公开(公告)号：ES2498770T3

公开(公告)日：2014-09-25

申请号：ES10788297

申请日：2010-12-02

Applicant: BASF SE

Inventor： HÜFFER STEPHAN ,  WITTELER HELMUT ,  NICOLINI FABIO ,  SUGIHARTO ALBERT BUDIMAN

IPC: C09D5/00

Abstract: Uso de nanopartículas oxídicas con un tamaño de partícula medio de 2 a 2000 nm (a) en combinación con al menos un polímero policatiónico (b) para la protección de superficies metálicas contra la corrosión.

公开(公告)号：MX2012005505A

公开(公告)日：2012-06-14

申请号：MX2012005505

申请日：2010-12-02

Applicant: BASF SE

Inventor： HUEFFER STEPHAN ,  WITTELER HELMUT ,  NICOLINI FABIO ,  SUGIHARTO ALBERT BUDIMAN

IPC: C09D5/00

Abstract: La presente invención se refiere al uso de nanoparticulas oxídicas que tienen un tamaño de partículas promedio que varía de 2 a 2000 nm en combinación con por lo menos un polímero policatiónico como una protección contra corrosión para superficies metálicas, y a un método para proteger la superficie metálicas de corrosión, que comprende los pasos de: i) proveer una formulación que comprende nanopartículas oxídicas (a) y por lo menos un polímero policatiónico (b) y un agente de aplicación, ii) aplicar la formulación de la superficie metálica que será protegida, y iii) secar y/o tratar con calor opcionalmente la superficie.

公开(公告)号：ZA201204853B

公开(公告)日：2013-09-25

申请号：ZA201204853

申请日：2012-06-29

Applicant: BASF SE

Inventor： HUFFER STEPHAN ,  WITTELER HELMUT ,  NICOLINI FABIO ,  SUGIHARTO ALBERT BUDIMAN

IPC: C09D20060101

Abstract: The present invention relates to the use of oxidic nanoparticles having an average particle size of 2 to 2000 nm in combination with at least one polycationic polymer as corrosion protection for metallic surfaces and also to a method of protecting metallic surfaces from corrosion, comprising the steps of: i) providing a formulation comprising oxidic nanoparticles (a) and at least one polycationic polymer (b) and an application medium, ii) applying the formulation to the metallic surface that is to be protected, and iii) optionally drying and/or heat-treating the surface.

公开(公告)号：DE102010040447A1

公开(公告)日：2011-03-31

申请号：DE102010040447

申请日：2010-09-09

Applicant: BASF SE

Inventor： GRAF KATJA ,  SUGIHARTO ALBERT BUDIMAN ,  BARTELS FRANK WILCO ,  KOLTZENBURG SEBASTIAN

IPC: B05D7/24

公开(公告)号：EP2688966A4

公开(公告)日：2014-11-12

申请号：EP12760432

申请日：2012-03-19

Applicant: BASF SE

Inventor： NOLLER BASTIAN ,  LAUTER MICHAEL ,  SUGIHARTO ALBERT BUDIMAN ,  LI YUZHUO ,  RUSHING KENNETH ,  FRANZ DIANA ,  BÖHN ROLAND ,  GAO NING

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/321

CPC classification number: H01L21/3212 ,  C09G1/02 ,  C09G1/04 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625

公开(公告)号：EP2625237A4

公开(公告)日：2014-03-19

申请号：EP11830273

申请日：2011-10-04

Applicant: BASF SE

Inventor： DRESCHER BETTINA ,  NOLLER BASTIAN MARTEN ,  SCHMITT CHRISTINE ,  SUGIHARTO ALBERT BUDIMAN ,  LI YUZHUO

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/306 ,  H01L21/321

CPC classification number: C09K13/04 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  C09K13/06 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/3212

Abstract: A chemical mechanical polishing (CMP) composition Abstract Use of a chemical mechanical polishing (CMP) composition comprising (A) inorganic particles, organic particles, or a mixture thereof, (B) a heteropolyacid or a salt thereof, (C) a salt comprising chloride, fluoride, bromide, or a mixture thereof as anion, and (D) an aqueous medium, for polishing a substrate comprising a self-passivating metal, germanium, nickel phosphorous (NiP), or a mixture thereof.