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    A PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-XGeX MATERIAL IN THE PRESENCE OF A CMP COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND
    1.
    发明申请
    A PROCESS FOR THE MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES COMPRISING THE CHEMICAL MECHANICAL POLISHING OF ELEMENTAL GERMANIUM AND/OR Si1-XGeX MATERIAL IN THE PRESENCE OF A CMP COMPOSITION COMPRISING A SPECIFIC ORGANIC COMPOUND 审中-公开
    在包含特定有机化合物的CMP组合物存在下，制备包含元素锗和/或Si1-XGeX材料的化学机械抛光的半导体器件的制造方法

    公开(公告)号：WO2013018015A3

    公开(公告)日：2013-03-28

    申请号：PCT/IB2012053877

    申请日：2012-07-30

    Applicant: BASF SE ,  NOLLER BASTIAN MARTEN ,  DRESCHER BETTINA ,  GILLOT CHRISTOPHE ,  LI YUZHUO ,  BASF CHINA CO LTD

    Inventor： NOLLER BASTIAN MARTEN ,  DRESCHER BETTINA ,  GILLOT CHRISTOPHE ,  LI YUZHUO

    IPC: C09G1/02

    CPC classification number: H01L21/30625 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  C23F3/00 ,  H01L21/02024 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/3212

    Abstract: A process for the manufacture of semiconductor devices comprising the chemical mechanical polishing of elemental germanium and/or Si1-xGex material with 0.1

    Abstract translation: 在化学机械抛光（CMP）组合物的存在下，包括化学机械抛光元素锗和/或Si1-xGex材料，其中0.1≤x≤1的半导体器件的制造方法，包括：（A）无机颗粒， 有机颗粒或其混合物或复合物，（B）至少一种类型的氧化剂，（C）至少一种类型的有机化合物，其包含至少{k}部分（Z），但不包括阴离子的盐 是无机的，其唯一的有机阳离子是[NR11R12R13R14] +，其中{k}是1,2或3，（Z）是羟基（-OH），烷氧基（-OR1），杂环烷氧基（-OR1， 杂环结构），羧酸（-COOH），羧酸酯（-COOR 2），氨基（-NR 3 R 4），杂环氨基（作为杂环结构的一部分的-NR 3 R 4），亚氨基（= N-R 5或-N = （= N-R5或-N = R6作为杂环结构的一部分），膦酸酯（-P（= O）（OR 7）（OR 8）），磷酸酯（-O-P（= O） ）），膦酸（-P（= 0）（OH）2），磷酸（-O-P（= O）（OH）2）部分，或其质子化或去质子化形式，R 1，R 2，R 7，R 9彼此独立地是烷基，芳基 ，烷基芳基或芳基烷基，R 3，R 4，R 5，R 8，R 10彼此独立地为H，烷基，芳基，烷基芳基或芳基烷基，R 6为亚烷基或芳基亚烷基，R 11，R 12，R 13独立地为 其中，H，烷基，芳基，烷基芳基或芳基烷基，R11，R12，R13不包含任何部分（Z），R 14是烷基，芳基，烷基芳基或芳基烷基，R 14不包含任何部分（Z） 和（D）水性介质。

    Ceroxid und Siliciumdioxid enthaltende Dispersion
    4.
    发明专利
    Ceroxid und Siliciumdioxid enthaltende Dispersion 未知

    公开(公告)号：DE102009027211A1

    公开(公告)日：2010-12-30

    申请号：DE102009027211

    申请日：2009-06-25

    Applicant: BASF SE ,  EVONIK DEGUSSA GMBH

    Inventor： KROELL MICHAEL ,  LORTZ WOLFGANG ,  HEBERER STEFAN ,  BRANDS MARIO ,  LI YUZHUO ,  DRESCHER BETTINA ,  FRANZ DIANA

    IPC: C09G1/02 ,  B24B37/00 ,  C09G1/04 ,  H01L21/3105

    Abstract: Wässrige, Ceroxid und Siliciumdioxid enthaltende Dispersion, erhältlich, indem man eine Ceroxid-Ausgangsdispersion und eine Siliciumdioxid-Ausgangsdispersion zunächst unter Rühren vermischt und nachfolgend bei einer Scherrate von 10000 bis 30000 sdispergiert, wobei a) die Ceroxid-Ausgangsdispersion - als feste Phase 0,5 bis 30 Gew.-% Ceroxidpartikel enthält, - einen d-Wert der Teilchengrößenverteilung von 10 bis 100 nm - und einen pH-Wert von 1 bis 7 aufweist und - b) die Siliciumdioxid-Ausgangsdispersion - als feste Phase 0,1 bis 30 Gew.-% kolloidale Siliciumdioxidpartikel enthält, - einen d-Wert der Teilchengrößenverteilung von 3 bis 50 nm und - einen pH-Wert von 6 bis 11,5 aufweist, d) unter der Maßgabe, dass - der d-Wert der Teilchengrößenverteilung der Ceroxidpartikel größer ist als der der Siliciumdioxidpartikel, - das Gewichtsverhältnis Ceroxid/Siliciumdioxid > 1 ist und - die Menge an Ceroxid-Ausgangsdispersion so bemessen ist, dass das Zetapotential der Dispersion negativ ist.

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