane(TMOS) are added to the organic solution to manufacture a spraying solution. The manufactured silicon spraying solution is added to a phase separating solution. The mixed solution from the phase separating solution is separated to make a silicon solution.
Abstract:
The present invention relates to a method for manufacturing a fine conductive pattern using metal nano ink for a laser pattern process. Particularly, the present invention relates to the method for forming a fine metal conductive pattern by a fine laser pattern which includes the step of manufacturing the fine metal conductive pattern by a sintering method by laser radiation on an insulation substrate coated with ink compositions for manufacturing a new fine laser pattern.