Sensoranordnung zur Teilchenanalyse und Verfahren zur Teilchenanalyse

    公开(公告)号:DE102017102788A1

    公开(公告)日:2017-08-17

    申请号:DE102017102788

    申请日:2017-02-13

    Abstract: Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Sensoranordnung (100) zur Teilchenanalyse Folgendes umfassen: eine Basiselektrode (102), die dazu ausgelegt ist, ein elektrisches Feld zur Teilchenanziehung zu erzeugen; eine Trägerschicht (104), die über der Basiselektrode (102) angeordnet ist; ein Sensorarray (106), das über der Trägerschicht (104) angeordnet ist und mehrere Sensorelemente (106a, 106b) umfasst oder aus diesen ausgebildet ist, wobei jedes Sensorelement (106a, 106b) der mehreren Sensorelemente (106a, 106b) dazu ausgelegt ist, ein elektrisches Signal als Antwort auf ein Teilchen, das an dem Sensorelement (106a, 106b) adsorbiert wird und/oder sich dem Sensorelement (106a, 106b) nähert, zu erzeugen oder zu modifizieren; und eine elektrische Kontaktstruktur (108) kann mehrere Kontaktleitungen umfassen oder aus diesen ausgebildet sein, wobei jede Kontaktleitung der mehreren Kontaktleitungen mit einem jeweiligen Sensorelement (106a, 106b) der mehreren Sensorelemente (106a, 106b) derartig elektrisch verbunden ist, dass jedes Sensorelement (106a, 106b) der mehreren Sensorelemente (106a, 106b) über die Kontaktstruktur (108) adressierbar ist.

    5.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE10335111B4

    公开(公告)日:2006-12-28

    申请号:DE10335111

    申请日:2003-07-31

    Abstract: A mounting process for a semiconductor component comprises applying solder to the component (3) or mount (11,12), bringing the two parts together and heating at least one part of the component above the solder melting point by applying electrical power to the component to bond the parts and then cooling.

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