公开(公告)号：JP2003022967A

公开(公告)日：2003-01-24

申请号：JP2002157048

申请日：2002-05-30

Applicant: Asml Netherlands Bv ,  エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

Inventor： MULDER HEINE MELLE ,  VAN SCHOOT JAN PIECHELMUS B ,  EURLINGS MARKUS FRANCISCUS ANT ,  VAN DIJSSELDONK ANTONIUS JOHAN ,  DIERICHS MARCEL

IPC: G02B5/08 ,  G02B5/10 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70116 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/702

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a projector which is used in a lithographic apparatus, etc., and improved so as to form almost all intensity distributions required for a projection beam. SOLUTION: A lithographic projection apparatus has an emission system (32, 33, and 16). Auxiliary beams of an incident projection beam are reflected in directions which can be controlled individually by a plurality of orienting members (33a-33e). All spatial intensity distributions required for the projection beam can be formed in a cross-sectional plane by a re-orienting optical apparatus (16).

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于光刻设备等的投影仪，并且改进以便形成投影光束所需的几乎所有强度分布。 解决方案：光刻投影设备具有排放系统（32,33和16）。 入射投影光束的辅助光束可以由多个定向部件（33a-33e）分别控制的方向反射。 投影光束所需的所有空间强度分布可以通过重定向光学装置（16）在横截面中形成。

公开(公告)号：WO2004031854A2

公开(公告)日：2004-04-15

申请号：PCT/EP0310605

申请日：2003-09-24

Applicant: ZEISS CARL SMT AG ,  ASML NETHERLANDS BV ,  SINGER WOLFGANG ,  ANTONI MARTIN ,  WANGLER JOHANNES ,  WEISS MARKUS ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  DIERICHS MARCEL ,  MOORS ROEL ,  SCHUSTER KARL-HEINZ

Inventor： SINGER WOLFGANG ,  ANTONI MARTIN ,  WANGLER JOHANNES ,  WEISS MARKUS ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  DIERICHS MARCEL ,  MOORS ROEL ,  SCHUSTER KARL-HEINZ

IPC: G03F7/20 ,  G03F

CPC classification number: G03F7/7085 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70558

Abstract: The invention relates to an illumination system for wavelengths

Abstract translation: 本发明涉及一种用于波长的照明系统<= 193纳米，其中所述照明系统包括一个光源，其提供可用的预定照明在一个平面和a）用第一光栅元件，其特征在于，所述第一光栅元件被布置在支撑元件上和第一光学部件 所述第一光学部件被布置在或在其上提供照明的平面附近。 本发明的特征在于：i）中设置在第一光学元件的至少一个传感器，用于在承载元件上的检测入射光的支撑元件上。 ⅱ）的照明系统的反射镜由传感器信号，使得Beleuctung的位置和强度被保持恒定的评价提供。

公开(公告)号：AU2003277893A8

公开(公告)日：2004-04-23

申请号：AU2003277893

申请日：2003-09-24

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  ZEISS CARL SMT AG

Inventor： SINGER WOLFGANG ,  ANTONI MARTIN ,  WANGLER JOHANNES ,  WEISS MARKUS ,  BANINE VADIM YEVGENYEVICH ,  DIERICHS MARCEL ,  MOORS ROEL ,  SCHUSTER KARL-HEINZ

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：NL2005548A

公开(公告)日：2011-05-23

申请号：NL2005548

申请日：2010-10-19

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： CLAESSENS BERT ,  DIERICHS MARCEL ,  GODFRIED HERMAN

IPC: G02B27/09 ,  G03F7/20

Abstract: A two-stage homogenizer comprising a first homogenizer stage and a second homogenizer stage. The first homogenizer stage includes a pair of microlens arrays and associated focusing optics. The second homogenizer stage includes a second pair of microlens arrays and associated focusing optics. The second homogenizer stage is positioned to receive radiation which is output from the first homogenizer stage.

公开(公告)号：NL2004655A

公开(公告)日：2010-12-13

申请号：NL2004655

申请日：2010-05-04

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： DIERICHS MARCEL ,  EURLINGS MARKUS ,  GREEVENBROEK HENDRIKUS ,  VERWEIJ ANTONIE

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：NL2003204A1

公开(公告)日：2010-02-16

申请号：NL2003204

申请日：2009-07-15

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： ONVLEE JOHANNES ,  DIERICHS MARCEL

IPC: G03F7/20