KR102226767B1 - A manufacturing method of a ReRAM capable of high energy efficiency

    公开(公告)号:KR102226767B1

    公开(公告)日:2021-03-11

    申请号:KR1020190017882A

    申请日:2019-02-15

    CPC classification number: H01L45/1608 H01L45/1253 H01L45/145 H01L45/1675

    Abstract: 본 발명은 에너지 고 효율이 가능한 ReRAM의 제조 방법을 공개한다. 이 방법은 기판 상에 증착된 하부 전극층의 상부에 가변 저항막이 증착되는 단계; 및 상기 가변 저항막 상부에 상부 전극층이 증착되는 단계; 를 포함하고, 상기 상부 전극층과 상기 가변 저항막의 인터페이스 근처에서 산소 부족 층이 형성되어, 고 저항 상태를 수반하지 않고 복수개의 저 저항 상태 사이에서 저항이 전환됨에 따라 ReRAM 동작 중 소거 동작이 제거되는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의할 경우, 종래의 반복적인 증분 단계 펄스 프로그래밍 / 오류 검사 및 교정 알고리즘이 멀티비트 저항 스위칭 동작 동안 시간 소모적인 문제점을 극복하고, 높은 신뢰성과 에너지 고 효율적인 저항 스위칭 동작을 달성할 수 있는 에너지 고 효율적인 멀티비트 저항 스위칭 동작이 가능하게 된다.

    KR102226791B1 - A resistive switching memory which eliminates erase operations

    公开(公告)号:KR102226791B1

    公开(公告)日:2021-03-11

    申请号:KR1020190013114A

    申请日:2019-01-31

    CPC classification number: H01L45/1253 H01L45/1233 H01L45/145

    Abstract: 본 발명은 소거 동작을 제거한 저항 스위칭 메모리를 공개한다. 이 장치는 하부 전극층, 가변 저항막 및 상부 전극층의 적층을 포함하는 저항 스위칭 메모리에 있어서, 멀티 비트 동작 구간 동안 상기 상부 전극층과 상기 가변 저항막의 인터페이스 근처에서 산소 부족 층이 형성되어 저항 스위칭 메모리 동작 중 소거 동작이 제거되는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의할 경우, 상부 전극층이 부분적으로 산화되어, 저항 스위칭 메모리에서 요구되는 저항 스위칭 성능을 수행하기 위하여 필요한 양호한 산소 저장소 및 적절한 부하 저항 기능을 할 수 있게 된다.

    박리 기법을 이용한 그래핀 패턴 형성 방법 및 그 장치

    公开(公告)号:WO2012157894A3

    公开(公告)日:2012-11-22

    申请号:PCT/KR2012/003687

    申请日:2012-05-10

    Abstract: 본 발명은 고분자 스템프를 이용하는 박리 기법을 이용하여 목표로 하는 임의의 패턴을 갖는 그래핀 패턴을 형성하는데 적합한 박리 기법을 이용한 그래핀 패턴 형성 기법에 관한 것이다. 본 발명은 고분자 스템프를 이용하여 기판 상에 형성된 그래핀층의 일부를 물리적으로 선택 박리시킴으로써, 기판 상에 균일한 선폭을 갖는 원하는 형태의 그래핀 패턴을 간단하고 손쉽게 제작할 수 있으며, 또한 회전체 스템프를 이용하는 롤투롤 방식 또는 대면적 스템프를 이용하는 방식으로 기판 상에 형성된 그래핀층의 일부를 물리적으로 선택 박리시킴으로써, 대면적의 기판 상에 균일한 선폭을 갖는 원하는 형태의 그래핀 패턴을 간단하고 손쉽게 제작할 수 있다.

    단원자 증착법을 이용한 복합 및 비대칭적인 복합박막 및 이의 제조방법
    9.
    发明申请
    단원자 증착법을 이용한 복합 및 비대칭적인 복합박막 및 이의 제조방법 审中-公开
    复合和不对称复合薄膜及其使用原子沉积法制备其的方法

    公开(公告)号:WO2015060636A1

    公开(公告)日:2015-04-30

    申请号:PCT/KR2014/009938

    申请日:2014-10-22

    CPC classification number: C23C16/40 C23C16/45525

    Abstract: 본 발명은 단원자 증착(atomic layer deposition, ALD)법을 이용하여, 도핑영역층과 비도핑영역층을 구비하여 두께 방향으로 성분상에 있어서 복합 및 비대칭적인 복합박막 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 복합박막은 박막 일부에 도판트 원자층을 포함하는 도핑영역층을 구비함으로써, 박막 두께 방향으로 성분상에 있어서 복합 및 비대칭적 특성을 갖게 되고, 이는 도핑영역층과 비도핑영역층간의 밴드 구조가 달라지게 됨으로써 박막의 층 영역별로 전자기적 특성이 달라지게 되고, 기능성이 향상되어 디스플레이, 메모리, 반도체 영역 전반에 걸쳐서 사용될 수 있다.

    Abstract translation: 本发明涉及一种复合薄膜,其通过原子层沉积(ALD)设置有掺杂区域层和非掺杂区域层,因此在厚度方向上的分量方面是复杂的和不对称的,并且 一种制备方法。 根据本发明的复合薄膜在薄膜的一个区域上具有包括掺杂剂原子层的掺杂区域层,从而在薄膜的厚度方向上的成分方面具有复杂且不对称的性质, 并且允许掺杂区域层和非掺杂区域层具有不同的带结构,从而对薄膜的每个层区域具有不同的电磁特性。 因此,复合薄膜具有改进的功能,可用于显示器,存储器和半导体的所有领域。

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