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公开(公告)号：CN114556228B
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202080072957.0
申请日：2020-09-03
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文中描述了一种训练模型的方法，该模型被配置为预测与成像衬底相关联的特征在成像衬底的蚀刻之后是否将有缺陷，并且基于已训练模型确定蚀刻条件。该方法包括经由量测工具获取(i)在给定位置处的成像衬底的显影后图像，显影后图像包括多个特征，以及(ii)在给定位置处的成像衬底的蚀刻后图像；以及使用显影后图像和蚀刻后图像训练模型，该模型被配置为确定显影后图像中的多个特征中的给定特征的缺陷。在一个实施例中，缺陷的确定基于将显影后图像中的给定特征与蚀刻后图像中的对应蚀刻特征进行比较。
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公开(公告)号：CN118235159A
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202280075138.0
申请日：2022-10-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 用于图像分析的系统和方法包括：获取均与受检样品相关联的多个模拟图像和多个非模拟图像，多个模拟图像中的至少一个模拟图像是样品上未被多个非模拟图像中的任一个非模拟图像成像的位置的模拟图像；以及使用多个模拟图像和多个非模拟图像作为输入来训练无监督域自适应技术，以减小多个模拟图像的第一强度梯度与多个非模拟图像的第二强度梯度之间的差异。
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公开(公告)号：CN111226172B
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN201880067247.1
申请日：2018-10-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 一种声学散射仪(502)具有声学源(520)，其可操作以将声学辐射(526)投影到形成在衬底(536)上的周期性结构(538)和(540)上。声学检测器(518)可操作以检测由周期性结构(538)和(540)衍射的负第一声学衍射阶(528)，同时区别于镜面反射(第0阶532)。另一声学检测器(522)可操作以检测由周期性结构衍射的正第一声学衍射阶(530)，同时再次区别于镜面反射(第0阶532)。声学源和声学检测器可以是压电换能器。相对于周期性结构(538)和(540)布置投影声学辐射(526)的入射角和检测器(518)和(522)的位置，使得对负第一声学衍射阶(528)和正第一声学衍射阶(530)的检测区别于第0阶镜面反射(532)。
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公开(公告)号：CN105765463B
公开(公告)日：2018-06-22
申请号：CN201480064504.8
申请日：2014-11-04
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G01B11/02 , G03F7/705 , G03F7/70625 , G03F7/70633
Abstract: 在散射测量中，在迭代过程中使用包括正则化参数的评价函数来寻找用于测量的目标的散射性质的值。针对每个测量目标并且在迭代过程的每次迭代中获得正则化参数的最优值。可以使用多种方法来寻找正则化参数的值，方法包括偏差原理、卡方分布方法以及包括评价函数的偏差原理和包括评价函数的卡方分布方法的创新性修改。
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公开(公告)号：CN119384635A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202380047174.0
申请日：2023-07-14
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·G·M·M·范克莱杰 , S·A·米德尔布鲁克 , M·皮萨伦科 , A·奥诺塞 , R·E·布恩 , 卢彦文
Abstract: 描述了一种确定掩模设计的方法。该方法包括在至少一部分潜在空间中生成目标设计的概率分布的连续多模态表示。潜在空间包括可用于基于目标设计生成掩模设计的特征变量的分布。该方法包括从潜在空间中的连续多模态表示中选择变量。变量包括用于确定掩模设计的一个或多个特征的潜在空间表示。该方法包括基于目标设计和变量确定掩模设计。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118859641A
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202410901688.4
申请日：2020-09-03
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本申请的主题为“用于基于显影后图像确定图案缺陷的方法”。本文中描述了一种训练模型的方法，该模型被配置为预测与成像衬底相关联的特征在成像衬底的蚀刻之后是否将有缺陷，并且基于已训练模型确定蚀刻条件。该方法包括经由量测工具获取(i)在给定位置处的成像衬底的显影后图像，显影后图像包括多个特征，以及(ii)在给定位置处的成像衬底的蚀刻后图像；以及使用显影后图像和蚀刻后图像训练模型，该模型被配置为确定显影后图像中的多个特征中的给定特征的缺陷。在一个实施例中，缺陷的确定基于将显影后图像中的给定特征与蚀刻后图像中的对应蚀刻特征进行比较。
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公开(公告)号：CN116685909A
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202180087170.6
申请日：2021-12-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·皮萨伦科 , C·巴蒂斯塔基斯 , S·A·米德尔布鲁克
Abstract: 一种用于训练机器学习模型的方法包括获取与衬底相关联的一组未配对的显影后(AD)图像和蚀刻后(AE)图像。该组中的每个AD图像是在衬底上与获取任何AE图像的位置不同的位置获取的。该方法还包括基于AD图像和AE图像来训练机器学习模型，以生成预测AE图像，其中预测AE图像对应于获取AD图像中的输入AD图像的位置。
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公开(公告)号：CN116615750A
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202180084294.9
申请日：2021-11-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G06T7/593
Abstract: 本文中描述了用于确定图案化衬底的结构的三维(3D)信息的系统、方法和装置。3D信息可以使用一个或多个模型来确定，该模型被配置为仅使用图案化衬底的单个图像来生成3D信息(例如，深度信息)。在一种方法中，该模型通过获取图案化衬底的结构的一对立体图像来训练。该模型使用该一对立体图像中的第一图像作为输入而生成第一图像与第二图像之间的视差数据，该视差数据指示与第一图像相关联的深度信息。视差数据与第二图像组合以生成与第一图像相对应的重构图像。此外，一个或多个模型参数基于视差数据、重构图像和第一图像被调节。
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公开(公告)号：CN119384637A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202380047768.1
申请日：2023-07-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/00
Abstract: 一种训练生成器模型的方法，包括：使用生成器模型基于第一测量数据生成预测数据，其中第一测量数据和预测数据可用于形成样品的图像；将第一测量数据的子集与预测数据的子集配对，该子集对应于可由第一测量数据和预测数据形成的样品图像内的位置；使用鉴别器评估预测数据来自与蚀刻工艺之后从样品测量的第二测量数据相同的数据分布的可能性；并且基于以下内容来训练生成器模型：对应于相同位置的对的相关性相对于对应于不同位置的对的相关性以及由鉴别器评估的可能性，该相关性是配对数据子集之间的相关性。
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公开(公告)号：CN117255972A
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202280033121.9
申请日：2022-04-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： C·巴蒂斯塔基斯 , M·皮萨伦科 , M·G·M·M·范克莱杰 , V·D·鲁蒂格利安尼 , S·A·米德尔布鲁克 , C·A·弗舒伦 , N·盖佩恩
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种确定随机度量的方法，该方法包括：获得经训练的模型，该模型已经被训练为使训练光学量测数据与训练随机度量数据相关，其中训练光学量测数据包括多个测量信号，该多个测量信号与跨从多个训练结构散射的辐射的零阶或更高阶衍射的强度相关参数的分布有关，并且训练随机度量数据包括与所述多个训练结构有关的随机度量值，其中多个训练结构已经被形成为具有所述随机度量所依赖的一个或多个维度的变化；获得光学量测数据，该光学量测数据包括跨越从结构散射的辐射的零阶或较高阶衍射的强度相关参数的分布；以及使用经训练的模型从光学量测数据推断随机度量的值。
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