CARRY-RIPPLE ADDER
    2.
    发明申请
    CARRY-RIPPLE ADDER 审中-公开
    CARRY位加法器

    公开(公告)号:WO2004073171A3

    公开(公告)日:2005-03-10

    申请号:PCT/EP2004000796

    申请日:2004-01-29

    CPC classification number: G06F7/607 G06F7/509 G06F7/5318 G06F2207/3872

    Abstract: The invention relates to a carry ripple adder (10) comprising three first inputs (i0, i1, i2) for supplying three input bits (i0 , i1 , i2 ) which are to be totalled, having the same valence 2 ; two second inputs (ci1, ci2) for supplying two transfer/carry bits (ci1 , ci2 ) which are also to be totalled, having the same valence 2 ; an output (s) for the output of a calculated totalled bit (s_n), having the same valence 2 ; and two outputs (co1, co2) for the output of two calculated transfer/carry bits (co1 , co2 ), having an equal valence 2 1, which is higher than the valence 2 of the totalled bits (s_n).

    Abstract translation: 本发明提供了一个进位加法器(10),包括:三个第一输入(I0,I1,I2)用于供给三输入位求和(I0 ,I1 1,I 2 ) 等于秩2 ; 的两个用于供应也携带-求和/携带比特的两个第二输入(CI1,CI2)(CI1 ,CI2 )的相同意义2 ; 对于相同的秩2的输出计算出的总和比特(S_N)的输出(S); 和两个输出端(CO1,CO2),用于输出两个所计算的进位/携带的比特的相同意义2 1比2的顺序较高(CO1 CO 2 )< N>总和位(S_N)的。

    Anwendungsspezifischer integrierter Halbleiter-Schaltkreis

    公开(公告)号:DE102004014472B4

    公开(公告)日:2012-05-03

    申请号:DE102004014472

    申请日:2004-03-24

    Abstract: Anwendungsspezifischer integrierter Halbleiter-Schaltkreis, mit – einem regelmäßigen Array von Logik-Funktionsblöcken (L), das in einer aktiven Schicht (20, 21) des Halbleiter-Schaltkreises und in wenigstens einer ersten Verdrahtungsschicht (M1) zur teilweisen oder endgültigen Festlegung der Funktion des Logik-Funktionsblockes (L) ausgebildet ist, und – einem mit dem Array von Logik-Funktionsblöcken (L) korrespondierenden regelmäßigen Array von Verdrahtungsfeldern (X, X1, X2), wobei das Array von Verdrahtungsfeldern (X, X1, X2) in wenigstens zwei Verdrahtungsschichten (i, i + 1) mit zueinander nicht parallelen Verdrahtungsleitungen (31–36; 41–46) für das Routing von Signalen zwischen Logik-Funktionsblöcken (L) und einer zwischen den Verdrahtungsschichten liegenden Isolationsschicht (25) ausgebildet ist, und die Verdrahtungsleitungen (31–36; 41–46) in zumindest einer der beiden Verdrahtungsschichten (i, i + 1) als innerhalb eines der Verdrahtungsfelder (X, X1, X2) durchgängige und an zumindest einer ersten Verdrahtungsfeldgrenze (B) unterbrochene Leitungssegmente realisiert sind, wobei – mindestens die untere Verdrahtungsschicht (i) des Verdrahtungsfeldes (X, X1, X2) Verbindungen zu der...

    Latch-basierte Speichervorrichtung

    公开(公告)号:DE102011053359A1

    公开(公告)日:2012-03-08

    申请号:DE102011053359

    申请日:2011-09-07

    Abstract: Eine Latch-basierte Speichervorrichtung 5 umfasst mehrere Latches und ein Verfahren zum Testen der Latch-basierten Speichervorrichtung, das das serielle Verbinden der Latches miteinander umfasst, um eine Schieberegisterkette zu bilden. Eine Bitsequenz wird in die Schieberegisterkette eingegeben, um die Bitsequenz durch die Schieberegisterkette zu schieben. Eine Bitsequenz wird ausgegeben und durch die Schieberegisterkette geschoben und die Eingangsbitsequenz wird mit der Ausgangssequenz verglichen, um die Funktionalität der Latches in einer ersten Testphase auszuwerten und die restlichen Strukturen der Latch-basierten Speichervorrichtung in einer zweiten Testphase unter Verwendung von z. B. einer herkömmlichen Abtasttestmethode zu testen.

    Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises und zugehöriger integrierter Schaltkreis

    公开(公告)号:DE102007001196B4

    公开(公告)日:2012-01-05

    申请号:DE102007001196

    申请日:2007-01-05

    Abstract: Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises, bei welchem – Zellen (1–5) bereitgestellt werden, wobei äußere Begrenzungslinien einer ersten Zelle (5) und einer zweiten Zelle (4) jeweils die Form eines Polygons mit mindestens fünf Eckpunkten aufweisen, und – die Zellen (1–5) zum Erstellen des Layouts des integrierten Schaltkreises in Reihen platziert werden, wobei – die maximalen Ausdehnungen sämtlicher platzierter Zellen (1–5) in einer ersten Richtung (10) gleich sind, – die Reihen entlang einer zur ersten Richtung (10) senkrechten zweiten Richtung (11) ausgerichtet sind, – die erste Zelle (5) eine L-förmige äußere Begrenzungslinie aufweist, – die zweite Zelle (4) eine T-förmige äußere Begrenzungslinie aufweist, und – die erste Zelle (5) und die zweite Zelle (4) derart in derselben Reihe benachbart zueinander angeordnet sind, dass ihre äußeren Begrenzungslinien ineinander eingreifen.

    Identifikationsschaltung und Verfahren zum Erzeugen eines Identifikationsbits

    公开(公告)号:DE102010024622A1

    公开(公告)日:2011-12-22

    申请号:DE102010024622

    申请日:2010-06-22

    Abstract: Halbleiterbaustein aufweisend eine Identifikationsschaltung 100, wobei die Identifikationsschaltung 100 ferner eine Speicherzelle 10, aufweisend einen ersten Transistor mit einem ersten Wert einer Schalt-Charakteristik und einen zweiten Transistor mit einem zweiten Wert der Schalt-Charakteristik, wobei die Speicherzelle 10 derart ausgebildet ist, dass ein speicherzellenindividuelles Identifikationsbit in Abhängigkeit der fertigungsbedingten Unterschiede der ersten Schalt-Charakteristik des ersten Transistors und der zweiten Schalt-Charakteristik des zweiten Transistor erzeugt werden kann sowie eine Ansteuerschaltung 20, 20' für die Speicherzelle 10, wobei die Ansteuerschaltung 20, 20' eingerichtet ist, um ein oberes Versorgungspotential VDD und ein unteres Versorgungspotential VSS des Halbleiterbausteins unabhängig voneinander mit der Speicherzelle 10 zu verbinden oder zu trennen, aufweist.

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